KR970052620A - 웨이퍼의 건조장치 - Google Patents

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KR970052620A
KR970052620A KR1019950046110A KR19950046110A KR970052620A KR 970052620 A KR970052620 A KR 970052620A KR 1019950046110 A KR1019950046110 A KR 1019950046110A KR 19950046110 A KR19950046110 A KR 19950046110A KR 970052620 A KR970052620 A KR 970052620A
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황인석
고용선
송재인
권영민
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김광호
삼성전자 주식회사
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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
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Abstract

본 발명은 반도체장치의 제조에 있어서 웨이퍼의 세정 후 그 웨이퍼를 건조하는 웨이퍼의 건조장치에 관한 것으로서, 그 구조는 계층적으로 형성된 복수의 단위수집판(26a-26n)을 구비한 수집판(22a)과; 상기 수집판(22a)에서 수집된 IPA혼합물을 배출하는 배출라인(24)을 포함하고, 상기 각 단위수집판(26a-26n)은 소정간격을 두고 계층적으로 설치되어 있어서, 상기 IPA증기가 각 단위수집판사이를 통하여 상기 웨이퍼의 저부 및 중앙부를 거쳐 상승하도록 한다. 상술한 구조를 갖는 응축증기수집부(22a)를 웨이퍼 건조장치에 적용할 경우, 챔버의 저면에서 기화된 IPA증기가 웨이퍼의 저부 및 중앙부를 거쳐서 상방향으로 이동될 수 있기 때문에, IPA의 증발영역에서 IPA증기가 균일하게 분포될 수 있다. 그 결과, 웨이퍼를 완전하고 빠르게 건조할 수 있다.

Description

웨이퍼의 건조장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명의 실시예에 따른 웨이퍼건조장치의 응축증기수집부의 구조를 보여주고 있는 단면도.
제4(a)도는 제3도에 도시된 응축증기수집부의 구조를 상세히 보여주고 있는 사시도.
제4(b)도는 제4(a)도의 점선으로 표시된 부분의 확대사시도.

Claims (3)

  1. 챔버내에 공급된 IPA(isopropyle alcohol) 용액의 가열에 의해 발생된 IPA증기를 사용하여 웨이퍼에 부착된 수분을 제거하는 웨이퍼건조장치에 있어서, 복수의 단위수집판(26a-26n)을 구비한 수집판(22a)과; 상기 수집판(22a)에서 수집된 IPA혼합물을 배출하는 배출라인(24)을 포함하고, 상기 각 단위수집판(26a-26n)은 소정간격을 두고 계층적으로 설치되어 있어서, 상기 IPA증기가 각 단위수집판사이를 통하여 상기 웨이퍼의 저부 및 중앙부를 거쳐 상승하도록 하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼건조장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 각 단위수집판은 계층적으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼건조장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 각 단위수집판의 일측은 타측보다 낮게 소정각도로 경사져 있고, 각 단위수집판의 일측에 통공(27a-27n)을 각각 구비하여서, 최상층의 단위수집판(26n)에서 수집된 응축 IPA 혼합물이 그의 통공(27a)을 통하여 다음층의 단위수집판(26n)으로 흐르고 그리고 최종적으로는 단위수집판(26a)으로 수집되어 배출라인(24)에서 배출되도록 한 것을 특징으로 하는 웨이퍼건조장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950046110A 1995-12-01 1995-12-01 웨이퍼의 건조장치 KR0163547B1 (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100640527B1 (ko) * 2005-12-28 2006-11-01 동부일렉트로닉스 주식회사 반도체 웨이퍼 세정장치

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