KR960008712A - Method for manufacturing glass substrate and photomask for optical disc manufacturing - Google Patents

Method for manufacturing glass substrate and photomask for optical disc manufacturing Download PDF

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    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers

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Abstract

본 발명은 광디스크 제조용 포토마스크 및 유리기판의 제조방법에 관하여 개시한 것이다.The present invention discloses a photomask for manufacturing an optical disc and a method for manufacturing a glass substrate.

본 발명에 의한 광디스크 제조용 유리기판 및 포토마스크의 제조방법은 광디스크의 제조방법에 있어서 포토마스크의 영역별 투과율을 서로 다르게 설계하면, 감광제의 노광량을 조절할 수 있다는 점에 의해 착안된 것으로서, 레이저 컷팅법 또는 컨택트 프린팅법으로 프리포맷팅 잠상을 감광제 위에 형성시키고, 1차 엣칭과 1차 애슁(ashing) 및 2차 엣칭과 2차 애슁으로 이어지는 새로운 엣칭방법이 행하여졌다.The method for manufacturing a glass substrate and photomask for manufacturing an optical disc according to the present invention is conceived by the fact that when the transmittance for each region of the photomask is designed differently in the manufacturing method of the optical disc, the exposure amount of the photosensitive agent can be adjusted. Alternatively, a pre-formatting latent image was formed on the photosensitive agent by the contact printing method, and a new etching method was carried out, followed by primary etching and primary ashing, and secondary etching and secondary ashing.

따라서, 광디스크 유리기판의 양산은 본 발명에 의한 새로운 방법에 의해 실현 가능하며, 또한 폴리카보네이트 기판 생산을 위한 엣칭된 유리원판의 제작에도 응용이 가능한 것으로, 포토마스크와 유리기판을 제작함에 있어서 반복 엣칭 및 애슁공정에 의해 프리피트와 가이드 트랙의 깊이를 독립적으로 조절할 수 있도록 하였으며, 한 장의 원판으로 여러장의 스탬퍼를 복제할 수 있는 이점을 가질 수 있다.Therefore, the mass production of the optical disk glass substrate can be realized by the new method according to the present invention, and can also be applied to the production of the etched glass discs for the production of polycarbonate substrates. And by the ashing process to be able to independently control the depth of the prepit and the guide track, it can have the advantage of replicating multiple stampers with a single disc.

Description

광디스크 제조용 유리기판 및 포토마스크의 제조방법Method for manufacturing glass substrate and photomask for optical disc manufacturing

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음Since this is an open matter, no full text was included.

제4도는 본 발명에 의한 광디스크 제조용 포토마스크의 제조공정도.4 is a manufacturing process diagram of a photomask for manufacturing an optical disc according to the present invention.

Claims (11)

석영기판 위에 Ta를 스파터링(sputtering)하여 소정 두께의 Ta박막을 형성하는 단계와; 상기 Ta박막 위에 포지티브형(positive type) 감광제를 도포하여 감광제막을 형성하고 소정 온도에서 소정 시간동안 프리베이킹(prebaking)하는 단계와; 상기 감광제막 위에 적어도 둘 이상의 레이저빔을 집속시키고, 상기 기판을 회전시켜 상기 감광제막을 나선형으로 노광시키는 단계와; 상기 노광단계를 거친 감광제막을 현상하고 포스트베이킹(postbaking)하는 단계와; 상기 Ta막과 감광제막을 소정 개스를 이용하여 1차 드라이-엣칭하는 단계와; 상기 1차 엣칭단계에서 잔류된 감광제막을 소정 개스로 애슁하여 제거하는 단계와; 상기 1차 엣칭단계에서 잔류된 Ta막은 석영기판이 드러날때까지 소정 개스를 이용하여 2차 엣칭하는 단계와; 상기 노광단계에서 미노광된 부분의 잔류 감광제막을 프리피트 부분에는 Ta막이 없고, 가이드 트랙에는 소정 두께의 Ta막만 남도록 소정 개스를 이용하여 2차 애슁하는 단계;를 포함하여 된 것을 특징으로 하는 광디스크 제조용 포토마스크의 제조방법.Sputtering Ta on a quartz substrate to form a Ta thin film having a predetermined thickness; Applying a positive type photosensitive agent on the Ta thin film to form a photosensitive film and prebaking for a predetermined time at a predetermined temperature; Focusing at least two laser beams on the photoresist film and rotating the substrate to spirally expose the photoresist film; Developing and postbaking the photoresist film which has undergone the exposure step; Primary dry-etching the Ta film and the photoresist film using a predetermined gas; Ashing and removing the photoresist film remaining in the first etching step with a predetermined gas; Performing a second etching on the Ta film remaining in the first etching step using a predetermined gas until the quartz substrate is exposed; And secondly ashing the remaining photoresist film of the unexposed portion in the exposing step using a predetermined gas such that there is no Ta film on the prepit portion and only a Ta film of a predetermined thickness remains on the guide track. Method for producing a photomask. 제1항에 있어서, 상기 감광제막을 노광시키는 단계에서 상기 둘 이상의 레이저빔은 Ar레이저빔인 것을 특징으로 하는 광디스크 제조용 포토마스크의 제조방법.The method of claim 1, wherein the at least two laser beams in the exposing of the photoresist film are Ar laser beams. 제1항에 있어서, 상기 1차 엣칭 및 2차 엣칭단계에서 사용되는 개스는 CF4인 것을 특징으로 하는 광디스크 제조용 포토마스크의 제조방법.The method of claim 1, wherein the gas used in the first etching and the second etching steps is CF 4 . 제1항에 있어서, 상기 1차 엣칭단계에서 엣칭 후 잔류 Ta막은 그 두께가 λ/8n인 것을 특징으로 하는 광디스크 제조용 포토마스크의 제조방법.The method of claim 1, wherein the residual Ta film after etching in the first etching step has a thickness of λ / 8n. 제1항에 있어서, 상기 1차 애슁 및 2차 애슁단계에서 사용되는 개스는 O2인 것을 특징으로 하는 광디스크 제조용 포토마스크의 제조방법.The method of claim 1, wherein the gas used in the primary ashing and the secondary ashing is O 2 . 유리기판 위에 감광제를 도포하여 감광제막을 형성하고 소정온도에서 소정 시간동안 프리베이킹(prebaking)하는 단계와; 상기 감광제막 위에 상기 본 발명에 의해 제조된 포토마스크를 접촉시켜 상기 감광제막을 나선형으로 노광시키는 단계와; 상기 노광단계를 거친 감광제막을 현상하고 포스트베이킹(postbaking)하는 단계와; 상기 유리기판을 소정 개스를 이용하여 프리피트만 1차 드라이-엣칭하는 단계와; 상기 1차 엣칭단계에서 잔류된 감광제막을 소정 개스로 애슁하여 제거하는 단계와; 상기 1차 엣칭된 유리기판을 소정 개스를 이용하여 프리피트와 가이드트랙으로 2차 엣칭하는 단계와; 상기 노광단계에서 미노광된 부분의 잔류 감광제막을 소정 개스를 이용하여 2차 애슁하는 단계;를 포함하여 된 것을 특징으로 하는 광디스크 제조용 유리기판의 제조방법.Coating a photoresist on the glass substrate to form a photoresist film and prebaking for a predetermined time at a predetermined temperature; Spirally exposing the photoresist film by contacting the photomask prepared by the present invention on the photoresist film; Developing and postbaking the photoresist film which has undergone the exposure step; Performing primary dry-etching of only the pre-pits on the glass substrate using a predetermined gas; Ashing and removing the photoresist film remaining in the first etching step with a predetermined gas; Second etching the primary etched glass substrate with a prepit and guide track using a predetermined gas; And secondly ashing the remaining photoresist film of the unexposed portion using the predetermined gas in the exposing step. 제6항에 있어서, 상기 1차 엣칭 및 2차 엣칭단계에서 사용되는 개스는 CF4인 것을 특징으로 하는 광디스크 제조용 유리기판의 제조방법.The method of claim 6, wherein the gas used in the first etching and the second etching steps is CF 4 . 제6항에 있어서, 상기 1차 엣칭단계에서 형성되는 프리피트의 깊이는 λ/8n에 근접되도록 형성된 것을 특징으로 하는 광디스크 제조용 유리기판의 제조방법.The method of claim 6, wherein the depth of the prepit formed in the first etching step is formed to be close to? / 8n. 제6항에 있어서, 상기 2차 엣칭단계에서 형성되는 피트와 트랙의 깊이는 λ/8n에 근접되도록 형성된 것을 특징으로 하는 광디스크 제조용 유리기판의 제조방법.The method of claim 6, wherein the depths of the pits and tracks formed in the secondary etching step are formed to be close to? / 8n. 제6항에 있어서, 상기 1차 애슁 및 2차 애슁단계에서 사용되는 개스는 O2인 것을 특징으로 하는 광디스크 제조용 유리기판의 제조방법.The method of claim 6, wherein the gas used in the primary ashing and the secondary ashing is O 2 . 프리피트부와 가이드트랙부가 형성된 광디스크 제조용 포토마스크에 있어서, 상기 프리피트부는 Ta막이 형성되어 있지 않고, 상기 가이드트랙부 λ/8n두께의 Ta막이 형성되어 있는 광디스크 제조용 포토마스크.An optical disk manufacturing photomask in which a prepit portion and a guide track portion are formed, wherein the prepit portion is not formed with a Ta film, and a photomask for manufacturing an optical disk with a Ta film having a thickness of the guide track portion? ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.
KR1019940019731A 1994-08-10 1994-08-10 Method of manufacturing glass substrate and photo mask for optical disc KR100188922B1 (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210047525A (en) * 2019-10-22 2021-04-30 차명순 Apparatus for Bending Grating Cross Bar having Slip Preventing Function

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20210047525A (en) * 2019-10-22 2021-04-30 차명순 Apparatus for Bending Grating Cross Bar having Slip Preventing Function

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