KR970063462A - 반도체 lpcvd장비의 콜드트랩 - Google Patents

반도체 lpcvd장비의 콜드트랩 Download PDF

Info

Publication number
KR970063462A
KR970063462A KR1019960005408A KR19960005408A KR970063462A KR 970063462 A KR970063462 A KR 970063462A KR 1019960005408 A KR1019960005408 A KR 1019960005408A KR 19960005408 A KR19960005408 A KR 19960005408A KR 970063462 A KR970063462 A KR 970063462A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
case
cold trap
semiconductor
cooling line
lpcvd
Prior art date
Application number
KR1019960005408A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100211649B1 (ko
Inventor
안재혁
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김광호, 삼성전자 주식회사 filed Critical 김광호
Priority to KR1019960005408A priority Critical patent/KR100211649B1/ko
Publication of KR970063462A publication Critical patent/KR970063462A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100211649B1 publication Critical patent/KR100211649B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/4412Details relating to the exhausts, e.g. pumps, filters, scrubbers, particle traps

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

가스에서 제거대상 물질을 석출시키는 능력이 향상되면서 세정시 석출된 화합물질의 제거가 쉬운 반도체 LPCVD장비의 콜드트랩에 관한 것이다.
본 발명에 공정챔버와 진공 배기펌프 사이의 폐가스 배출 경로상에 설치되며, 가스입구와 가스출구를 가지는 일정형태의 케이스 내에 냉각라인이 설치된 반도체 LPCVD장비의 콜드트랩에 있어서, 상기 냉각라인이 외부 케이스와 내부 케이스 사이 공간에 위치하도록 케이스와 냉각라인이 형성되는 것을 특징으로 한다.
따라서, LPCVD장비의 공정챔버에서 배출된 폐가스에서 진공펌프로 유입되는 이물질을 능률적으로 제거하고, 세정시 용이하고 신속하게 내부에 쌓인 이물질을 제거하는 효과를 얻을 수 있다.

Description

반도체 LPCVD장비의 콜드트랩
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도는 본 발명의 일 실시예에 따른 LPCVD장비 콜드트랩의 외관을 나타내는 측면도이다.

Claims (3)

  1. 공정챔버와 진공 배기퍼므 사이의 폐가스 배출 경로상에 설치되며, 가스입구와 가스출구를 가지는 일정형태의 케이스 내에 냉각라인이 설치된 반도체 LPCVD장비의 콜드트랩에 있어서, 상기 냉각라인이 외부 케이스와 내부 케이스 사이 공간에 위치하도록 케이스와 냉각라인이 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 LPCVD장비의 콜드트랩.
  2. 제1항에 있어서, 상기 가스출구가 수평으로 형성된 상기 가스입구와 일정각도를 이루며 위로 향하도록 설치된 것을 특징으로 하는 상기 반도체 LPCVD장비의 콜드트랩.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 냉각라인이 상기 외부 케이스 및 상기 내부 케이스와 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 LPCVD장비의 콜드트랩.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960005408A 1996-02-29 1996-02-29 반도체 lpcvd장비의 콜드트랩 KR100211649B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019960005408A KR100211649B1 (ko) 1996-02-29 1996-02-29 반도체 lpcvd장비의 콜드트랩

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019960005408A KR100211649B1 (ko) 1996-02-29 1996-02-29 반도체 lpcvd장비의 콜드트랩

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970063462A true KR970063462A (ko) 1997-09-12
KR100211649B1 KR100211649B1 (ko) 1999-08-02

Family

ID=19452282

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960005408A KR100211649B1 (ko) 1996-02-29 1996-02-29 반도체 lpcvd장비의 콜드트랩

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100211649B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100653828B1 (ko) * 1999-02-26 2006-12-04 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 트랩장치

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020086978A (ko) * 2001-05-12 2002-11-21 삼성전자 주식회사 배기가스 냉각용 쿨링트랩 및 이를 구비한 반도체소자제조설비의 배기장치
KR101135519B1 (ko) * 2009-09-25 2012-04-09 주식회사 선익시스템 증발챔버의 진공펌프 보호장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100653828B1 (ko) * 1999-02-26 2006-12-04 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 트랩장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR100211649B1 (ko) 1999-08-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69521504D1 (de) Zentrfugal trenner
DK0711879T3 (da) Opfangningsbeholder
KR970073669A (ko) 냉온정수기
ATE248633T1 (de) Grossvolumiger, selbstreinigender filter
CA2206464A1 (en) Gas removal device
RU2005121894A (ru) Шумопоглощающее средство для пылесоса
KR970063462A (ko) 반도체 lpcvd장비의 콜드트랩
KR890010265A (ko) 열처리 장치
US5025571A (en) Vacuum pump with heated vapor pre-trap
CY1105045T1 (el) Διαταξη για τον καθαρισμο ενος ρευστου υπο μορφην ατμου απο ενα κυκλωμα
ATE207169T1 (de) Vorrichtungen zum sammeln und/oder behandeln und weiterleiten vonflüssigkeiten, mehrphasigen systemen beziehungsweise stückige substanzen enthaltenden flüssigkeiten, in erster linie abwässern
KR940001260A (ko) 저압 화학 증착기 튜브
KR970065426A (ko) 정수기의 폐수처리시 소음감소장치
KR980000644A (ko) 폐기물 처리장치
KR970069098A (ko) 배출가스 정화장치의 수분제거장치
WO2002020137A3 (en) Water trap
KR980001069A (ko) 자동차용 내장형 공기 청정기
ES2169937T3 (es) Maquina de lavar con sistema de secado mejorado.
KR970028166A (ko) 가스보일러의 기수분리 이물질제거장치
KR930003276A (ko) 반도체 장치의 세정방법 및 그 장치
KR910018062A (ko) 공해물질 제거기
ATE79445T1 (de) Fluessigkeitsringpumpe mit einem im seitenschild integrierten fluessigkeitsabscheider.
RU97102919A (ru) Установка для забора и очистки воды из поверхностных водоисточников
RU96112503A (ru) Струйно-вихревая камера
KR940021109A (ko) 탈질소, 소음, 오염방지 방법 및 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
O035 Opposition [patent]: request for opposition
O132 Decision on opposition [patent]
O064 Revocation of registration by opposition: final registration of opposition [patent]
LAPS Lapse due to unpaid annual fee