Claims (36)
각각이 다중 반복 프로그래밍 기술에 의하여 아날로그 값을 저장하기 위하여 프로그래밍 가능하고, 그 프로그래밍은 증가하는 크기를 가진 성긴 프로그래밍 펄스열에 의해서 이룩되고, 그 성긴 프로그래밍 펄스열은 각각의 저장셀이 소망하는 성긴 프로그래밍 레벨에 도달할 때 각각의 저장셀에 관하여 종료되고, 후속하여 증가하는 크기를 가진 세밀 프로그래밍 펄스열이 계속되고, 그 세밀 프로그래밍펄스열은 각각의 저장셀에 대하여 최근의 성긴 프로그래밍 펄스를 기준으로 하고 각각의 저장셀이 소망하는 세밀프로그래밍 레벨에 도달할때 각각의 저장셀에 관하여 종료되는 복수의 플로팅게이트 아날로그 저장셀을 포함하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스에 있어서, 각각의 저장셀에 대하여 제1세밀 프로그래밍 사이클을 위한 프로그래밍 펄스전압을 최근의 성긴 프로그래밍 사이클의 성긴 프로그래밍 펄스 전압과 비교하여 제어가능하게 감소시키는 제어수단; 각각의 세밀펄스 사이의 전압증가분을 제어하는 수단; 각각의 세밀 펄스폭을 제어하는 수단; 세밀 펄스수를 제어하는 수단; 각각의 성긴 펄스 사이의 전압증가분을 제어하는 수단; 각각의 성긴 펄스폭을 제어하는 수단; 성긴 펄스수를 제어하는 수단; 더 이상의 성긴펄스를 중지시키고 최근의 성긴 레벨을 후속하는 세밀 사이클을 위한 기준으로서 유지시키는 옵셋 전압을 제어하는 수단으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플로텅게이트 아날로그 저장 디바이스.Each is programmable to store analog values by multiple iterative programming techniques, the programming being accomplished by sparse programming pulse trains of increasing magnitude, the sparse programming pulse trains being coupled to the sparse programming level desired by each storage cell. When it reaches, it is terminated for each storage cell, followed by a sequence of fine programming pulses of increasing magnitude, which are based on the latest sparse programming pulse for each storage cell and each storage cell. A floating gate analog storage device comprising a plurality of floating gate analog storage cells that terminate with respect to each storage cell upon reaching this desired level of fine programming, comprising: programming for a first fine programming cycle for each storage cell; Control means for controllably reducing the pulse voltage compared to the sparse programming pulse voltage of a recent sparse programming cycle; Means for controlling the voltage increase between each fine pulse; Means for controlling each fine pulse width; Means for controlling the fine pulse number; Means for controlling the voltage increase between each sparse pulse; Means for controlling each sparse pulse width; Means for controlling the sparse pulse number; And means for controlling the offset voltage to stop further sparse pulses and maintain the last sparse level as a reference for subsequent fine cycles.
각각이 다중의 반복 프로그래밍 기술에 의하여 아날로그 값을 저장하기 위하여 프로그래밍 가능하고, 그 프로그래밍은 증가하는 크기를 가진 성긴 프로그래밍 펄스열에 의해서 이룩되고, 그 성긴 프로그래밍 펄스열은 각각의 저장셀이 소망하는 성긴 프로그래밍 레벨에 도달할 때 각각의 저장셀에 관하여 종료되고, 후속하여 증가하는 크기를 가진 세밀 프로그래밍 펄스열이 계속되는 복수의 플로팅게이트 아날로그 저장셀을 포함하고, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 위한 회로를 가지는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.Each is programmable to store analog values by multiple iterative programming techniques, the programming being accomplished by sparse programming pulse trains of increasing magnitude, the sparse programming pulse trains being sparse programming levels desired by each storage cell. A plurality of floating gate analog storage cells that terminate with respect to each storage cell when it reaches and are subsequently followed by a fine programming pulse train of increasing magnitude, and wherein the voltage increase from programming pulses to pulses after the integrated circuit fabrication process A floating gate analog storage device having a circuit for setting.
제2항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 각각의 펄스폭을 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.3. The floating gate analog storage device of claim 2, further comprising circuitry for setting respective pulse widths after an integrated circuit fabrication process.
제2항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열내의 펄스폭을 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.3. The floating gate analog storage device of claim 2, further comprising circuitry for setting a pulse width in a programming pulse train after an integrated circuit fabrication process.
제2항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 각각의 펄스폭을 세팅하고 프로그래밍 펄스열내의 펄스수를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.3. The floating gate analog storage device of claim 2, further comprising circuitry for setting each pulse width after the integrated circuit fabrication process and for setting the number of pulses in the programming pulse train.
각각이 다중 반복 프로그래밍 기술에 의하여 아날로그 값을 저장하기 위하여 프로그래밍 가능하고, 그 프로그래밍은 증가하는 크기를 가진 성긴 프로그래밍 펄스열에 의해서 이룩되고, 그 성긴 프로그래밍 펄스열은 각각의 저장셀이 소망하는 성긴 프로그래밍 레벨에 도달할 때 각각의 저장셀에 관하여 종료되고, 후속하여 증가하는 크기를 가진 세밀 프로그래밍 펄스열이 계속되고, 그 세밀 프로그래밍 펄스열은 각각의 저장셀에 대하여 최근의 성긴 프로그래밍 펄스를 기준으로 하고 각각의 저장셀이 소망하는 세밀프로그래밍 레벨에 도달할 때 각각의 저장셀에 관하여 종료되는 복수의 플로팅게이트 아날로그 저장셀을 포함하고, 집적회로 제조공정후에 성긴 프로그래밍 펄스 열로부터 세밀 프로그래밍열로의 단계 강하 전압을 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.Each is programmable to store analog values by multiple iterative programming techniques, the programming being accomplished by sparse programming pulse trains of increasing magnitude, the sparse programming pulse trains being coupled to the sparse programming level desired by each storage cell. On arrival, it terminates with respect to each storage cell, followed by a sequence of fine programming pulses of increasing magnitude, which are based on the latest sparse programming pulse for each storage cell and each storage cell. Setting a step-down voltage from the sparse programming pulse train to the fine programming train after the integrated circuit fabrication process, comprising a plurality of floating gate analog storage cells that terminate for each storage cell when this desired level of fine programming is reached. Circuit The floating gate analog storage device according to claim 1, further comprising.
제6항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 프로그래밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.7. The floating gate analog storage device of claim 6, further comprising circuitry for setting a voltage increment from programming pulse to pulse within one of the programming pulse trains after an integrated circuit fabrication process.
제6항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열내에서 프로그래밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 의한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.7. The floating gate analog storage device of claim 6, further comprising a circuit for setting a voltage increment from programming pulse to pulse in each programming pulse train after the integrated circuit fabrication process.
제6항에 있어서, 직접회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 각각의 펄스폭을 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.7. The floating gate analog storage device of claim 6, further comprising circuitry for setting each pulse width within one of the programming pulse trains after an integrated circuit fabrication process.
제6항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 각각의 펄스폭을 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.7. The floating gate analog storage device of claim 6, further comprising circuitry for setting each pulse width in each programming pulse train after an integrated circuit fabrication process.
제6항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 각각의 펄스수를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.7. The floating gate analog storage device of claim 6, further comprising circuitry for setting each pulse number within one of the programming pulse trains after an integrated circuit fabrication process.
제6항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 각각의 펄스 수를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.7. The floating gate analog storage device of claim 6, further comprising circuitry for setting each pulse number in each programming pulse train after an integrated circuit fabrication process.
제6항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 프로그래밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 위한 회로 및 집적회로 제조공정 후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 각각의 펄스폭을 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.7. The circuit of claim 6, wherein each pulse width is set in one of the programming pulse trains after the integrated circuit fabrication process and in a circuit for setting the voltage increment from programming pulse to pulse in one of the programming pulse trains after the integrated circuit fabrication process. And a circuit for further comprising: a floating gate analog storage device.
제6항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 프로그래밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 위한 회로 및 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 각각의 펄스폭을 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.7. The circuit of claim 6, further comprising: a circuit for setting a voltage increment from a programming pulse to a pulse in each programming pulse train after the integrated circuit fabrication process and a circuit for setting each pulse width in each programming pulse train after the integrated circuit fabrication process. And a floating gate analog storage device further comprising.
제6항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 프로그래밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 위한 회로 및 집적회로 제조공정 후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 각각의 펄스수를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.7. The circuit of claim 6, wherein each pulse number is set in one of the programming pulse trains after the integrated circuit fabrication process and in a circuit for setting a voltage increase from programming pulse to pulse in one of the programming pulse trains after the integrated circuit fabrication process. And a circuit for further comprising: a floating gate analog storage device.
제6항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 프로그래밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 위한 회로 및 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 각각의 펄스수를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.7. The circuit of claim 6, further comprising: a circuit for setting a voltage increment from a programming pulse to a pulse in each programming pulse train after the integrated circuit fabrication process and a circuit for setting each pulse number in each programming pulse train after the integrated circuit fabrication process. And a floating gate analog storage device further comprising.
제6항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열증의 하나내에서 각각의 펄스폭을 세팅하기 위한 회로 및 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 각각의 펄스수를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.7. The circuit of claim 6 further comprising a circuit for setting each pulse width in one of the programming pulse trains after an integrated circuit fabrication process and a circuit for setting each pulse number in one of the programming pulse trains after an integrated circuit fabrication process. And a floating gate analog storage device further comprising.
제6항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 각각의 펄스폭을 세팅하기 위한 회로 및 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 각각의 펄스수를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.7. The method of claim 6, further comprising circuitry for setting each pulse width in each programming pulse train after an integrated circuit fabrication process and circuit for setting each pulse number in each programming pulse train after an integrated circuit fabrication process. Floating gate analog storage device.
제6항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 프로그래밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 위한 회로, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 각각의 펄스수를 세팅하기 위한 회로 및 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 각각의 펄스수를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.7. The circuit of claim 6, further comprising: a circuit for setting a voltage increase from a programming pulse to a pulse in one of the programming pulse sequences after the integrated circuit fabrication process, and setting each pulse number in one of the programming pulse sequences after the integrated circuit fabrication process And a circuit for setting each pulse number in one of the programming pulse trains after the circuit and the integrated circuit fabrication process.
제6항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 프로그래밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 위한 회로, 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 각각의 펄스폭을 세팅하기 위한 회로 및 집적회로 제조공청후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 각각의 펄스수를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이드 아날로그 저장 디바이스.7. The circuit of claim 6, further comprising: a circuit for setting a voltage increase from programming pulse to pulse in each programming pulse train after the integrated circuit fabrication process, a circuit for setting each pulse width in each programming pulse train after the integrated circuit fabrication process; And a circuit for setting each pulse number in each programming pulse train after an integrated circuit manufacturing hearing.
제6항 내지 제20항 중의 어느 하나의 항에 있어서, 더 이상의 성긴 펄스를 중지시키고 최근의 성긴 레벨을 후속하는 세밀 사이클을 위한 기준으로서 유지시키는 옵셋 전압을 제어하는 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.21. The circuit of any of claims 6-20, further comprising circuitry for controlling an offset voltage that stops further sparse pulses and maintains the last sparse level as a reference for subsequent fine cycles. Floating gate analog storage device.
각각이 다중의 반복 프로그래밍 기술에 의하여 아날로그 값을 저장하기 위하여 프로그래밍 가능하고, 그 프로그래밍은 증가하는 크기를 가진 성긴 프로그래밍 펄스열에 의해서 이룩되고, 그 성긴 프로그래밍 펄스열은 각각의 저장셀이 소망하는 성긴 프로그래밍 레벨에 도달할 때 각각의 저장셀에 관하여 종료되고, 후속하여 증가하는 크기를 가진 세밀 프로그래밍 펄스열이 계속되고, 그 세밀 프로그래밍 펄스열은 각각의 저장셀에 대하여 최근의 성긴 프로그래밍 펄스를 기준으로 하고 각각의 저장셀이 소망하는 세밀프로그래밍 레벨에 도달할 때 각각의 저장셀에 관하여 종료되는 복수의 플로팅게이트 아날로그 저장셀을 포함하고, 집적회로 제조공정후에 성긴 프로그래밍 펄스 열로부터 세밀 프로그래밍열로의 단계 강하 전압을 세팅하기 위한 회로 더 이상의 성긴펄스를 중지시키고 최근의 성긴 레벨을 후속하는 세밀 사이클을 위한 기준으로서 유지시키는 옵셋 전압을 제어하는 회로를 더 포함하는 겻을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.Each is programmable to store analog values by multiple iterative programming techniques, the programming being accomplished by sparse programming pulse trains of increasing magnitude, the sparse programming pulse trains being sparse programming levels desired by each storage cell. When is reached, it is terminated for each storage cell, and subsequently the fine programming pulse train with increasing magnitude is continued, the fine programming pulse train being based on the latest sparse programming pulse for each storage cell and storing each. A plurality of floating gate analog storage cells are terminated for each storage cell when the cell reaches a desired level of fine programming, and sets the step drop voltage from the sparse programming pulse train to the fine programming train after the integrated circuit fabrication process. Meeting Analog floating gate storage device, characterized in that the gyeot further comprises a circuit for coarse stop pulse and controls the offset voltage is maintained as a reference for the fine cycle that follows the last level of the more sparse.
제22항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 프로그레밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.23. The floating gate analog storage device of claim 22, further comprising circuitry for setting a voltage increment from a programming pulse to a pulse in one of the programming pulse trains after an integrated circuit fabrication process.
제22항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열내에서 프로그래밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.23. The floating gate analog storage device of claim 22, further comprising circuitry for setting a voltage increment from programming pulse to pulse within each programming pulse train after the integrated circuit fabrication process.
제22항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 각각의 펄스폭을 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.23. The floating gate analog storage device of claim 22, further comprising circuitry for setting each pulse width within one of the programming pulse trains after an integrated circuit fabrication process.
제22항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 각각의 펄스폭을 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.23. The floating gate analog storage device of claim 22, further comprising circuitry for setting each pulse width in each programming pulse train after an integrated circuit fabrication process.
제22항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 각각의 펄스수를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.23. The floating gate analog storage device of claim 22, further comprising circuitry for setting each pulse number within one of the programming pulse trains after an integrated circuit fabrication process.
제22항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 각각의 펄스수를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.23. The floating gate analog storage device of claim 22, further comprising circuitry for setting each pulse number in each programming pulse train after an integrated circuit fabrication process.
제22항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 프로그래밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 위한 회로 및 집적회로 제조공정 후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 각각의 펄스폭을 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.23. The circuit of claim 22, wherein each pulse width is set in one of the programming pulse sequences after the integrated circuit fabrication process and in a circuit for setting a voltage increase from programming pulse to pulse in one of the programming pulse sequences after the integrated circuit fabrication process. And a circuit for further comprising: a floating gate analog storage device.
제22항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 프로그래밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 위한 회로 및 집적회로 제조공징후에 각각의 프로그래밍 펄스업에서 각각의 펄스폭을 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.23. The circuit of claim 22, wherein the circuit for setting the voltage increment from programming pulse to pulse in each programming pulse train after an integrated circuit fabrication process and the circuit for setting each pulse width in each programming pulse up after integrated circuit fabrication process. Floating gate analog storage device further comprises.
제22항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 프로그래밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 위한 회로 및 집적회로 제조공정 후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 각각의 펄스수를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.23. The circuit of claim 22, wherein each pulse number is set in one of the programming pulse sequences after the integrated circuit fabrication process and in a circuit for setting a voltage increase from programming pulse to pulse in one of the programming pulse sequences after the integrated circuit fabrication process. And a circuit for further comprising: a floating gate analog storage device.
제22항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 프로그래밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 위한 회로 및 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래임 펄스열에서 각각의 펄스수를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.23. The circuit of claim 22, wherein the circuit for setting the voltage increment from programming pulse to pulse in each programming pulse train after the integrated circuit fabrication process and for setting each pulse number in each program pulse train after the integrated circuit fabrication process. And a circuit further comprising a circuit.
제22항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 각각의 펄스폭을 세팅하기 위한 회로 및 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 각각의 펄스수를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.23. The circuit of claim 22, further comprising circuitry for setting each pulse width in one of the programming pulse trains after an integrated circuit fabrication process and circuit for setting each pulse number in one of the programming pulse trains after an integrated circuit fabrication process. And a floating gate analog storage device further comprising.
제22항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 각각의 펄스폭을 세팅하기 위한 회로 및 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 각각의 펄스수를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.23. The method of claim 22, further comprising circuitry for setting each pulse width in each programming pulse train after an integrated circuit fabrication process and circuit for setting each pulse number in each programming pulse train after an integrated circuit fabrication process. Floating gate analog storage device.
제22항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 프로그래밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 위한 회로, 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 각각의 펄스수를 세팅하기 위한 회로 및 집적회로 제조공정후에 프로그래밍 펄스열중의 하나내에서 각각의 펄스수를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.23. The circuit of claim 22, further comprising: a circuit for setting a voltage increase from a programming pulse to a pulse in one of the programming pulse sequences after the integrated circuit fabrication process, and setting each pulse number in one of the programming pulse sequences after the integrated circuit fabrication process And a circuit for setting each pulse number in one of the programming pulse trains after the circuit and the integrated circuit fabrication process.
제22항에 있어서, 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 프로그래밍 펄스로부터 펄스로의 전압증가분을 세팅하기 위한 회로, 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 각각의 펄스폭을 세팅하기 위한 회로 및 집적회로 제조공정후에 각각의 프로그래밍 펄스열에서 각각의 펄스를 세팅하기 위한 회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플로팅게이트 아날로그 저장 디바이스.23. The circuit of claim 22, further comprising: a circuit for setting a voltage increment from a programming pulse to a pulse in each programming pulse string after the integrated circuit fabrication process, a circuit for setting each pulse width in each programming pulse string after the integrated circuit fabrication process; And a circuit for setting each pulse in each programming pulse train after the integrated circuit fabrication process.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.