Claims (11)
(A)에폭시 수지, (B)경화제, (C)경화촉진제 및, (D)평균 분자량수 1,000-10,000인 산화 폴리에틸렌 왁스, 평균 분자량수 1,000-10,000인 산화 폴리프로필렌 왁스 및 그 혼합물에서 선택된 저분자량 폴리올레핀 왁스(에폭시 수지, 경화제, 경화촉진제 및 전분자량 폴리올레핀 왁스의 총중량의 5-50중량%)를 포함하는 광-반도체 장치 몰딩용 몰드에 처리하는 몰드-윤활 물질.Low molecular weight selected from (A) epoxy resins, (B) curing agents, (C) curing accelerators, and (D) oxidized polyethylene waxes with an average molecular weight of 1,000-10,000, oxidized polypropylene waxes with an average molecular weight of 1,000-10,000, and mixtures thereof A mold-lubricating material which is subjected to a mold for molding an optical-semiconductor device comprising polyolefin wax (5-50% by weight of the total weight of the epoxy resin, the curing agent, the curing accelerator, and the starch polyolefin wax).
제1항에서, 모오스 경도 1-7의 무기 충전제(filler), 유기 충전제 및 그 혼합물로 이루어지는 군에서 선택된 충전제(E)를 추가로 포함하는 몰드-윤활 물질.2. The mold-lubricating material of claim 1, further comprising a filler (E) selected from the group consisting of inorganic fillers of Mohs hardness 1-7, organic fillers and mixtures thereof.
제2항에서, 충전제가 에폭시 수지, 경화제, 경화촉진제, 저분자량 폴리올레핀 왁스 및 충전제의 총중량의 20-90중량%인 몰드-윤활 물질.3. The mold-lubricating material of claim 2, wherein the filler is 20-90% by weight of the total weight of the epoxy resin, curing agent, curing accelerator, low molecular weight polyolefin wax and filler.
제1항에서, 에폭시 수지의 에폭시기와 경화제의 하이드록실기가 하이드록실기에 대한 에폭시의 비율이 0.7-1.3의 범위이고, 경화촉진제가 에폭시 수지와 경화제의 총중량의 0.1-5중량%인 몰드-윤활 물질.The mold of claim 1, wherein the epoxy group of the epoxy resin and the hydroxyl group of the curing agent have a ratio of epoxy to the hydroxyl group in the range of 0.7-1.3, and the curing accelerator is 0.1-5% by weight of the total weight of the epoxy resin and the curing agent. Lubricating material.
제1항에서, 저분자량 폴리올레핀 왁스가 5-30의 산값을 갖는 몰드-윤활 물질.The mold-lubricating material of claim 1, wherein the low molecular weight polyolefin wax has an acid value of 5-30.
제3항에서, 에폭시 수지의 에폭시기와 경화제의 하이드록실기가 하이드록실기에 대한 에폭시의 비율이 0.7-1.3의 범위이고, 경화촉진제가 에폭시 수지와 경화제의 총중량의 0.1-5중량%인 몰드-윤활 물질.4. The mold of claim 3, wherein the epoxy group of the epoxy resin and the hydroxyl group of the curing agent have a ratio of epoxy to the hydroxyl group in the range of 0.7-1.3, and the curing accelerator is 0.1-5% by weight of the total weight of the epoxy resin and the curing agent. Lubricating material.
제3항에서, 저분자량 폴리올레핀 왁스가 5-30의 산값을 갖느 몰드-윤활 물질.4. The mold-lubricating material of claim 3, wherein the low molecular weight polyolefin wax has an acid value of 5-30.
제1항의 몰드-윤활 물질로 처리한 몰드 표면을 갖는 몰드를 이용하여 그 안에 든 광-반도체장치를 패키지 수지로 몰딩하는 것을 포함하는, 패키지화 광-반도체 장치를 생산하는 방법.A method of producing a packaged optical-semiconductor device comprising molding a photo-semiconductor device contained therein into a package resin using a mold having a mold surface treated with the mold-lubricating material of claim 1.
제8항에서, 몰드를 이용하여 몰드-윤활 물질을 몰딩함으로써 몰드의 표면을 몰드-윤활 물질로 처리하는 방법.The method of claim 8, wherein the surface of the mold is treated with a mold-lubricating material by molding the mold-lubricating material with the mold.
제8항에서, 몰드-윤활 물질이 모오스 경도 1-7의 무기 충전제, 유기 충전제 및 그 혼합물로 이루어지는 군에서 선택된 충전제(E)를 추가로 포함하는 방법.The method of claim 8, wherein the mold-lubricating material further comprises a filler (E) selected from the group consisting of inorganic fillers of MOS hardness 1-7, organic fillers and mixtures thereof.
제10항에서, 몰드를 이용하여 몰드-윤활 물질을 몰딩함으로써 몰드의 표면을 몰드-윤활 물질로 처리하는 방법.The method of claim 10, wherein the surface of the mold is treated with a mold-lubricating material by molding the mold-lubricating material with the mold.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.