KR970003409A - 공정액 분사노즐 조립체 - Google Patents

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KR970003409A
KR970003409A KR1019950017269A KR19950017269A KR970003409A KR 970003409 A KR970003409 A KR 970003409A KR 1019950017269 A KR1019950017269 A KR 1019950017269A KR 19950017269 A KR19950017269 A KR 19950017269A KR 970003409 A KR970003409 A KR 970003409A
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
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Abstract

본 발명은 웨이퍼의 표면에 공정액을 균일한 상태로 분사시킬 수 있는 분사노즐 조립체에 관한 것이다.
본 발명은 분사노즐 하단에 고정된 일정면적을 가진 중공(中空)의 원판형 보조 노즐을 분사 노즐과 연통되도록 결합하며, 보조 노즐의 하단에는 지름선상에 다수의 분사구가 형성되게 구성하였다. 또한, 다수의 분사구는 보조 노즐의 중심부에서 외곽면으로 갈수록 그 직경이 점차 감소되게 구성함과 동시에 웨이퍼의 회전방향과 반대방향으로 회전되도록 하였다.

Description

공정액 분사노즐 조립체
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 분사노즐의 저면도, 제4도는 본 발명을 이용하여 공정액 분사상태를 도시한 측면도.

Claims (4)

  1. 회전하는 웨이퍼 표면에 공정액을 분사시키는 공정액 분사 노즐에 있어서, 상기 분사노즐 하단에 고정된 일정면적을 가진 중공(中空)의 원판형 보조 노즐을 상기 분사 노즐과 연통되도록 결합하며, 상기 보조 노즐의 하단에는 전면적에 걸쳐 다수의 분사구가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 공정액 분사노즐 조립체.
  2. 제1항에 있어서, 상기 각 분사구는 상기 보조 노즐 저면의 다수의 지름선상에 배열되는 것을 특징으로 하는 공정액 분사노즐 조립체.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 다수의 분사구는 보조 노즐의 중심부에서 외곽면으로 갈수록 그 직경이 점차 감소되는 형태로 구성된 것을 특징으로 하는 공정액 분사노즐 조립체.
  4. 제1항에 있어서, 상기 분사 노즐 조립체는 웨이퍼의 회전방향과 반대방향으로 회전되도록 구성한 것을 특징으로 하는 공정액 분사노즐 조립체.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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