KR970063462A - 반도체 lpcvd장비의 콜드트랩 - Google Patents
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- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
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Abstract
가스에서 제거대상 물질을 석출시키는 능력이 향상되면서 세정시 석출된 화합물질의 제거가 쉬운 반도체 LPCVD장비의 콜드트랩에 관한 것이다.
본 발명에 공정챔버와 진공 배기펌프 사이의 폐가스 배출 경로상에 설치되며, 가스입구와 가스출구를 가지는 일정형태의 케이스 내에 냉각라인이 설치된 반도체 LPCVD장비의 콜드트랩에 있어서, 상기 냉각라인이 외부 케이스와 내부 케이스 사이 공간에 위치하도록 케이스와 냉각라인이 형성되는 것을 특징으로 한다.
따라서, LPCVD장비의 공정챔버에서 배출된 폐가스에서 진공펌프로 유입되는 이물질을 능률적으로 제거하고, 세정시 용이하고 신속하게 내부에 쌓인 이물질을 제거하는 효과를 얻을 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 본 발명의 일 실시예에 따른 LPCVD장비 콜드트랩의 외관을 나타내는 측면도이다.
Claims (3)
- 공정챔버와 진공 배기퍼므 사이의 폐가스 배출 경로상에 설치되며, 가스입구와 가스출구를 가지는 일정형태의 케이스 내에 냉각라인이 설치된 반도체 LPCVD장비의 콜드트랩에 있어서, 상기 냉각라인이 외부 케이스와 내부 케이스 사이 공간에 위치하도록 케이스와 냉각라인이 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 LPCVD장비의 콜드트랩.
- 제1항에 있어서, 상기 가스출구가 수평으로 형성된 상기 가스입구와 일정각도를 이루며 위로 향하도록 설치된 것을 특징으로 하는 상기 반도체 LPCVD장비의 콜드트랩.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 냉각라인이 상기 외부 케이스 및 상기 내부 케이스와 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 LPCVD장비의 콜드트랩.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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ID=19452282
Family Applications (1)
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KR100653828B1 (ko) * | 1999-02-26 | 2006-12-04 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 트랩장치 |
Families Citing this family (2)
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KR20020086978A (ko) * | 2001-05-12 | 2002-11-21 | 삼성전자 주식회사 | 배기가스 냉각용 쿨링트랩 및 이를 구비한 반도체소자제조설비의 배기장치 |
KR101135519B1 (ko) * | 2009-09-25 | 2012-04-09 | 주식회사 선익시스템 | 증발챔버의 진공펌프 보호장치 |
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1996
- 1996-02-29 KR KR1019960005408A patent/KR100211649B1/ko not_active IP Right Cessation
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