KR970062815A - 통계적 공정관리 방식의 스테퍼 제어 장치 및 그 방법 - Google Patents

통계적 공정관리 방식의 스테퍼 제어 장치 및 그 방법 Download PDF

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KR970062815A
KR970062815A KR1019960004822A KR19960004822A KR970062815A KR 970062815 A KR970062815 A KR 970062815A KR 1019960004822 A KR1019960004822 A KR 1019960004822A KR 19960004822 A KR19960004822 A KR 19960004822A KR 970062815 A KR970062815 A KR 970062815A
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KR1019960004822A
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김미정
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김광호
삼성전자 주식회사
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

스테퍼(Stopper)의 공정 결과를 계측 및 분석하여 스테퍼의 동작을 자동으로 제어하는 통계적 공정관리 방식의 스테퍼 제어 장치 및 그 방법에 관한 것이다.
본 발명은, 스테퍼와 이에 연결된 계측기를 포함하는 스테퍼 제어 장치에 상기 스테퍼에 설정되는 파라미터 데이터와 상기 스테퍼에서 웨이퍼에 형성된 패턴에 대한 선폭데이타가 입력되고, 상기 파라미터 데이터와 상기 선폭데이타를 통계적 공정관리 방식으로 비교 및 산출하여 X 및 Y축 정렬과 노광상태를 제어하기 위한 보정데이타를 상기 스테퍼로 피드백하여 공정을 제어하는 제어수단을 포함하여 구성됨으로써 자동으로 통계적 공정관리 방식에 의하여 스테퍼의 피라미터 조정이 이루어진다. 따라서, 조사 및 분석 그리고 제어가 자동으로 이루어지므로 통계적 공정관리를 위하여 소요되는 시간 및 인력을 절감할 수 있고 노광된 웨이퍼의 신뢰도를 극대화시킬 수 있는 효과가 있다.

Description

통계적 공정관리 방식의 스테퍼 제어 장치 및 그 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 통계적 공정관리 방식의 스테퍼 제어장치의 실시예를 나타내는 블록도이다.

Claims (3)

  1. 스테퍼(Stopper)와 이에 연결된 계측기를 포함하는 스테퍼 제어 장치에 있어서, 상기 스테퍼에 설정되는 파라미터 데이터와 상기 스테퍼에서 웨이퍼에 형성된 패턴에 대한 선폭데이타가 입력되고, 상기 파라미터 데이터와 상기 선폭데이타를 통계적 공정관리 방식으로 비교 및 산출하여 X 및 Y축 정렬과 노광상태를 제어하기 위한 보정데이타를 상기 스테퍼로 피드백하여 공정을 제어하는 제어수단을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 통계적 공정관리 방식의 스테퍼 제어 장치.
  2. 스테퍼와 이에 연결된 계측기를 포함한 시스템의 스테퍼 제어 방법에 있어서, 상기 스테퍼에 설정되는 파라미터 데이터 및 상기 계측기에서 계측된 선폭데이타가 입력되는 단계; 상기 입력된 파라미터 데이터 및 상기 선폭데이터를 미리 설정된 제어범위와 비교하는 단계; 및 상기 비교된 결과에 따른 보정값을 산출하여 그에 따른 제어신호를 상기 스테퍼로 전송하는 단계를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 통계적 공정관리 방식의 스테퍼 제어 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 스테퍼로 전송하는 단계에서 제어신호는 X 및 Y 축 정렬 그리고 노광시간 보정신호로 이루어짐을 특징으로 하는 통계적 공정관리 방식의 스테퍼 제어 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960004822A 1996-02-27 1996-02-27 통계적 공정관리 방식의 스테퍼 제어 장치 및 그 방법 KR970062815A (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100922259B1 (ko) * 2007-12-17 2009-10-15 주식회사 동부하이텍 반도체 제조 공정의 패턴 형성 방법에서 오버레이 변동에대한 관리 방법 및 장치

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