KR960028962A - 고형물의 함유한 뜨거운 가스를 냉각시키기 위한 자기-세척 장치 - Google Patents

고형물의 함유한 뜨거운 가스를 냉각시키기 위한 자기-세척 장치 Download PDF

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포스투마 알베르트
람메르트 주이데벨트 피에테르
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알베르투스 빌헬무스 요아네스 쩨스트라텐
셀 인터나쵸나아레 레사아치 마아츠샤피 비이부이
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Abstract

본 발명은 고형물을 함유한 뜨거운 가스를 냉각시키기 위한 자기-세척 장치에 관한 것이다. 이 장치는 가스 유입구 및 가스 배출구를 가진 용기 및 세로로 뻗어있고 다수의 가스 통로를 형성하는 다수의(대류식) 열 전달 표면으로 구성된다. 열 전달 표면들 사이의 통로의 전체 유입구 단면적인 가스 속도가 일정하게 유지되는 방식으로 공정 온도를 감소시키는 방향으로 감소된다.

Description

고형물의 함유한 뜨거운 가스를 냉각시키기 위한 자기-세척 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 가스냉각기의 종단면을 도식적으로 나타낸다. 제2a 및 2b도는 제1도의 가스냉각기에 사용된 헤더 장치의 부분 측면도를 도식적으로 나타낸다.

Claims (13)

  1. 고형물을 함유한 뜨거운 가스를 냉각시키기 위한 자기-세척 장치로서, 가스 유입구(2) 및 가스 배출구(3)를 가진 용기(1) 및 이 유입구(2)와 배출구(3) 사이에 용기(1) 내에서 세로 방향으로 뻗어있는 다수의 열 전달 표면(4)으로 구성되고 구조물내 다수의 가스 통로(13)를 형성하는 열 전달 구조물(7,10')로 구성되고, 이때 다수의 열 전달 표면이, 상기 구조물내 상기 가스 통로 (13)의 전체 유입구 단면적인 상기 가스 통로(13)들 사이의 전체 배출구 단면적보다 더 큰 방식으로 배치되고, 상기 가스 통로가 작업에서 이 가스통로로 통해 흐르는 가스의 속도가 이 가스 통로의 유입구 단면적과 배출구 단면적 사이에 실질적으로 일정하게 유지되도록 하는 방식으로 배치되는 장치.
  2. 제1항에 있어서, 용기(1)가 실질적으로 원통형으로 성형되는 장치.
  3. 제1 또는 2항에 있어서, 용기(1)가 실질적으로 수직으로 배치되는 장치.
  4. 제1∼3항 중 어느 한 항에 있어서, 가스 유입구(2)가 용기(1)의 상탑부에 또는 그 근처에 존재하고, 가스 배출구(3)가 용기(1)의 탑저부에 또는 그 근처에 존재하는 장치.
  5. 제1∼4항 중 어느 한 항에 있어서, 열 전달 구조물(1,10')이 막 파이프 벽 또는 케이지인 장치.
  6. 제1∼5항 중 어느 한 항에 있어서, 열 전달 표면(4)이 대류식 열 전달 표면인 장치.
  7. 제1∼6항 중 어느 한 항에 있어서, 각 열 전달 표면(4)이 작업에서 냉각 매질이 흐르는 냉각 관(10)의 패널로 구성되는 장치.
  8. 제6또는 7항에 있어서, 냉각 매질이 가스의 역방향으로 흐르는 장치.
  9. 제6∼8항 중 어느 한 항에 있어서, 냉각 매질이 물 또는 증기인 장치.
  10. 제1∼9항중 어느 한 항에 있어서, 열 전달 표면(4)들 사이에 가스 통로(13)의 전체 유입구 단면적은 다운스트림 방향으로 점차로 감소되어, 열 전달 표면의 장치가 점점 가늘어지는 장치.
  11. 제1∼10항 중 어느 한 항에 있어서, 가스 속도가 6∼12m/s 범위인 장치.
  12. 제10 또는 11항에 있어서, 상기 열 전달 표면(4)이 α=tan1/2(W1-W2)/M(여기서, M은 열 전달 구조물의 높이이고, W1 및 W2는 구조물의 유입구 및 배출구 각각에서 상기 구조물의 외부 열 전달 표면들 사이의 거리를 나타냄)의 각 α하에 배치되는 장치.
  13. 제12항에 있어서, α가 2.5° 이하인 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960001087A 1995-01-20 1996-01-19 고형물을 함유한 뜨거운 가스를 냉각시키기 위한 자기-세척장치 KR100390380B1 (ko)

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