KR960030341A - 분진제거방법 및 그 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 분진발생원, 특히 반도체 소자 제조공정으로부터 발생하는 0.3㎛ 정도 이하의 분진을 장기간에 걸쳐 효율적으로 포획할 수 있고, 더욱이 장치의 소형화 및 콤팩트화를 꾀할 수 있게 한 분진제거방법 및 그 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은 분진발생원으로부터의 분진을 함유하는 기체를 필터로 유도하여 분진을 분리시켜 회수하는 분진의 제거방법에 있어서, 상기 기체를 집진장치에 도입하기전에 상기 기체로부터 유분 및 수분을 제거한 후, 통형으로 형성된 집진장치의 필터의 안쪽으로부터 바깥쪽으로 상기 기체를 관류시켜 여과하는 것을 특징으로 한다.

Description

분진제거방법 및 그 장치

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 본 발명 장치의 구성도.

Claims (21)

1. 분진발생원으로부터의 분진을 함유하는 기체를 필터로 유도하여 분진을 분리시켜 회수하는 분진의 제거방법에 있어서, 상기 기체를 집진장치로 도입하기 전에 상기 기체로부터 유분 및 수분을 제거한 후, 통형으로 형성된 집진장치의 필터의 안쪽에서 바깥쪽으로 상기 기체를 관류시켜 여과하는 것을 특징으로 하는 분진제거방법.
2. 제1항에 있어서, 분진제거기구가 집진장치의 필터의 내주면에 접촉시켜, 정위치에서 회전가능하게 또는 좌우 또는 상하로 이동시키면서 회전가능하게 형성함으로써, 상기 필터의 내주면을 청소하여 그 필터에 포착된 분진을 제거·회수하는 것을 특징으로 하는 분진제거방법.
3. 제2항에 있어서, 분진제거기구가 집진장치의 필터에 내접하여 수시로 또는 상시 연속하여 작동되는 것을 특징으로 하는 분진제거방법.
4. 제2항 또는 제3항에 있어서, 분진제거기구가 분진제거용 회전브러시 또는 분진 긁어내기용의 주걱인 것을 특징으로 하는 분진제거방법.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 분진발생원으로부터의 분진을 함유하는 기체를 수평회전하는 액분리용 회전브러시의 아래쪽으로부터 윗쪽으로 통하여, 그 액분리용 회전브러시의 털의 사이에 수분 및 유분을 포착시키고, 이 액분리용 회전 브러시에 포착된 수분 및 유분을 원심력에 의하여 이 액분리용 회전브러시의 주위에 설치한 액분리실의 내부면으로 운반하여, 자중에 의하여 액분리실의 내주면을 따라 낙하시켜 액분리실내의 바닥부에 저류하는 한편, 액분리용 회전브러시의 윗쪽으로 통과한 기체를 집진장치로 유도하도록 구성하는 것을 특징으로 하는 분진제거방법.
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 분리된 수분이나 유분 또는 수분과 유분을 액분리실의 바닥부에 배치한 흡수성 폴리머, 흡유성 폴리머 또는 흡수성 폴리머와 흡유성 폴리머의 적층체에 흡수시켜, 이들 폴리머와 함께 폐기하는 것을 특징으로 하는 분진제거방법.
7. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 집진장치로부터 낙하하는 분진을 액분리실에 낙하시켜, 그 액분리실의 바닥부에 저류시키는 것을 특징으로 하는 분진제거방법.
8. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 분진발생원이 반도체소자 제조공정에 있어서의 분진을 발생하는 설비 및 이에 부대하는 설비인 것을 특징으로 하는 분진제거방법.
9. 분진발생원으로부터 도입한 분진을 함유하는 기체중의 분진을 필터로 여과하여 제거하는 집진장치를 갖춘 분진의 제거장치에 있어서, 분진발생원으로부터 집진장치에 도입되는 기체중의 수분 및 유분을 미리 제거하는 액분리장치가 설치되어 있는 한편, 상기 집진장치는 통형상의 형성된 필터와, 이 필터의 바깥주위에 형성되는 정기실과, 이들 필터 및 정기실을 둘러싸고, 또한 필터의 개구부로부터 안쪽으로 액분리장치로부터의 기체를 도입하는 도입구와, 정기실을 외부로 연이어 통하는 도출구를 가진 갑체와, 필터의 내주면에 접촉하여 회전하는 분진제거기구와, 이 분진제거기구를 구동하는 구동장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 분진제거장치.
10. 제9항에 있어서, 액분리장치가 액분리용 회전브러시를 갖추고 있으며, 이 액분리용 회전브러시가 원반형상 혹은 나선형상으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 분진제거장치.
11. 제9항 또는 제10항에 있어서, 분진발생원으로부터 차례로 액분리장치, 집진장치를 거쳐 외부로 흐르는 기류를 형성하는 송풍기가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 분진제거장치.
12. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 액분리장치가 내부에 종축원통형의 액분리실과, 이 액분리실의 하부에 분진발생원의 기체를 도입하는 입구와, 액분리실의 상부로부터 집진장치에 기체를 유출시키는 출구를 가진 갑체와, 상기 액분리실을 입구와 출구와의 사이에서 종축심 둘레에 회전가능하게 배치되며, 또한 상기 분리실을 횡단하는 원반형상 또는 나선형상의 액분리용 회전브러시와, 이 액분리용 회전브러시를 구동하는 구동장치를 구비한 것을 특징으로 하는 분진제거장치.
13. 제9항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 액분리실의 바닥부에 흡수성 폴리머, 흡유성 폴리머 또는 흡수성 폴리머와 흡유성 폴리머의 적층체가 배치되는 것을 특징으로 하는 분진제거장치.
14. 제9항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 액분리실의 하부가 그 상부로부터 분리 가능하게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 분진제거장치.
15. 제9항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 집진장치의 분진제거기구가 분진제거용 회전브러시로 이루어지고, 이 분진제거용 회전브러시가 집진장치의 필터의 축심에 위치하는 중심축을 중심으로하여 털이 나선면을 형성하도록 나란한 나선브러시로 이루어지며, 이 나선브러시가 집진장치의 구동장치에 의하여 회전하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 분진제거장치.
16. 제9항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 집진장치의 분진제거기구가 집진장치의 필터의 축심에 위치하는 중심축과, 이 중심축에 식모된 털로 이루어지고, 이 털이 필터의 내주면에 접촉하여, 그 구동장치에 의하여 회전함으로써 필터의 분진을 제거하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 분진제거장치.
17. 제9항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 집진장치의 도입구가 액분리실의 윗쪽에 배치되고, 또한 이 액분리실의 출구에 겸용되는 것을 특징으로 하는 분진제거장치.
18. 제9항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 집진장치의 필터가 안쪽으로부터 바깥쪽으로 차례로 틈이 작아지는 3층 이상의 필터를 적층한 적층필터로 구성되는 것을 특징으로 하는 분진제거장치.
19. 제18항에 있어서, 적층필터가, 틈의 크기가 200㎛ 정도의 제1층 필터와, 틈의 크기가 50~200㎛인 제2층 필터와, 틈의 크기가 제2층 필터보다도 작고 1㎛보다 큰 제3층 필터로 된 3층의 적층필터로 된 것을 특징으로 하는 분진제거장치.
20. 제15항 또는 제16항에 있어서, 적층필터의 두께가 5mm 이상이고, 제1층 필터의 두께가 적층필터 전체의 두께의 20~50%이고, 제2층 필터의 두께가 적층필터 전체의 두께의 30~60%이고, 제3층 필터의 두께가 적층필터 전체의 두께의 1~25%인 것을 특징으로 하는 분진제거장치.
21. 제9항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, 분진발생원이 반도체소자 제조공정에 있어서의 분진발생설비 및 이에 부대하는 분진발생설비인 것을 특징으로 하는 분진제거장치.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.