KR970077267A - 반도체 제조용 세정 장치 - Google Patents

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KR970077267A
KR970077267A KR1019960015561A KR19960015561A KR970077267A KR 970077267 A KR970077267 A KR 970077267A KR 1019960015561 A KR1019960015561 A KR 1019960015561A KR 19960015561 A KR19960015561 A KR 19960015561A KR 970077267 A KR970077267 A KR 970077267A
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cleaning
semiconductor manufacturing
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ultraviolet sterilizing
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KR1019960015561A
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남창현
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김광호
삼성전자 주식회사
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  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체 제조용 세정 장치에 관한 것으로, 본 발명에 따른 세정 장치는 세정 설비의 입구에 설치되고, 초순수 제조 시스템에서 배관을 통해 공급되는 초순수를 세정 설비 내로 공급되기 전에 정화시키는 자외선 살균 장치를 포함한다. 본 발명에 의하면, 반도체 세정 공정에 사용되는 순수의 오염도를 효과적으로 낮추어서 반도체 장치 표면의 세정 효과를 향상시킬 수 있고, 전기적 특성이 악화되는 것을 방지할 수 있다.

Description

반도체 제조용 세정 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 반도체 제조용 세정 장치의 구성을 개략적으로 나타낸 도면이다.

Claims (3)

  1. 반도체 장치를 세정하기 위한 세정 설비와, 배관 시설을 통해 상기 세정 설비에 초순수를 공급하는 초순수 제조 시스템을 갖춘 반도체 제조용 세정 장치에 있어서, 상기 세정 설비의 입구에 설치되고, 상기 초순수 제조시스템에서 상기 배관을 통해 공급되는 초순수를 상기 세정 설비 내로 공급되기 전에 정화시키는 자외선 살균장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 세정 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 자외선 살균 장치는 저압 수은 램프 시스템과 음이온 교환 수지 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 세정 장치.
  3. 제1항에 있어서, 또한 상기 자외선 살균 장치의 하류에 설치된 승압 펌프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조용 세정 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960015561A 1996-05-11 1996-05-11 반도체 제조용 세정 장치 KR970077267A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100698525B1 (ko) * 2000-06-16 2007-03-22 삼성전자주식회사 자외선 살균 기능을 갖는 반도체 웨이퍼 소잉 시스템

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100698525B1 (ko) * 2000-06-16 2007-03-22 삼성전자주식회사 자외선 살균 기능을 갖는 반도체 웨이퍼 소잉 시스템

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