Claims (22)
편광막의 최상층 표면에 무기질막을 형성한 것을 특징으로 하는 액정표시장치.Wherein an inorganic film is formed on the uppermost layer surface of the polarizing film.
기판상에 투명전극, 절연막, 배향막, 편광막을 순차 적층한 액정표시장치로서, 상기 편광막의 최상층 표면에 무기질막을 형성한 것을 특징으로 하는 액정표시장치.A liquid crystal display device comprising a transparent electrode, an insulating film, an alignment film, and a polarizing film sequentially laminated on a substrate, wherein an inorganic film is formed on the uppermost surface of the polarizing film.
편광막의 최상층 표면에 무기질막을 형성한 액정표시장치로서, 상기 무기질막 중에 있어서의 규소의 결함수가 1010∼1014개/㎤인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.Wherein an inorganic film is formed on the uppermost layer surface of the polarizing film, wherein the number of defects of silicon in the inorganic film is 10 10 to 10 14 / cm 3.
편광막의 최상층 표면에 무기질막을 형성한 액정표시장치로서, 상기 무기질막의 표면저항이 109Ω/이하인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.Wherein an inorganic film is formed on the uppermost surface of the polarizing film, wherein the inorganic film has a surface resistance of 10 < 9 > / cm < Of the liquid crystal display device.
편광막의 최상층 표면에 무기질막을 형성한 액정표시장치로서, 상기 편광막의 상층에는 저굴절율, 하층에는 고굴절율의 상기 무기질막을 적층하거나 또는 이 적층막을 다층으로 쌓아올린 것을 특징으로 하는 액정표시장치.Wherein an inorganic film is formed on the uppermost surface of the polarizing film, wherein the inorganic film having a low refractive index and a high refractive index are laminated on the upper and lower layers of the polarizing film, respectively.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 무기질막이 대전방지막, 반사방지막, 반사대전방지막중의 어느 하나임을 특징으로 하는 액정표시장치.The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 5, wherein the inorganic film is any one of an antistatic film, an antireflection film, and a reflective antistatic film.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 무기질막이 산화물인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 5, wherein the inorganic film is an oxide.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 무기질막은 산화물박막의 적층막임을 특징으로 하는 액정표시장치.The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 5, wherein the inorganic film is a laminated film of an oxide thin film.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 무기질막은 도전성미립자를 함유하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치.The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 5, wherein the inorganic film contains conductive fine particles.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 무기질막의 연필경도가 2H 이상인 것을 특징으로 하는 액정표시장치.The liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 5, wherein the inorganic film has a pencil hardness of 2H or more.
졸겔법에 의하여 M(OR)n(M:금속,R:저급알킬기,n:정수)으로 표시되는 금속알콕시드 용액의 도포막을 형성하는 도포막공정과, 상기 도포막을 광처리하여 경화하는 경화공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 무기질막을 가지는 액정표시장치의 제조방법.A coating film process for forming a coating film of a metal alkoxide solution represented by M (OR) n (M: metal, R: lower alkyl group, n: integer) by a sol-gel method and a curing step for curing the coating film by light treatment Wherein the inorganic film has a thickness of 100 nm or less.
졸겔법에 의하여 M(OR)n(M:금속,R:저급알킬기,n:정수)으로 표시되는 금속알콕시드 용액의 도포막을 형성하는 도포막공정과, 상기 도포막을 열처리한 후에 광처리하여 경화하는 경화공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 무기질막을 가지는 액정표시장치의 제조방법.A coating film process for forming a coating film of a metal alkoxide solution represented by M (OR) n (M: metal, R: lower alkyl group, n: integer) by a sol-gel method and a coating process for light- Wherein the liquid crystal display device comprises a curing process.
졸겔법에 의하여 M(OR)n(M:금속,R:저급알킬기,n:정수)으로 표시되는 금속알콕시드 용액의 도포막을 형성하는 도포막공정과, 상기 도포막을 열처리함과 동시에 광처리하여 경화하는 경화공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 무기질막을 가지는 액정표시장치의 제조방법.A coating film process for forming a coating film of a metal alkoxide solution represented by M (OR) n (M: metal, R: lower alkyl group, n: integer) by a sol-gel method and a coating process for heat- And a curing step of curing the liquid crystal display device.
제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광처리는 자외광조사임을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.The manufacturing method of a liquid crystal display device according to any one of claims 11 to 13, wherein the light treatment is ultraviolet light irradiation.
제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광처리시의 기판 가열온도는 110℃이하인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.The method for manufacturing a liquid crystal display device according to any one of claims 11 to 13, wherein the substrate heating temperature at the time of the light treatment is 110 占 폚 or less.
제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 무기질막이 반사방지막, 대전방지막 혹은 반사대전방지막 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.The method for manufacturing a liquid crystal display device according to any one of claims 11 to 13, wherein the inorganic film is any one of an antireflection film, an antistatic film, and a reflective antistatic film.
편광막에 무기질막 형성용액을 도포하는 도포수단과, 상기 용액도포 후의 액정표시장치를 이송하는 이송수단과, 상기 도포막을 광경화하는 광조사수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조장지.A coating means for applying an inorganic film forming solution to the polarizing film, a conveying means for conveying the liquid crystal display after the application of the solution, and a light irradiation means for photo-curing the coating film. Long live.
편광막에 무기질막 형성용액을 도포하는 도포수단과, 상기 용액도포 후의 액정표시장치를 이송하는 이송수단과, 상기 도포막을 가열하는 가열수단과, 상기 도포막을 광경화하는 광조사수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조장치.A coating means for coating the polarizing film with an inorganic film forming solution; a conveying means for conveying the liquid crystal display after the application of the solution; a heating means for heating the coating film; and a light irradiation means for curing the coating film And the liquid crystal display device.
편광막에 무기질막 형성용액을 도포하는 도포수단과, 상기 용액도포 후의 액정표시장치를 이송하는 이송수단과, 상기 도포막을 가열하는 가열수단과, 상기 도포막을 열처리하는 동시에 상기 도포막을 광경화하는 광조사수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조장치.A coating means for coating a polarizing film with an inorganic film forming solution; a conveying means for conveying the liquid crystal display device after application of the solution; a heating means for heating the coating film; and a light- And an irradiating means for irradiating the liquid crystal display panel with light.
제17항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 도포수단은 졸겔법에 의하여 M(OR)n(M:금속,R:저급알킬기,n:정수)으로 표시되는 금속알콕시드 용액의 도포막을 형성시키는 것임을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조장치.The method of any one of claims 17 to 19, wherein the applying means is a coating method of applying a metal alkoxide solution represented by M (OR) n (M: metal, R: lower alkyl group, n: integer) Wherein the liquid crystal display device is a liquid crystal display device.
제17항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광조사수단은 자외선을 조사하는 것임을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조장치.The apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to any one of claims 17 to 19, wherein the light irradiating means irradiates ultraviolet light.
제17항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광조사수단의 기판 가열온도는 110℃이하임을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조장치.The apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to any one of claims 17 to 19, wherein the substrate heating temperature of the light irradiation means is 110 캜 or less.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: It is disclosed by the contents of the first application.