KR970067654A - Manufacturing method of optical path control device - Google Patents

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김형중
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Abstract

본 발명은 광로 조절 장치에 관한 것으로서, 트랜지스터가 매트릭스 형태로 내장되고 표면에 각각의 트랜지스터에 전기적으로 연결된 패드를 갖는 구동기판의 상부에 상기 패드가 노출되도록 희생막을 형성하는 공정과, 상기 노출된 구동기판과 패드의 상부에 멤브레인을 형성하는 공정과, 상기 멤브레인의 소정 부분에 상기 패드가 노출시키는 개구를 형성하는 공정과, 상기 개구 내에 플러그를 상기 패드와 전기적으로 연결되도록 형성하는 공정과, 상기 멤브레인의 상부의 소정 부분에 인접하는 액츄에이터들을 전기적으로 분리하는 전극분리영역을 형성하는 공정과, 상기 하부전극의 상부와 상기 전극분리영역에 번형부와 상부전극을 순차적으로 형성하는 공정과, 상기 상부전극으로부터 상기 멤브레인 까지 상기 희생막이 노출되도록 식각하여 액츄에이터를 분리하는 공정과, 상기 상부전극의 표면 및 액츄에이터의 측면에 보호박을 형성하는 공정과, 상기 상부전극의 크랙이 발생된 부분에 형성된 상기 보호막을 제거하여 보강영역을 형성하는 공정과, 상기 보강영역과 보호막의 상부에 상기 상부전극과 동일한 물질을 도포하는 공정과, 상기 희생막과 상기 보호막을 제거하여 보강부를 형성하는 공정을 포함한다. 따라서, 본 발명은 인접하는 액츄에이터들 사이를 전기적으로 분리하기 위해 하부전극을 분리하는 전극분리영역을 한정할 때 상부전극에 크랙이 발생되어 단락되는 것을 방지할 수 있다.The present invention relates to an optical path adjusting apparatus, comprising: a step of forming a sacrificial layer so that the pads are exposed on an upper portion of a driving substrate having pads embedded in a matrix and electrically connected to respective transistors on a surface thereof; Forming a membrane on an upper portion of the substrate and the pad; forming an opening in the predetermined portion of the membrane to expose the pad; forming a plug in the opening so as to be electrically connected to the pad; Forming an electrode isolation region for electrically isolating actuators adjacent to a predetermined portion of the lower electrode and the upper portion of the lower electrode; forming sequentially a light emitting portion and an upper electrode on the upper portion of the lower electrode and the electrode separation region; Lt; RTI ID = 0.0 > to < / RTI > the membrane A step of forming a protective foil on the surface of the upper electrode and a side surface of the actuator, a step of forming a reinforcing region by removing the protective film formed on the crack of the upper electrode, Applying the same material as the upper electrode to the upper surface of the reinforcing area and the protective film, and removing the sacrificial film and the protective film to form a reinforcing part. Therefore, the present invention can prevent a crack from being generated in the upper electrode when the electrode isolation region separating the lower electrode to electrically isolate the adjacent actuators from each other.

Description

광로 조절 장치의 제조방법Manufacturing method of optical path control device

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음Since this is a trivial issue, I did not include the contents of the text.

제3도(A) 내지 (D)는 본 발명에 따른 광로 조절 장치의 제조공정도.FIGS. 3 (A) to 3 (D) are a manufacturing process diagram of an optical path adjusting apparatus according to the present invention;

Claims (15)

트랜지스터가 매트릭스 형태로 내장되고 표면에 각각의 트랜지스터에 전기적으로 연결된 패드(53)를 갖는 구동기판(51)의 상부에 상기 패드가 노출되도록 희생막(55)을 형성하는 공정과, 상기 노출된 구동기판(51)과 패드(53)의 상부에 멤브레인(57)을 형성하는 공정과, 상기 멤브레인(57)의 소정 부분에 상기 패드(53)가 노출시키는 개구(58)를 형성하는 공정과, 상기 개구(58) 내에 플러그(59)를 상기 패드(53)와 전기적으로 연결되도록 형성하는 공정과, 상기 멤브레인(57)의 상부의 소정 부분에 인접하는 액츄에이터들을 전기적으로 분리하는 전극분리영역(62)을 형성하는 공정과, 상기 하부전극(61)의 상부와 상기 전극분리영역(62)에 변형부(63)와 상부전극(65)을 순차적으로 형성하는 공정과, 상기 상부전극(65)로부터 상기 멤브레인(57)까지 상기 희생막(55)이 노출되도록 식각하여 액츄에이터(70)를 분리하는 공정과, 상기 상부전극(65)의 표면 및 액츄에이터(70)의 측면에 보호막(66)을 형성하는 공정과, 상기 상부전극(65)의 크랙이 발생된 부분에 형성된 상기 보호막(66)을 제거하여 보강영역(67)을 형성하는 공정과, 상기 보강영역(67)과 보호막(66)의 상부에 상기 상부전극(65)과 동일한 물질을 도포하는 공정과, 상기 희생막(55)과 상기 보호막(66)을 제거하여 보강부(68)를 형성하는 공정을 포함하는 광로 조절 장치의 제조방법.A step of forming a sacrificial layer 55 such that the pads are exposed on the upper surface of the driving substrate 51 having the pads 53 embedded in the form of transistors and electrically connected to the respective transistors on the surface thereof, A step of forming a membrane 57 on the substrate 51 and the pad 53 and a step of forming an opening 58 for exposing the pad 53 on a predetermined portion of the membrane 57, A step of forming a plug 59 in the opening 58 so as to be electrically connected to the pad 53 and an electrode separation region 62 electrically separating the actuators adjacent to a predetermined portion of the membrane 57, A step of sequentially forming an upper portion of the lower electrode 61 and a deformation portion 63 and an upper electrode 65 in the electrode separation region 62 from the upper electrode 65, The sacrificial film 55 is exposed to the membrane 57 A step of forming a protective film 66 on a surface of the upper electrode 65 and a side surface of the actuator 70 and a step of forming a protective film 66 on the surface of the upper electrode 65, A step of applying the same material as the upper electrode 65 to the upper portion of the reinforcing region 67 and the protective film 66, , And removing the sacrificial layer (55) and the protective layer (66) to form a reinforcing portion (68). 제1항에 있어서, 상기 희생막(55)를 PSG(Phospho-Silicate Glass)로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.The method of claim 1, wherein the sacrificial layer (55) is formed of phosphosilicate glass (PSG). 제2항에 있어서, 상기 희생막(55)을 1-2㎛의 두께로 증착하는 광로 조절 장치의 제조방법.The manufacturing method of an optical path adjusting apparatus according to claim 2, wherein the sacrificial layer (55) is deposited to a thickness of 1 to 2 탆. 제1항에 있어서, 상기 멤브레인(57)을 질화실리콘 또는 탄화실리콘의 규화물로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.The manufacturing method of an optical path adjusting device according to claim 1, wherein the membrane (57) is formed of a silicon nitride or a silicide of silicon carbide. 제4항에 있어서, 상기 멤브레인(57)을 스퍼터링 또는 화하기상침적법으로 1~2㎛의 두께로 증착하는 광로 조절 장치의 제조방법.The manufacturing method of an optical path adjusting device according to claim 4, wherein the membrane (57) is deposited to a thickness of 1 to 2 탆 by sputtering or a sputtering method. 제1항에 있어서, 상기 하부전극(61)을 백금(Pt) 또는 백금/티타늄(Pt-Ti)으로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.The method of claim 1, wherein the lower electrode (61) is formed of platinum (Pt) or platinum / titanium (Pt-Ti). 제6항에 있어서, 상기 하부전극(61)을 스퍼터링 또는 진공증착으로 500~2000Å의 두께로 증착하는 광로 조절 장치의 제조방법.The method of claim 6, wherein the lower electrode (61) is deposited by sputtering or vacuum deposition to a thickness of 500 to 2000 Å. 제1항에 있어서, 상기 변형부(63)를 BaTiO3, PZT(Pb(Zr,Ti)O3) 또는 PLZT((Pb,La)(Zr,Ti)O3)의 압전세라믹으로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.The method of claim 1, wherein the optical path forming the deformed portion 63 to the piezoelectric ceramic of BaTiO 3, PZT (Pb (Zr, Ti) O 3) or PLZT ((Pb, La) (Zr, Ti) O 3) ≪ / RTI > 제1항에 있어서, 상기 변형부(63)를 PMN(Pb(Mg,Nb)O3)의 전왜세라믹으로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.The method according to claim 1, wherein the deformed portion (63) is formed of electrostrictive ceramics of PMN (Pb (Mg, Nb) O 3 ). 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 변형부(63)를 0.7~2㎛의 두께로 광로 조절 장치의 제조방법.10. The method according to claim 8 or 9, wherein the deformed portion (63) has a thickness of 0.7 to 2 mu m. 제10항에 있어서, 상기 변형부(63)를 스퍼터링하여 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.The method according to claim 10, wherein the deforming portion (63) is formed by sputtering. 제10항에 있어서, 상기 변형부(63)를 스핀 코팅 또는 스프레이 코팅하여 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.The method according to claim 10, wherein the deforming portion (63) is formed by spin coating or spray coating. 제1항에 있어서, 상기 상부전극(65)을 전기적 특성 및 반사특성이 양호한 알루미늄(Al) 또는 은(Ag)으로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.The method according to claim 1, wherein the upper electrode (65) is formed of aluminum (Al) or silver (Ag) having good electrical characteristics and reflection characteristics. 제13항에 있어서, 상기 상부전극(65)을 스퍼터링 또는 진공 증착하여 500~2000Å의 두께로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.14. The method of claim 13, wherein the upper electrode (65) is formed by sputtering or vacuum deposition to a thickness of 500 to 2000 angstroms. 제1항에 있어서, 상기 보강부(68)를 리프트-오프법으로 형성하는 광로 조절 장치의 제조방법.The manufacturing method of an optical path adjusting device according to claim 1, wherein the reinforcing portion (68) is formed by a lift-off method. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: It is disclosed by the contents of the first application.
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