KR970010812B1 - 샴푸 조성물 - Google Patents

Abstract

내용없음

Description

샴푸 조성물

본 발명은 셀레늄 설파이드를 함유하는 비듬방지 로션 샴푸에 관한 것인데, 본 발명의 샴푸는 크산탄 고무와 마그네슘 알루미늄 실리케이트와의 배합물을 현탁계로서 사용하여 셀레늄설파이드 입자의 침착을 개선시킨다.

로션 샴푸는 두발에 고루 분산되며, 사용이 용이하기 때문에 널리 사용되고 있다. 하지만, 입자화될 경우, 작은 크기의 활성 성분이 로션 샴푸에 사용되며, 셀레늄 설파이드와 같은 이들 성분의 현탁 및 침착은 다양한 문제점을 제공한다.

종래의 기술 문헌은 미립 물질을 현탁시키기 위해 고안된 성분을 함유하는 비듬 방지 샴푸를 기술하고 있다. 문헌[일본국 공개특허공보 제60,810호, May 19,1977(Lion Fat Oi1)]은 음이온성 계면활성제 5 내지 50% 지방산 디에탄올아미드] 내지 10%, 불용성 미세 분말 0.l 내지 10% 및 에틸렌 글리콜 에스테르 1 내지 10%를 함유하는 샴푸에 대하여 기술하고 있다. 윈클러(Winkler)에게 허여된 미합중국 특허 제4,470,982호는 음이온성 계면활성제 11 내지 20%, 현탁제 4 내지 6%, 아미드 2 내지 4%, 입자화된 비듬방지제 및 물을 함유하는 유사 조성물에 대하여 기술하고 있다. 1966년12월14일에 콜게이트-팜올리브 캄파티(Colgate-Palmolive Company)에게 허여된 영국 특허 제1,051,268호는 현탁제를 함유하는 셀레늄 설파이드 샴푸에 대하여 기술하고 있다.

상기 참고문헌이 현탁 비듬방지 활성제에 대하여 기술하고 있는 반면, 상기 현탁액을 형성시킬 경우에 관련되는 문제점에 대한 해결책을 제공하지 못한다.

본 발명에 이르러, 놀랍게도 현탁제로서 크산탄 고무와 마그네슘 알루미늄 실리케이트를 사용하는 셀레늄 설파이드 로션 샴푸 조성물은 매우 안정하고, 셀레늄 설파이드 활성제의 침착을 향상시키는 것으로 밝혀졌다.

따라서, 본 발명의 목적은 안정한 셀레늄 설파이드 로션 샴푸를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 현탁제로서 크산탄 고무와 마그네슘 알루미늄 실리케이트의 배합물을 사용하는 설레늄 설파이드 로션 샴푸를 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 개량된 설레늄 설파이드 조성물로 머리감는 방법을 제공하는 것이다.

상기 및 기타의 목적이 다음의 기술에 의하여 명백해 질 것이다.

다른 지시가 없다면, 모든 % 및 비율은 중량을 기준한 것이다. 또한, 모든 측정을 조성물중에서 또는 다른 구체적인 지시가 없다면 순수물질에 대하여 25℃에서 행하였다.

본 발명은 합성 계면활성제 약 10 내지 약 30%, 평균입자 크기가 25㎛ 미만인 미립 셀레늄 설파이드 약 0.1 내지 약 5.0%, 크산탄 고무 약 0.05 내지 약 1.0%, 마그네슘 알루미늄 실리케이트 약 0.10 내지 약 3.00% 및 물을 함유하는 로션 샴푸 조성물에 관한 것이다. 임의의 성분 뿐만 아니라 이들을 하기에서 상세하게 기술하였다.

임의의 성분 뿐만 아니라 본 발명의 필수 성분을 하기하였다.

계면활성제

본 발명의 필수적인 성분은 계면활성제이다. 매우 다양한 합성 음이온성, 양쪽성, 쯔비터이온성 및 바이온성 계면활성제 중에서 선택될 수 있는 계면활성제는 약 10 내지 약 30%, 바람직하게는 약 15 내지 약 22%, 가장 바람직하게는 약 18 내지 약 20%의 농도로 존재한다.

합성 음이온성 계면활성제는 탄소수 8 내지 22의 알킬 라디칼 및 설폰산 또는 황산 에스테르 라디칼(알칼이라는 용어중에는 고급 아실 라디칼의 알킬부분이 포함된다)의 분자 구조를 갖는 유기 황산 반응생성물의 알킬리 금속염에 의하여 예시될 수 있다. 바람직한 것에는 나트륨, 암노뮴, 칼륨 또는 트리에탄올아민 알킬 설페이트, 특히 고급 알콜(C₈내지 C₁₈탄소원자)를 황산화시켜 수득한 것들, 나트륨 코코낫유 지방산 모노글리세라이드 설페이트 및 설포네이트, 1몰의 고급 지방 알콜(예 : 우지 또는 코코낫유 알콜)과 1 내지 12몰의 에틸렌 옥사이드의 반응 생성물의 황산 에스테르의 나트륨 또는 칼륨염, 분자당 1 내지 10개의 에틸렌 옥사이드 단위를 함유하는 알킬 페놀 에틸렌 옥사이드 에테르 설페이트의 나트륨 또는 칼륨염 및 나트륨 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트(여기에서, 알킬 라디칼은 8 내지 12개의 탄소원자를 함유한다), 이세티온산으로 에스테르화시키고 수산화나트륨으로 중화시킨 탄소수 10 내지 22의 지방산의 반응 생성물, 사코신과 지방산의 축합 생성물의 수용성 염 및 당해분야에서 공지된 것이 있다.

쯔비터이온성 계면활성제는 지방족 4급 암모늄, 포스포늄 및 설포늄 화합물의 유도체로서 널리 기술될 수 있는 것들에 의하여 예시될 수 있는데, 여기에서 지방족 라디칼은 직쇄 또는 측쇄화될 수 있으며, 지방족 치환체중의 하나는 약 8 내지 18개의 탄소원자를 함유하며, 하나는 음이온성 수용성 그룹(예 : 카복시, 설포네이트, 설페이트, 포스페이트 또는 포스포네이트)을 함유한다.

이들 화합물의 일반식은 다음과 같다.

상기식에서, R²는 탄소수가 약 8 내지 약 18이고, 0 내지 약 10개의 에틸렌 옥사이드 잔기 및 0 내지 1개의 글리세릴 잔기를 갖는 알킬, 알케닐 또는 하이드록시 알킬 라디칼을 포함하고, Y는 질소, 인 및 황원자 중에서 선택되며, R³은 탄소수 1 내지 약 3의 알킬 또는 모노하이드록시알킬 그룹이고, x는 Y가 황원자일 경우에는 1이고, Y가 질소 또는 인원자일 경우에는 2이며, R⁴는 탄소수 1 내지 약 4의 알킬렌 또는 하이드록시알킬렌이고, Z는 카복실레이트, 설포네이트, 설페이트, 포스포네이트 및 포스페이트 그룹중에서 선택되는 라디칼이다.

이들의 예는 4-[N,N-디(2-하이드록시에틸)-N-옥타데실암모니오]-부탄-1-카복실레이트, 5-[S-3-하이드록시프로필-S-헥사데실설포니오]-3-하이드록시펜탄-1-설페이트, 3-[P,P-디에틸-P-3,6.9-트리옥사테트라데속실포스포니오]-2-하이드록시프로판-1-포스페이트, 3-[N,N-디스프로필-N-3도데콕시-2-하이드록시프로필암모니오-프로판-1-포스포네이트, 3-[N,N-디메닐-N-헥사데실암모니오)프로판-1-설포네이트, 3-[N,N-디메틸-N-헥사데실암모니오)-2-하이드록시프로판-1-설포네이트, 4-[N,N-디(2-하이드록시에틸)-N-(2-하이드록시도데실)암모니오]-부탄-1-카복실레이트, 3-[S-에틸-S-(3-도데콕시-2-하이드록시프로필)설포니오]-프로판-1-포스페이트, 3-[P,P-디메틸-P-도데실포스포니오]-프로판-1-포스포네이트 및 5-[N,N-디(3-하이드록시프로필)-N-헥사데실암모니오]-2-하이드록시펜탄-1-설페이트가 있다.

베타인과 같은 다른 쯔비터이온제가 본 발명에서 유용하기도 하다. 유용한 베타인의 예에는 코코 디메틸 카복시메틸 베타인, 라우릴 디메틸 카복시메틸 베타인, 라우릴디메틸 알파-카복시-에틸 베타인, 세틸 디메틸 카복시메틸 베타인, 라우릴 비스-(2-하이드록시-에틸)카복시 메틸 베타인, 스테아릴 비스-(2-하이드록시-프로필)카복시메틸 베타인, 올레일 디메틸 감마-카복시프로필 베타인, 라우릴 비스-(2-하이드록시프로필)알파-카복시에틸 베타인 등과 같은 고급 알킬 베나친이 있다. 코코 디메틸 설포프로필 베타인, 스테아릴 디메틸 설포프로필 베타인, 라우릴 디메틸 설포에틸 베타인, 라우릴 비스-(2-하이드록시-에틸)설포프로필 베타인 등, 아미도 베타인 및 아이모설포베타인으로 나타낼 수 있는 설포베타인(여기에서, RCONH(CH₂)₃라디칼은 베타인의 질소원자에 부착되어 있다)이 본 발명에서 유용하기도 하다.

본 발명의 조성물에서 사용될 수 있는 양쪽성 계면활성제의 예에는 지방족 2급 및 3급 아먼의 유도체로서 널리 기술될 수 있는 것들이 있는데, 여기에서, 지방족 라디칼은 직쇄 또는 측쇄화 될 수 있으며, 지방족 치환체의 하나는 약 8 내지 약 18개의 탄소원자를 함유하고, 다른 하나는 음이온성 수용성그룹(예 : 카복시, 설포네이트, 설페이트, 포스페이트 또는 포스포네이트)을 함유한다. 상기 정의에 해당하는 화합물의 예에는 나트륨 3-도데실-아미노프로피오네이트, 나트륨 3-도데실아미노프로판 설포네이트, 미합중국 특허 제2,658,072호에 따라서 나트륨 이세티오네이트와 도데실아민을 반응시켜 제조한 것과 같은 N-알킬타우린, 미합중국 특허 제2,438,091호에 따라 제조한 것들과 같은 N-고급 알킬 아스파르트산 및 미합중국 특허 제2,528,378호에 기술되어 있으며, ''미라놀(Mirano1)이라는 상표면으로 판매되는 제품이 있다.

음이온성, 양쪽성 또는 쯔비터이온성 계면활성제와 배합되어 바람직하게 사용되는 비이온성 계면활성제는 유기 소수성 화합물과 알킬렌 옥사이드 그룹(원래 친수성)의 축합에 의하여 제조되는 화합물로서 널리 정의될 수 있는데, 이는 원래 지방족이나 알킬방향족일 수 있다. 바람직한 부류의 비이온성 계면활성제의 예는 다음과 같다.

1. 알킬페놀의 폴리에틸렌 옥사이드 축합물(예 : 알킬페놀 1몰당 10 내지 60몰의 에틸렌 옥사이드에 상응하는 양으로 존재하는 에틸렌 옥사이드와 직쇄 또는 측쇄 배열된 탄소수 약 6 내지 12의 알킬 그룹을 갖는 알킬페놀의 축합 생성물이며, 상기 화합물 중의 알킬 치환체는 예를 들면, 중합된 프로필렌, 디이소부틸렌, 옥탄 또는 노난으로부터 유도될 수 있다).

2. 목적하는 소수성 및 친수성 원소간의 균형에 따라 조성이 변할 수 있는 프로필렌 옥사이드와 에틸렌 디아민 생성물의 반응으로부터 생성되는 생성물과 에틸렌 옥사이드의 축합으로부터 유도되는 것[예 : 에틸렌 디아민 및 과량의 프로필렌 옥사이드의 반응 생성물로 이루어진 소수성 염기(여기에서, 염기의 분자량은 2,500 내지 3,000이다)와 에틸렌 옥사이드 그룹을 반응시켜 제조하는, 분자량이 약 5,000 내지 약 11,000이며 약 40 내지 약 80중량%의 폴리옥시에틸렌을 함유하는 화합물이 바람직하다].

3. 코코낫 알콜(여기에저 코코낫 알콜 부분은 10 내지 14개의 탄소원자를 갖는다) 1몰당 10 내지 30몰의 에틸렌 옥사이드를 갖는 코코낫 알콜 에틸렌 옥사이드 축합물과 같은 에틸렌 옥사이드의 직쇄 모는 측쇄 배열된 탄소수 8 내지 18의 지방족 알콜의 축합 생성물.

4. 하기 일반식(II)에 상응하는 장쇄 3급 아민 옥사이드 :

R₁R₂R₃N→0 … (Ⅱ)

상기식에서, R_l은 탄소수가 약 8 내지 약 18이고, 0 내지 약 10개의 에틸렌 옥사이드 잔기 및 0 내지 1개의 글리세릴 잔기를 갖는 알킬, 알케닐 또는 모노하이드록시알킬 라디칼을 함유하고, R₂및 R₃은 탄소원자 1 내지 약 3개 및 하이드록시 그룹 0 내지 약 1개를 함유하며, 예를 들어 메틸, 에틸, 프로필,하이드록시에틸 또는 하이드록시 프로필 라디칼이다.

상기식에서의 화살표는 반극성 결합의 통상적인 표시이다. 본 발명에 사용하기에 적절한 아민 옥사이드의 예에는 디메틸도데실아민 옥사이드, 올레일 디(2-하이드록시에틸)아민 옥사이드, 디메틸옥틸아민옥사이드, 디메틸-페실아민 옥사이드, 다메틸 테트라데실아민 옥사이드, 3,6,9-트리옥사헵타데실디에틸아민 옥사이드, 디(2-하이드록시에틸)-테트라데실아민 옥사이드, 2-도데콕시에틸디메틸아민 옥사이드, 3-도데콕시-2-하이드록시 프로필디(3-하이드록시프로필)아민 옥사이드, 디메틸 헥사데실아민옥사이드가 있다.

5. 하기 일반식(III)에 상응하는 장쇄 3급 포스핀 옥사이드 :

RR'RP→0 … (Ⅲ)

상기식에서, R은 쇄길이에서 탄소수가 8 내지 18이고 0 내지 약 10개의 에틸렌 옥사이드 잔기 및 0내지 1개의 글리세릴 잔기를 갖는 알킬, 알케닐 또는 모노하이드록시알킬 라디칼을 함유하며, R' 및 R는 각각 탄소원자 1 내지 3개를 함유하는 알킬 또는 모노하이드록시알킬 그룹이다.

상기식에서의 화살표는 반극성 결합의 통상적인 표시이다. 적절한 포스핀 옥사이드의 예에는 도데실디메틸포스핀 옥사이드, 테트라데실디메틸포스핀 옥사이드, 테트라데실메틸에틸포스핀 옥사이드, 3,6,9-트리옥사옥타데실 디메틸포스핀 옥사이드, 세틸디메틸포스핀 옥사이드, 3-도데콕시-2-하이드록시프로필디(2-하이드록시에틸) 포스핀옥사이드, 스테아릴디메틸포스핀 옥사이드, 세틸 에틸 프로필포스핀 옥사이드, 올레일디에틸포스핀 옥사이드, 도데실디에틸포스핀 옥사이드, 테트라데실디에틸포스핀 옥사이드, 도데실디프로필포스핀 옥사이드, 도데실디(하이드록시메틸)포스핀 옥사이드, 도데실디(2-하이드록시에틸)포스핀 옥사이드, 테트라데실메틸-2-하이드록시프로필포스핀 옥사이드, 올레일디메틸포스핀옥사이드, 2-하이드록시도데실디메틸포스핀 옥사이드가 있다.

6. 탄소수 1 내지 약 3(통상적으로 메틸)의 단쇄알킬 또는 하이드록시 알킬 라디칼 및 약 8 내지 약20개의 탄소원자, 0 내지 약 10개의 에틸렌 옥사이드 잔기 및 0 내지 1개의 글리세릴 잔기를 함유하는 알킬, 알케닐, 하이드록시알킬 또는 케토알킬 라디칼을 함유하는 하나의 소수성 장쇄를 함유하는 장쇄 디알킬 설폭사이드. 이들의 예에는 옥타데실 메틸 설폭사이드, 2-케토트리데실 메틸 설폭사이드, 3,6,9-트리옥사옥타데실 2-하이드록시에틸 설폭사이드, 도데실 메틸 설폭사이드, 올레일 3-하이드록시프로필 설폭사이드, 테트라데실 메틸 설폭사이드, 3-메톡시트리데실 메틸 설폭사이드, 3-하이드록시트리데실 메틸 설폭사이드, 3-하이드록시-4-도데콕시부틸메틸 설폭사이드가 포함된다.

다양한 추가의 비비누성 계면활성제가 참고로 본 발명에서 인용한 문헌[McCUTCHEON'S, DETER-GENTS AND EMULSIFILRS, 1986 ANNUAL, published by Allured Publishing Corporation]에 기술되어있다.

상기의 계면활성제는 단독으로 또는 본 발명의 샴푸 조성물과 배합되어 사용될 수 있다. 음이온성 계면활성제, 특히 알킬 설페이트, 에톡시화 알킬 설페이트 및 이들의 혼합물은 이세티오네이트 이외에 본 발명에 사용하기에 바람직하다.

셀레늄 설파이드

셀레늄 설파이드는 주요한 상품이다. 셀레늄 설파이드는 통상적으로 1몰의 셀레늄과 2몰의 황을 갖는 화합물로서 간주된다. 그러나, 이는 SexSy(여기에서 x+y=8)의 사이클릭 구조의 형태를 취할 수도 있다.

제조업체에 의하여 제공되는 셀레늄 설파이드는 평균 셀레늄 설파이드 입자 크기가 약 25㎛미만, 바람직하게는 약 15㎛이하일 경우에 본 조성물에서 사용될 수 있다. 전방의 레이져 광 분산장치[예 : Ma1vern 3600 장치]를 사용하여 상기 측정을 행한다.

셀레늄 설파이드는 약 0.1 내지 약 5.0%, 바람직하게는 약 0.6 내지 약 25%의 농도로 본 발명의 조성물에 존재한다.

현탁계

크산탄 고무는 본 조성물에서 셀레늄 설파이드를 현탁시키기 위하여 사용하는 구 가지 제제 중의 하나이다. 이 생합성 고무 물질은 시판되고 있으며, 분자량이 100만 이상인 헤테로폴리사카라이드이다. 이는 D-글루코스, D-만노스 및 D-글루큐로네이트가 2.8 : 2.0 : 2.0의 몰 비로 함유되어 있다고 생각된다. 폴리사카라이드는 4.7% 아세틸에 의하여 부분적으로 아세틸화된다. 이러한 정보는 문헌[Whistler, Roy L. Editor Industrial Gums-Polysaccharides and Their Derivatives NewYork : Academic Press, 1973]에 기술되어 있다. 켈코[Kelco, a Division of Merk Co., Inc ]에서는 켈트롤

(Keltro1

)로서 크산탄 고무를 제공한다. 이 현탁제는 본 조성물 중에 약 0.05 내지 약 1.0%, 바람직하게는 약 0.20 내지 약 0.40%의 농도로 존재한다.

제2의 현탁계는 구조식 Al₂Mg₈Si₂의 마그네슘 알루미늄 실리케이트이다. 이 물질은 원래 콜레라이나이트, 사포나이트 및 사파이어와 같은 스멕타이트 광물에 천연적으로 존재한다. 본 발명에서 유용한 정제된 마그네슘 알루미늄 실리케이트는 알.티.반더빌트 캄파니, 인코포레이티드(R. T. Vanderbilt Company, Inc)에 의하여 제조되는 비검(Veegum)으로서 용이하게 구입가능하다. 이 물질은 약 0.10 내지 약 3.00%, 바람직하게는 약 0.50 내지 약 2.00%의 농도로 본 조성물에 존재한다.

물

물은 본 발명의 최종 필수 성분이며, 조성물의 나머지를 구성한다. 이는 통상적으로 약 20 내지 약 95%, 바람직하게는 약 60 내지 약 85%의 농도로 존재한다.

임의 성분

본 조성물중에 사용하기 위한 바람직한 임의 성분은 아미드이다. 본 조성물에서 사용되는 아미드는 샴푸중에 사용하기 위해 공지된 지방산의 알칸올 아미드일 수 있다. 이들은 통상적으로 탄소수 약 8 내지 약 l4의 지방산의 모노 및 디에탄올아미드이다. 코코낫 모노에탄올아미드, 라우릭 디에탄올아미드 및 이들의 혼합물이 바람직하다. 아미드는 약 1 내지 약 10%의 농도로 존재한다.

본 조성물중에서 유용한 또 하나의 적절한 임의 성분은 비휘발성 실리콘 유체이다. 비휘발성 실리콘 유체는 폴리알킬실옥산, 폴리아릴 실옥산, 폴리알킬아릴 실옥산이거나 또는 폴리에테르 실옥산 공중합체일 수 있으며, 약 0.1 내지 약 10.00%, 바람직하게는 약 0.5 내지 약 5.0%의 농도로 존재한다. 이들 유체의 혼합물이 사용될 수도 있고, 특정 수행에 있어서 바람직하다. 분산된 실리콘 입자는 또한 샴푸 매트릭스중에서 불용성이어야 한다. 이는 전기 및 하기에서 사용되는 불용성의 의미이다.

사용될 수도 있는 필수적으로 비휘발성인 폴리알킬실옥산 유체에는 예를 들면, 25℃에서의 정도가 약 5 내지 600,000센티스토크인 폴리디메틸실옥산이 있다. 이들 실옥산은 예를 들면 제네랄 일렉트릭 캄파니의 비스카질 계열(Viscasil series) 및 다우 코닝의 다우 코닝 200계열로서 구입가능하다. 점도는 문헌[Dow Corning Corporate Test Method CTM0004, July 20,1970]에 기술된 바와 같이 유리 모세관 점도계에 의하여 측정될 수 있다. 약 350센티스토크 내지 약 100,000센티스토크의 점도가 바람직하다.

사용될 수 있는 필수적으로 비휘발성인 폴리알킬 아릴 실옥산 유체에는, 예를 들면, 25℃에서의 점도가 약 15 내지 30,000센티스토크인 폴리메틸페닐실옥산이 있다. 이들 실옥산은, 예를 들면, 제네랄 일렉트릭 캄파니의 SF l075메틸 페닐 플루오라이드 또는 다우 코닝의 556 코스메틱 그레이드 플루이드(Cosmetic Grade Fluid)로서 구입가능하다.

사용될 수 있는 필수적으로 비휘발성인 폴리에테르 실옥산 공중합체에는 에틸렌 옥사이드 또는 에틸렌 옥사이드와 프로필렌 옥사이드의 혼합물이 사용될 수 있을지라도, 예를 들면, 폴리프로필렌 옥사이드 개질된 디메틸폴리실옥산(예 : 다우코닝 DC-1248)이 있다.

적절한 실리콘 유체를 기술하는 참고문헌에는 전술한 그린(Green)에게 허여된 미합중국 특허 제2,826,551호, 1976년 6월22일에 드라코프(Drakoff)에게 허여된 미합중국 특허 제3,964,500호, 패더(Pader)에게 허여된 미합중국 특허 제4,364,837호 및 을스톤(Woolston)에게 허여된 영국 특허 제849,433호가 있다. 상기 특허 모두를 본 발명에서 참고로 인용하였다. 1984년에 페트라취 시스템스, 인코포레이티드(Petrarch Systems, Inc)에 의하여 반포된 규소 화합물을 본 발명에서 참고로 인용하였다. 이 참고문헌은 적절한 실리콘 물질의 매우 양호한 일람표를 제공한다.

양호한 건조 빗질성을 제공하기 위하여 본 발명의 조성물에서 특히 유용한 또 하나의 실리모ㅌ 물질은 실리콘 고무이다. 실리콘 고무는 스피처(Spitzer) 등에게 허여된 미합중국 특허 제4,152,416호(1979년 5월 1일) 및 문헌[No11, Walter, Chemistry and Technology of Silicones, New York, Academic Press 1968]과 페트라취에 의하여 기술되어 있다. 또한, 문헌[General Electric Silicone Rubber Product Data Sheets SE 30, SE 33, SE 54 및 SE 76]에도 실리콘 고무가 기술되어 있다. 본 발명에서는 상기 문헌 모두를 인용하고 있다. 실리콘 고무물질은 약 200,000 내지 약 1,000,000의 매스분자량을 갖는 고분자량 폴리디오가노실옥산을 나타낸다. 구체적인 예에는 폴리디메틸실옥산, (폴리디메틸실옥산)(메틸비닐실옥산)공중합체, 폴리(디베틸실옥산)(디페닐)(메틸비닐실옥산)공중합체 및 이들의 혼합물이 있다.

본 발명의 샴푸는 상기 조성물을 더욱 허용하기에 적절한 다양한 기타의 필수적이 아닌 임의 성분을 함유할 수 있다. 상기의 통상의 임의 성분은 당해 분야의 숙련가들에게 널리 공지되어 있는데, 이들의 예에는 벤질 알콜, 메틸 파라벤, 프로필 파라벤 및 이미다졸리디닐 우레아와 같은 방부제, 세틸트리메틸 암모늄 클로라이드, 라우릴 트리메틸 암모늄 클로라이드, 트리세틸 메틸 암모늄 클로라이드, 스테아릴디메틸 벤질 암모늄 클로라이드 및 디(부분 수소화된 우지) 디메틸암모늄 클로라이드와 같은 양이온성 계면활성제, 메탄올, BASF Wyandotte에 의하여 제공되는 플루로닉(Pluronic) F88과 같은 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드의 블록 중합체, 염화나트륨, 황산나트륨, 프로필렌 글리콜 및 에틸 알콜과 같은 중점제 및 점도 개질제, 시트로산, 석신산, 인산, 수산화나트륨, 탄산나트륨 등과 같은 pH 조절제, 향료, 염료 및 디나트륨 에틸렌디아민 테트라아세테이트와 같은 금속 이온 봉쇄제가 있다. 상기 제제는 통상적으로 조성물의 약 0.01 내지 약 10중량%, 바람직하게는 약 0.5 내지 약 5.0중량%의 농도로 각각 사용된다.

또 하나의 바람직한 성분은 설레늄 설파이드 입자를 분산된 상태로 유지하기 위한 비이온성 중합체 물질이 있다. 바람직한 물질에는 약 0.001 내지 약 0.1%, 바람직하게는 0.002 내지 약 0.05%의 농도로 사용되는 하이드록시프로필메틸 셀룰로오스가 있다.

본 조성물의 pH는 통상적으로 중요하지 않으며, 시트르산/나트륨 시트레이트 등의 pH를 조절하기 위한 적절한 완충 시스템을 사용하거나 적절한 계면활성제를 선택하여 수득될 수 있다. 그런, 개량된 착색 안정성은 약 2 내지 약 6, 바람직하게는 약 3 내지 약 5의 범위로 pH를 유지함으로써 수득된다.

본 조성물을 제조하기 위한 한가지 방법이 하기 실시예에 기술되어 있다.

본 조성물은 모발을 세척하기 위한 통상의 방법으로 사용된다. 약 0.1g 내지 약 10g의 조성물을 통상적으로 물로 적신 두발에 적용하고 머리를 감고 헹군다.

하기 실시예는 본 발명의 범주 이내의 바람직한 태양을 기술하고 입증한다. 이들 실시예는 본 발명의 진의 및 범주를 벗어남이 없이 예시의 목적으로 제공될 뿐이며 본 발명을 제한하는 것은 아니다.

실시예 I-lV

본 발명의 대표적인 조성물을 하기하였다.

상기에서 언급되는 모든 희석액은 물이다.

혼합물 A, B 및 C를 각각 71℃ 내지 약 82℃의 온도까지 가열하여 상기 조성물을 제조한다. 이어서 이들 별도의 혼합물을 약 38℃의 온도에서 함께 혼합한다. 이어서 셀레늄 설파이드 혼합물 D를 가하고, 전체 혼합물을 철저하게 혼합한다.

Claims (6)

1. (a) 음이오성 계면활성제, 쯔비터이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 합성 계면활성제 10 내지 30%, (b) 평균 입자 크기가 25㎛ 미만인 설레늄설파이드 0.1 내지 5.0%, (c) 크산탄 고무 0.2 내지 0.4%, (d) 마그네슘 알루미늄 실리케이트 0.5 내지 2.0% 및 (e) 나머지 물을 포함하는 로션 샴푸 조성물.
2. 제1항에 있어서, 계면활성제가 음이온성인 샴푸 조성물.
3. 제2항에 있어서, 음이온성 계면활성제가 알킬 설페이트, 에톡시화 알킬 설페이트 및 이들의 혼합물 중에서 선택되는 샴푸 조성물.
4. 제3항에 있어서, 비휘발성 실리콘을 0.1 내지 10%의 수준으로 추가로 함유하는 샴푸 조성물.
5. 제4항에 있어서, 아미드를 1 내지 10%의 수준으로 추가로 함유하는 샴푸 조성물.
6. 제5항에 있어서, 비휘발성 실리콘이 실리콘 유체와 실리콘 고무의 혼합물인 샴푸 조성물.