KR970028868A - 반도체 노광장비의 레티클 레이저 빔 얼라인 장치 - Google Patents

반도체 노광장비의 레티클 레이저 빔 얼라인 장치 Download PDF

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KR970028868A
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70141—Illumination system adjustment, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of illumination system

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Abstract

본 발명은 반도체 노광장비의 레티클 레이저 빔 얼라인 장치에 관한 것으로, 종래 치구에 의해 고정되는 레이저는 교환후에 레이저마다 빔이 출력되는 포인트 및 각도가 정확하게 일치하지 않기 때문에 레이저에서 나온 빔각도의 미세한 변화에도 최종단에서는 정확한 위치의 검출이 이루어지지 않게 되어 파형이 나타나지 않게 되어 일일이 수작업으로 수개의 미러의 각도를 조정해 주어야 하며, 미러의 조정후에도 각종 파라미터의 변경으로 인한 기존의 조건이 변경되기 때문에 정밀한 조정작업을 요하는 어려움이 있고, 조정작업 자체가 어렵고 번거로운 문제가 있는 바, 고정치구(21)에 의해 고정되는 레티클 레이저(1)의 전방에 광섬유(30)를 설치하여 레이저 교환 전후의 관축을 일정하게 유지하도록 구성한 본 발명을 제공하여 교환작업이 손쉽고, 작업시간도 절감되는 효과가 있으며, 레이저 교환 전후의 장비의 조건상에 변동이 없어 조건변화로 인한 얼라인먼트계의 이상을 방지하여 노광공정의 효율을 극대화시키도록 한 것이다.

Description

반도체 노광장비의 레티클 레이저 빔 얼라인 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 레이저 빔 고정치구의 사시도.
제3도는 본 발명에 의한 레이저 전방에 설치되는 광섬유의 고정상태를 보인 종단면도.

Claims (2)

  1. 고정치구에 의해 고정되는 레티클 레이저의 전방에 광섬유를 설치하여 레이저 교환 전후의 광축을 일정하게 유지하도록 구성한 것을 특징으로 하는 반도체 노광장비의 레티클 레이저 빔 얼라인 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 광섬유의 입력단은 레티클 레이저의 전면에 설치된 광섬유입력단 고정구에 고정됨과 아울러 광섬유 몸통이 진공라인이 연결된 받침대의 상면에 위치결정고리에 의해 지지고장됨을 특징으로 하는 반도체 노광장비의 레티클 레이저 빔 얼라인 장치.
    ※ 참고사항:최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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