KR960010902B1 - Process for the preparation of high purity amorphous spherical silica powder - Google Patents

Process for the preparation of high purity amorphous spherical silica powder Download PDF

Info

Publication number
KR960010902B1
KR960010902B1 KR1019910016339A KR910016339A KR960010902B1 KR 960010902 B1 KR960010902 B1 KR 960010902B1 KR 1019910016339 A KR1019910016339 A KR 1019910016339A KR 910016339 A KR910016339 A KR 910016339A KR 960010902 B1 KR960010902 B1 KR 960010902B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
silica powder
spherical silica
high purity
prepared
powder
Prior art date
Application number
KR1019910016339A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR930005908A (en
Inventor
전영관
최형근
이동주
Original Assignee
쌍용양회공업주식회사
우덕창
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 쌍용양회공업주식회사, 우덕창 filed Critical 쌍용양회공업주식회사
Priority to KR1019910016339A priority Critical patent/KR960010902B1/en
Publication of KR930005908A publication Critical patent/KR930005908A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR960010902B1 publication Critical patent/KR960010902B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

The process includes the steps of smashing silica powders with mill including polyurethane, nylons or elastic organics, silica rock ball or melted crystal ball at 10-40 r. p. m. during 0.5-5 hours and spray drying it so as to form spherical silica powders; and heat-treating these powders at 500-1300 deg.C during one minute or two hours in rotary kiln.

Description

치밀한 고순도 비정질 구상 실리카분말의 제조방법.Method for producing dense high purity amorphous spherical silica powder.

제1도는 본 발명에 따라 제조된 구상 실리카분말의 열처리전후 주사전자현미경사진(배율 : 10,000배)이고,1 is a scanning electron micrograph (magnification: 10,000 times) before and after heat treatment of the spherical silica powder prepared according to the present invention,

제2도는 본 발명과 종래방법으로 제조된 구상실리카분말의 주사전자현미경사진(배율 : 1,000배)이다.2 is a scanning electron micrograph (magnification: 1,000 times) of spherical silica powder prepared by the present invention and the conventional method.

본 발명은 치밀한 고순도 비정질 구상 실리카분말의 제조방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 규산알칼리와 산과의 중화반응의 결과로 생성된 과립의 실리카분말을 분무건조시키기 전에 해쇄공정을 통해 고순도의 구상 실리카분말을 제조하고, 이를 열처리하여서 되는 치밀한 고순도 비정질 구상 실리카분말의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing dense high purity amorphous spherical silica powder. More specifically, before the spray-drying of the silica powder of granules produced as a result of neutralization of alkali silicate with acid, a high-purity spherical silica powder is prepared through a pulverization process and heat-treated to obtain a dense high-purity amorphous spherical silica powder. It relates to a manufacturing method.

고순도 실리카분말은 집적회로 봉지재용 수지, 고무등 각종 충전재, 기판, 전자재료 및 반도체 제조용 치구에 사용되는 고순도 실리카 유리원료로 이용되고 있으며, 특히 열적, 전기특성이 우수하여 그 사용범위가 날로 늘어나고 있다. 또한, 구상 실리카분말을 유동성 및 성형성등을 향상시키고, 성형시 몰드의 마모면에서 유리하여 고품위용으로서 그 이용분야가 확장되고 있다.High purity silica powder is used as a high purity silica glass raw material used for various fillers such as resin and rubber for integrated circuit encapsulation materials, substrates, electronic materials, and jig for semiconductor manufacturing, and its range of use is increasing due to its excellent thermal and electrical properties. . In addition, the spherical silica powder improves fluidity and moldability, and is advantageous in terms of wear of the mold during molding, and its application field is being expanded for high quality.

고순도 실리카분말의 제조방법으로는 고품위의 규석 및 천연수정등을 정제하는 방버1이 있다. 그러나, 이 방법은 고순도의 원료를 점점 구하기가 어려워서 현실성이 없어지고 있는 방법이다. 다른 방법으로는 일본특개소 62-21703에 사염화규소의 기상분해법에 대해 게재되어 있으나, 이 방법에서 사용하는 원료는 고가이며, 부식성 및 가연성등이 있어 취급하기가 곤란한 문제가 있다. 또 다른 방법으로는 일본특개소 60-90811호와 소63-35411호에 규산알칼리와 규소 알콕사이드를 사용한 습식법에 대해 게재되어 있으나, 실제로 규산알칼리를 이용한 산중화반응(일본특공 평 1-21093호)이 규소 알콕사이드를 사용하는 것이 비해 경제성 및 취급성면에서 더 용이하여 상기 일본특개소 63-35411호의 기술은 거의 사용되고 있지 못한 실정이다.As a method for producing high purity silica powder, there is a method for refining high quality silica and natural crystals. However, this method is increasingly difficult to obtain a high-purity raw material, which is becoming a reality. As another method, Japanese Patent Laid-Open No. 62-21703 discloses a gas phase decomposition method of silicon tetrachloride, but the raw materials used in this method are expensive, and there are problems such as corrosiveness and flammability, making it difficult to handle. As another method, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 60-90811 and 63-35411 disclose a wet method using alkali silicate and silicon alkoxide, but in fact, acid neutralization reaction using alkali silicate (Japanese Patent Publication No. 1-21093) Compared with the use of silicon alkoxides, it is easier in terms of economics and handling, and therefore the technique of Japanese Patent Laid-Open No. 63-35411 is rarely used.

그리고, 일본특공평 1-21093호에는 규산 알칼리를 원료로 하여 고순도의 실리카분말을 제조하는 방법에 대해 게재되어 있는데, 이 방법에서는 산과의 중화반응으로 Na2O를 제거하는 방법과 이온교환수지를 이용하여 제조하는 실용적인 방법등이 소개되어 있다. 특히 상기 방법에서 제조되는 실리카분말은 반응조건(반응시 산농도, SiO2/Na2O 몰비, 반응온도, 반응시간)에 따라 SiO2의 순도를 99.99%∼99.999%까지 가능하며, 분말의 크기도 수 nm∼수 mm까지 제조가 가능하다. 하지만, 수 nm 크기의 분말은 다음 공정(여과분리, 세척)이 어렵고, 2mm 이상의 웅집체들은 알칼리(Na2O)나 토륨(Th) 등의 성분의 완전히 제거되지 않아 순도에 문제점이 있다.In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-21093 discloses a method for producing silica powder of high purity using alkali silicate as a raw material. In this method, Na 2 O is removed by neutralization with acid and ion exchange resin. Practical methods to manufacture by using are introduced. In particular, the silica powder prepared in the above method is capable of purifying SiO 2 from 99.99% to 99.999% according to the reaction conditions (acid concentration during reaction, SiO 2 / Na 2 O molar ratio, reaction temperature, reaction time), and powder size. It can manufacture to several nm-several mm. However, the powder of several nm size is difficult to the next process (filtration separation, washing), and more than 2mm aggregates have a problem in purity because the components such as alkali (Na 2 O) or thorium (Th) is not completely removed.

한편, 종래에 구상 실리카분말의 제조는 먼저 미세한 실리카분말을 제조한 후 분무건조기를 이용하여 구상 실리카분말을 제조하는 일본특개소 60-191016호가 있으나, 역시 미세 실리카분말은 전술한 바와 같이 여과분리가 세첵등이 어려워 고순도로 얻기가 어렵고, 반대로 고순도를 얻기 위해 과립의 실리카를 그대로 분무건조하게 되면 입자크기가 큰(50μm 이상) 분말이 혼재되어 원하는 입자크기 및 구형을 얻기가 어려운 문재가 있다.On the other hand, conventionally, the preparation of spherical silica powder is Japanese Patent Laid-Open No. 60-191016, which manufactures a fine silica powder and then uses a spray dryer to produce spherical silica powder. Difficult to obtain with high purity because it is difficult to wash, etc. On the contrary, when spray drying the silica of the granules as it is to obtain a high purity, a large particle size (50 μm or more) powder is mixed, there is a problem that it is difficult to obtain the desired particle size and spherical shape.

종래, 구상 실리카분말은 용도에 따라 충전재로 사용하기에는 입자가 다공성이고 결합체가 잔류하고 있어 순도에 문제가 있었으며, 몰드로 성형할때 압력에 의해 구형을 유지하지 못하여 구상 충전재의 효과가 반감되었고, 치밀성(충전성)도 나쁜 결점이 있었다.Conventionally, the spherical silica powder has a problem in purity because the particles are porous and the binder remains according to the purpose, and the effect of the spherical filler is halved because it cannot maintain the spherical shape by the pressure when molding into a mold. (Chargeability) also had a bad flaw.

이를 해결하기 위하여, 일본특개평 2-59416호와 일본특개소 60-131868호에서 각각 가스화염을 이용하여 용사하는 방법을 소개하고 있으나, 전자의 방법에서는 사용입도가 50μm로 제한을 받는 문제가 있고, 후자의 방법은 진구상태에서 화염용융에 의해 타원형으로 되거나, 용착에 의해 입자크기가 커져서 본래의 입도를 유지하지 못하거나, 구상 실리카분말에 균열이 발생하는 결점이 발생하며, 용사후에 포접시 내화물에서 혼입되는 불순물로 순도가 나빠지는 등의 단점이 나타났다.In order to solve this problem, Japanese Patent Laid-Open No. 2-59416 and Japanese Patent Laid-Open No. 60-131868 introduce a method of thermal spraying using a gas flame, respectively, but the former method has a problem that the use particle size is limited to 50 μm. In the latter method, the flaw becomes elliptical by flame melting in the spherical state, the particle size is not maintained due to the increase of the particle size, or cracks occur in spherical silica powder. The disadvantage is that the purity is poor as impurities mixed in.

또한, 일본특개소 62-96313호에는 예비소성을 한 후 용사처리하는 방법이 소개되어 있으나, 예비소성후의 용사시 화염의 온도를 1850℃ 이상으로 유지해 주어야 되므로 제조공정이 복잡하고, 제조비용도 증가할 뿐 아니라 전술한 바와 같은 용사분말의 단점도 있다.In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-96313 introduces a method for thermal spraying after prefiring, but during the thermal spraying after prefiring, the flame temperature must be maintained at 1850 ° C or higher, which makes the manufacturing process complicated and increases the manufacturing cost. In addition, there are disadvantages of the thermal spray powder as described above.

이에 본 발명의 목적은 종래의 이와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 고순도의 구상 실리카분말을 제조할 때 해쇄공정을 추가하고, 치밀성을 향상시키기 위해 열처리공정을 실시하여 보다 치밀성이 우수한 고순도의 비정질 구상 실리카분말을 제조하는 방법을 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to solve such a problem in the prior art, and when the high-purity spherical silica powder is prepared, a disintegration step is added, and a heat treatment step is performed to improve the compactness. It is to provide a method for producing a silica powder.

이하 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명은 규산 알칼리와 산을 중화반응시켜서 제조된 실시카분말을 분무건조시켜서 구상 실리카분말로 하고 이로부터 치밀한 고순도 비정질 구상 실리카분말을 제조하는 방법에 있어서, 상기 실리카분말을 유기물이 내장된 밀, 규속볼 또는 용융석영볼로 습식 또는 건식해쇄시킨 후에 분무건조하여 구상 실리카분말을 제조한 후 이를 500 내지 1300℃에서 1분 내지 2시간동안 열처리하여서 되는 치밀한 고순도 비정질 구상 실리카분말의 제조방법인 것을 특징으로 한다.The present invention provides a spherical silica powder obtained by neutralizing a silicic acid alkali and an acid with a spray-dried powder to form a spherical silica powder, wherein the silica powder is an organic matter-containing mill, After wet or dry pulverization with a quartz ball or a molten quartz ball, it is spray dried to prepare a spherical silica powder, which is then subjected to heat treatment at 500 to 1300 ° C. for 1 minute to 2 hours to prepare a high-purity amorphous spherical silica powder. It features.

이하 본 발명을 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명에서는 일본특개평 1-21092호와 같이 규산 알칼리와 산을 중화반응시켜서 고순도의 실리카분말을 제조한 것을 사용하는데. 본 발명에서는 작업성이나 순도를 고려하여 상기 실리카분말의 입자크기를 1μm 내지 2mm로 하여 제조한 것을 사용한다.In the present invention, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-21092, a neutralized reaction of an alkali silicate and an acid is used to prepare a silica powder of high purity. In the present invention, in consideration of the workability and purity, the particle size of the silica powder is prepared to be 1μm to 2mm.

본 발명에서는 상기에서 얻어진 고순도의 실리카분말을 먼저 습식 또는 건식해쇄시킨 후 분무건조기를 이용하여 조립시켜 원하는 입자크기를 갖는 고순도의 구상 실리카분말을 제조한다.In the present invention, the high purity silica powder obtained above is first wet or dry pulverized and then granulated using a spray dryer to prepare a high purity spherical silica powder having a desired particle size.

이때, 해쇄공정을 상기와 같이 습식이나 건식해쇄공정으로 할 수 있으나 분무건조공정을 연속적으로 실시하기 위해서는 습식해쇄로 하는 것이 더 바람직하며, 그 결과로 1μm 이하의 분말을 제조한다. 특히 본 발명에 따른 해쇄공정은 유기물, 예를 들면 폴리우레탄, 고무 또는 나일론등이 내장된 밀어나 20 내지 30mm의 규석볼 또는 용융석영볼을 이용하여 해쇄를 실시한다.At this time, the disintegration process may be a wet or dry disintegration process as described above, but in order to continuously perform the spray drying process, it is more preferable to use wet disintegration, and as a result, powder of 1 μm or less is produced. In particular, the disintegration process according to the present invention performs the disintegration using an organic material, for example, a polyurethane or rubber or nylon embedded rod or a 20 to 30 mm quartz ball or molten quartz ball.

여기서, 볼밀의 회전수는 분당 10 내지 40회로 하는 것이 좋으나, 바람직하기로는 분당 15 내지 30회가 좋다. 만일 볼밀의 회전수를 분당 10회 미만으로 할 경우에는 해쇄공정이 어렵게 되고, 반대로 40회를 초과하는 경우에는 내장재 및 볼의 마모가 커져서 좋지 않다.The rotation speed of the ball mill is preferably 10 to 40 times per minute, but preferably 15 to 30 times per minute. If the number of revolutions of the ball mill is less than 10 times per minute, the disintegration process becomes difficult. On the contrary, if the ball mill exceeds 40 times, the wear of the interior materials and the balls is not good.

그리고, 해쇄시간은 30분 내지 5시간동안 실시하는 것이 적당하데, 1시간 내지 2시간 동안 실시하는 것이 더 바람직하다.In addition, the disintegration time is appropriately performed for 30 minutes to 5 hours, more preferably for 1 hour to 2 hours.

상기와 같이 해쇄된 실시카분말의 이장(이裝)은 분무건조기를 통해서 원하는 입도, 예를 들면 1 내지 수백 μm의 크기로 구상의 실리카분말로 제조되는데, 이때 분무건조기의 기기조건(디스크 회전속도, 분사속도, 결합재의 양, 원료투입속도, 입구/출구 온도등)을 조절하여 원하는 크기의 구상 실리카분말을 얻을 수 있다.The two sheets of the disintegrated car powder are manufactured as spherical silica powders having a desired particle size through a spray dryer, for example, 1 to several hundred μm, wherein the equipment conditions of the spray dryer (disk rotation speed) , Spherical silica powder of desired size can be obtained by adjusting injection speed, amount of binder, raw material input speed, inlet / outlet temperature, etc.

본 발명에서는 상기에서 얻어진 구상의 실리카분말이 해쇄시 혼입된 유기물에 의해 속도가 저하되는 것을 방지하고, 또 치밀성(충전성)도 향상시키기 위해 열처리공정을 수행하게 된다. 즉, 본 발명에 따른 열처리 공정은 상자로 (Box furnace)에서 실시하면 입자간에 응집이 생길 우려가 있어 유동층 하소로나 회전로(Ratary kiln)에서 실시한다. 이중에서도 오염도가 낮은 유동층 하소로에서 열처리를 수행하는 것이 더 바람직하다.In the present invention, the spherical silica powder obtained as described above is subjected to a heat treatment step to prevent the speed from being lowered by the organic substances mixed during the disintegration and to improve the compactness (filling property). That is, the heat treatment process according to the present invention may be carried out in a box furnace, so that aggregation may occur between particles. Therefore, the heat treatment process may be performed in a fluidized bed calcination furnace or a rotary kiln. More preferably, the heat treatment is performed in a fluidized bed calcination furnace with low pollution.

본 발명에 따른 열처리는 500 내지 1300℃의 온도에서 1분 내지 2시간동안 실시하는 것이 좋으나, 바람직하기로는 800 내지 1100℃에서 5분 내지 1시간동안 실시하는 것이 좋다. 여기서, 만일 열처리시간이나 온도를 상기 범위이상으로 하거나 구상 실리카분말에 Na2O가 존재하게 되면, 크리스토발라이트(Cristobalite) 결정상이 생기게 되므로 상기 조건에서 열처리를 수행하는 것이 바람직하다.Heat treatment according to the present invention is preferably carried out for 1 minute to 2 hours at a temperature of 500 to 1300 ℃, preferably at 800 to 1100 ℃ for 5 minutes to 1 hour. Here, if the heat treatment time or temperature is above the above range or Na 2 O is present in the spherical silica powder, cristobalite crystal phase is formed, so it is preferable to perform heat treatment under the above conditions.

이와 같이 구상의 실리카분말이 열처리되면, 실리카분말이 비정질상을 유지하면서 해쇄시 혼힙된 유기물이나 잔존하는 결합제 및 염소성분등이 휘발되어 보다 치밀한 구상의 실리카분말이 얻어지게 된다.When the spherical silica powder is heat-treated as described above, while the silica powder is maintained in an amorphous phase, organic matter, remaining binders, chlorine components, etc. mixed during the disintegration are volatilized to obtain a finer spherical silica powder.

이하 본 발명에 실시예에 의거 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

실시예Example

염산 3N 용액 2500ml를 70℃로 가열한 후 교반하면서 규산 알칼리 2호(Na2O 14중량%, SlO234중량%, SiO2/Na2O=2.4) 1400kg을 1시간에 걸쳐 첨가하였다. 이때 반응온도는 70℃ 이상으로 유지하였다. 첨가가 끝난 후에 이장을 90℃/3시간 교반하여 반응시켰다. 이 반응 이장을 고액분리하여 제조된 과립 실리카분말을 세정, 여과 및 건조하여 과립 실리카분말을 얻었다.3N hydrochloric acid was added over a period with stirring and then heated to 2500ml to 70 ℃ alkali silicate No. 2 (Na 2 O 14% by weight, SlO 2 34 wt%, SiO 2 / Na 2 O = 2.4) 1400kg per hour. At this time, the reaction temperature was maintained at 70 ℃ or more. After the addition was completed, the reaction was stirred by 90 ° C./3 hours. The granular silica powder prepared by solid-liquid separation of this reaction was washed, filtered and dried to obtain granular silica powder.

제조된 과립 실리카분말의 불순물 함유율은 다음 표 1과 같다.Impurity content of the prepared granular silica powder is shown in Table 1 below.

상기에서 제조된 과립 실리카는 폴리우레탄 내장 볼밀에 물 3400g에 대해 시료 900g을 넣어 습식해쇄시켰다. 이때 해쇄조건은 회전속도는 분당 20회, 시간은 1시간동안 실시하였다. 해쇄후에 실리카분말 이장을 분무건조기를 이용하여 구상화시켰다. 분무건조 조건은 디스크 회전속도를 분당 15,000회, 입출구 온도를 250℃와 100℃로 하고, 결합제로 비닐암코올중합체(PVA)를 0.1중량%로 첨가하였다.The granulated silica prepared above was wet crushed by putting 900 g of the sample with respect to 3400 g of water in a polyurethane built-in ball mill. At this time, the disintegration condition was performed 20 times per minute and time for 1 hour. After disintegration, the silica powder sheets were spheroidized using a spray dryer. Spray drying conditions were 15,000 times the rotation speed of the disk per minute, the inlet and outlet temperature was 250 ℃ and 100 ℃, and added as a binder vinyl vinyl polymer (PVA) 0.1% by weight.

이어서 구상화된 실리카분말을 유동충 하소로를 이용하여 1100℃에서 15분간 열처리를 하였다.Subsequently, the spherical silica powder was heat-treated at 1100 ° C. for 15 minutes using a fluidized packed calcination furnace.

이렇게 하여 얻어진 치밀화된 실리카분말은 X-선 회절분석(XRD) 결과 비정질상이었다. 또 제조된 구상의 실리카분말의 불순물 함유율은 다음 표 1과 같으며, 주사전자현미경사진은 첨부도면 제1도 및 제2도와 같다.The densified silica powder thus obtained was an amorphous phase as a result of X-ray diffraction analysis (XRD). The impurity content of the prepared spherical silica powder is shown in Table 1 below, and scanning electron micrographs are as shown in FIGS. 1 and 2.

첨부도면 제1도에서 제1(a)도는 열처리전의 구상살리카분말의 사진(배율 : 10,000배)이고, 제1(b)도는 열처리후의 사진(배율 : 10,000배)이다.1 (a) is a photograph (magnification: 10,000 times) of the spherical salica powder before heat treatment, and FIG. 1 (b) is a photograph (magnification: 10,000 times) after heat treatment.

제(a)도는 분무건조한 구상실리카분말의 사진(배율 : 1,000배)이다.(A) is a photograph (magnification: 1,000 times) of the spherical silica powder spray-dried.

염산 3N 용액 2500ml를 70℃로 가열한 후 교반하면서 규산 알칼리 2호(NaO 14중량%, SlO34중량%, SiO/NaO=2.4) 1400kg을 1시간애 걸쳐 첨가하였다. 이때 반응온도는 70℃ 이상으로 유지하였다. 첨가가 끝난 후에 이장을 90℃/3시간 교반하여 반응시켰다. 이 반응 이장을 고액분리하여 제조된 과립 실리분말을 세정, 여과 및 거조하여 과립 실리카분말을 얻었다.After heating 2500 ml of 3N hydrochloric acid solution to 70 degreeC, 1400 kg of alkali silicate No. 2 (14 weight% of NaO, 34 weight% of S10, and SiO / NaO = 2.4) was added over 1 hour, stirring. At this time, the reaction temperature was maintained at 70 ℃ or more. After the addition was completed, the reaction was stirred by 90 ° C./3 hours. The granular silicide powder prepared by solid-liquid separation of this reaction was washed, filtered and roughened to obtain granular silica powder.

상기에서 얻어진 과립 실리카분말을 분무건조시키되 분무건조 조건은 디스크 회전속도를 분당 15,000회, 입출구 온도를 250℃와 100℃로 하고, 결합제로는 비닐알콜중합체(PVA)를 0.1중량%로 첨가하여 구상의 실리카분말을 얻었다.The granulated silica powder obtained above was spray-dried, but the spray-drying conditions were 15,000 times per minute of the disk rotation speed, the inlet and outlet temperatures were 250 ° C and 100 ° C, and the binder was added by adding 0.1% by weight of vinyl alcohol polymer (PVA). Silica powder was obtained.

이렇게 제조된 구상의 실리카분말을 화염용사기기를 이용하여 용사처리하여서 최종적인 구상의 실리카분말을 얻었다.The spherical silica powder thus prepared was sprayed using a flame spraying machine to obtain a final spherical silica powder.

상기 실리카분말의 주사전자현미경사진(배울 : 1,000배)은 첨부도면 제2(b)도와 같다.Scanning electron micrographs of the silica powder (learning: 1,000 times) are the same as those of the second drawing (b).

Claims (1)

규산 알칼리와 산을 중화반응시켜서 제조된 실리카분말을 분무 건조시켜서 구상 실리카분말로 하고, 이로부터 치밀한 고순도 비정질 구상 실리카분말을 제조하는 방법에 있어서, 상기 실리카분말을 폴리우레탄, 나일론 또는 고무인 유기밀이 내장된 밀, 규석볼 또는 용융 석영볼로 밀의 분당 회전수를 10 내지 40회, 해쇄시간을 30분 내지 5시간의 조건으로 습식 또는 건식 해쇄시킨 후에 분무 건조하여 구상 실리카분말을 제조한 후, 이를 500 내지 1300℃에서 1분 내지 2시간 동안 유동층 하소로나 회전로에서 열처리하여서 되는 것을 특징으로 하는 치밀한 고순도 비정질 구상 실리카분말의 제조 방법.In the method for producing a spherical silica powder by spray drying a silica powder prepared by neutralizing an alkali silicate with an acid, and from the same, a high-purity amorphous spherical silica powder is prepared. The spherical silica powder was prepared by spray drying after wet or dry disintegration with a built-in mill, silica ball or fused quartz ball at 10 to 40 revolutions per minute and a disintegration time of 30 minutes to 5 hours. Method for producing a dense high purity amorphous spherical silica powder, characterized in that the heat treatment in a fluidized bed calcination furnace or rotary furnace for 1 minute to 2 hours at 500 to 1300 ℃.
KR1019910016339A 1991-09-19 1991-09-19 Process for the preparation of high purity amorphous spherical silica powder KR960010902B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019910016339A KR960010902B1 (en) 1991-09-19 1991-09-19 Process for the preparation of high purity amorphous spherical silica powder

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019910016339A KR960010902B1 (en) 1991-09-19 1991-09-19 Process for the preparation of high purity amorphous spherical silica powder

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR930005908A KR930005908A (en) 1993-04-20
KR960010902B1 true KR960010902B1 (en) 1996-08-13

Family

ID=19320130

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019910016339A KR960010902B1 (en) 1991-09-19 1991-09-19 Process for the preparation of high purity amorphous spherical silica powder

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR960010902B1 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
KR930005908A (en) 1993-04-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2678280B1 (en) Method for producing high-purity silicon dioxide granules for quartz glass applications
JP2002362932A (en) PROCESS FOR PRODUCTION OF SiO2-CONTAINING COMPOSITE MATERIAL, COMPOSITE MATERIAL OBTAINED BY THE PRODUCTION PROCESS AND USE OF THE COMPOSITE MATERIAL
JPH02500972A (en) Improvements in and related to vitreous silica
KR20170132696A (en) Method for producing a pore-containing opaque quartz glass
JPS62176928A (en) Production of quartz glass powder
KR100294312B1 (en) Synthetic quartz glass powder and its manufacturing method
JP2001089125A (en) Porous silica granule, its production and production of synthetic quartz glass powder using the porous silica granule
US3762936A (en) Manufacture of borosilicate glass powder essentially free of alkali and alkaline earth metals
JP4988187B2 (en) Method for producing zeolite
KR960010902B1 (en) Process for the preparation of high purity amorphous spherical silica powder
JP2839725B2 (en) Method for producing high-purity crystalline silica
KR20130035712A (en) Super-hydrophobic silica aerogel granule and method of fabricating the same
KR101200718B1 (en) Fabrication method of high density & high fracture toughness silica radome
JPH0567574B2 (en)
JP3315172B2 (en) Method for producing silicon carbide powder
JP4286549B2 (en) Method for manufacturing mullite whiskers
JP7480659B2 (en) Transparent glass manufacturing method
JP3318946B2 (en) Powdery dry gel, silica glass powder, and method for producing silica glass melt molded article
JP2955672B2 (en) Silica filler for semiconductor resin encapsulation and method for producing the same
KR101994682B1 (en) Crystallized glass composition and crystallized glass using waste glass for architecture interior and exterior material producing method thereof
KR101643361B1 (en) Method for preparing easy sintering super-fine alumina of low viscosity
JPH0466809B2 (en)
NO179442B (en) Process for making silicon carbide powder
JPH092814A (en) Manufacture of lamellar crystalline sodium disilicate
KR102229815B1 (en) Manufacturing method of porous silica

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20000711

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee