JP2715863B2 - Manufacturing method of stamper for manufacturing optical disc - Google Patents

Manufacturing method of stamper for manufacturing optical disc

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JP2715863B2
JP2715863B2 JP5284280A JP28428093A JP2715863B2 JP 2715863 B2 JP2715863 B2 JP 2715863B2 JP 5284280 A JP5284280 A JP 5284280A JP 28428093 A JP28428093 A JP 28428093A JP 2715863 B2 JP2715863 B2 JP 2715863B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク製造用スタ
パの製造方法に係り、特に、トラックピッチの高密度
化を図る場合に好適な光ディスク製造用スタンパの製造
方法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing an optical disk producing static <br/> down path, in particular, it relates to a manufacturing method of a preferred optical disk producing Stan path when increasing the density of the track pitch .

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、通常のスパイラル状の連続溝を備
えた光ディスク媒体や,同心円状の溝を備えた光ディス
ク原盤のマスタリング工程では、平滑な円盤状のガラス
板にポジ型フォトレジストを塗布した光ディスク原盤
を、集光したレーザビームによりスパイラル状または同
心円状に露光した後、現像して露光部のフォトレジスト
を除去することにより、光ディスク原盤上にスパイラル
状または同心円状の溝パターンを形成する。次いで、パ
ターン形成面を電鋳して金属層を形成した後、光ディス
ク原盤から金属層を剥離することにより、金属層を光デ
ィスク媒体のメタルマスクまたはスタンパとし、当該ス
タンパを使用して樹脂成形によりパターンを樹脂に転写
して光ディスクを製造している。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a mastering process of an optical disk medium having a normal spiral continuous groove or an optical disk master having a concentric groove, a positive photoresist is applied to a smooth disk-shaped glass plate. A spiral or concentric groove pattern is formed on the optical disk master by exposing the optical disk master in a spiral or concentric manner with the focused laser beam, and developing and removing the photoresist on the exposed portion. Next, after forming a metal layer by electroforming the pattern forming surface, the metal layer is peeled off from the master optical disc, so that the metal layer is used as a metal mask or stamper of the optical disc medium, and the pattern is formed by resin molding using the stamper. Is transferred to resin to manufacture optical discs.

【0003】ところで、光ディスク上に形成される溝の
幅は、使用したレーザの集光ビーム径に依存するため、
高密度光ディスク原盤のマスタリング工程では、第1の
方法として、例えば特開平3−108141号公報に記
載された如く、現像後の光ディスク原盤をレジスト層側
からエッチングを行い、ガラス板にレジスト層上の露光
パターンを転写する方法がある。原盤上に形成されたレ
ジスト層上の溝パターンは、その断面は表面側が広くガ
ラス基板側が狭くなるテーパ形状となるため、レジスト
層側からガラス板のエッチングを行うと、レジスト層上
に形成された露光パターンよりも幅の狭いパターンがガ
ラス板上に形成される結果、通常の光ディスクマスタリ
ングよりも幅の狭い溝パターンを形成することが可能と
なる。
By the way, the width of a groove formed on an optical disk depends on the diameter of a condensed beam of a laser used.
In the mastering step of the high-density optical disc master, as a first method, as described in, for example, JP-A-3-108141, the developed optical disc master is etched from the resist layer side, and the glass plate is etched on the resist layer. There is a method of transferring an exposure pattern. Since the groove pattern on the resist layer formed on the master has a tapered shape in which the cross section has a wide surface side and a narrow glass substrate side, when the glass plate is etched from the resist layer side, the groove pattern is formed on the resist layer. As a result that a pattern narrower than the exposure pattern is formed on the glass plate, it is possible to form a groove pattern narrower than normal optical disc mastering.

【0004】また、第2の方法として、例えば特開平4
−311833号公報に記載された如く、レーザビーム
を超解像現象を利用して集光し、光ディスク原盤上に形
成されるビームスポット径を小さくすることにより、幅
の狭い溝パターンを形成する方法がある。
Further, as a second method, for example,
As described in JP-A-3111833, a method of forming a narrow groove pattern by condensing a laser beam using a super-resolution phenomenon and reducing a beam spot diameter formed on an optical disk master. There is.

【0005】更に、第3の方法として、例えば特開平4
−335228号公報に記載された電子線や,通常の光
ディスクマスタリングで使用する可視光線より波長の短
いUVを使用して集光スポットを小さくすることによ
り、幅の狭い溝パターンを形成する方法がある。
Further, as a third method, for example,
There is a method of forming a narrow groove pattern by reducing a focused spot using an electron beam described in JP-A-335228 or UV having a shorter wavelength than visible light used in ordinary optical disc mastering. .

【0006】更にまた、第4の方法として、例えば特開
平4−372740号公報に記載された如く、光ディス
ク原盤上に更にコントラスト増強剤を塗布し、ビームス
ポットの光強度の強い中心部分のみを透過させる構造と
することにより、ビームスポット径よりも幅の狭い溝パ
ターンを形成する方法がある。
Further, as a fourth method, as described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-372740, a contrast enhancer is further applied on the optical disk master to transmit only the central portion of the beam spot where the light intensity is strong. With such a structure, there is a method of forming a groove pattern having a width smaller than the beam spot diameter.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来技術においては、光ディスク原盤上に形成される
溝パターンの幅は、使用したレーザの集光ビーム径に依
存するという性質があるため、集光ビーム径よりも若干
小さい溝パターンを形成することは可能ではあるが、そ
の反面、充分に幅の狭い溝パターンを形成することは不
可能であるという問題があった。また、光ディスク原盤
上への溝パターンの形成時に短波波長光源や電子線を使
用した場合には、既存の露光装置を大幅に改造する必要
が生ずるため、露光装置を大幅に改造する必要が生ずる
と共に、当該改造に要するコストが膨大なものとなる問
題があった。
However, in the above-mentioned prior art, the width of the groove pattern formed on the optical disk master has the property of being dependent on the diameter of the focused laser beam used. Although it is possible to form a groove pattern slightly smaller than the beam diameter, there is a problem that it is impossible to form a groove pattern having a sufficiently narrow width. In addition, when a short-wavelength light source or an electron beam is used to form a groove pattern on an optical disk master, it is necessary to significantly modify an existing exposure apparatus. However, there is a problem that the cost required for the remodeling becomes enormous.

【0008】[0008]

【発明の目的】本発明は、上記従来例の有する不都合を
改善し、特に、トラックピッチを高密度化した光ディス
クを製造することを可能とした光ディスク製造用スタン
パの製造方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned disadvantages of the prior art and, in particular, to provide an optical disk manufacturing stand capable of manufacturing an optical disk having a high track pitch.
It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a package .

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

【0010】本発明の光ディスク製造用スタンパの製造
方法は、ガラス基板の上面にフォトレジスト膜を塗布す
る塗布工程と、レーザ光による前記フォトレジスト膜に
対する露光時に露光部中心間のピッチを露光幅の2倍未
満に設定して複数の露光部を等間隔で形成する露光工程
と、前記フォトレジスト膜を現像して前記各露光部を除
去し前記ガラス基板に複数のパターンを形成する現像工
程と、前記ガラス基板のパターン形成側に電鋳を行い金
属層を形成する第1の電鋳工程と、前記ガラス基板から
パターンが転写された金属層を剥離して当該金属層をマ
ザーとするマザー作製工程と、前記マザーのパターン形
成側に電鋳を行い金属層を形成する第2の電鋳工程と、
前記マザーからパターンが転写された金属層を剥離して
当該金属層をスタンパとするスタンパ作製工程とを具備
する、という手法を採っている。これによって前述した
目的を達成しようとするものである。
In the method of manufacturing a stamper for manufacturing an optical disk according to the present invention, a coating step of coating a photoresist film on an upper surface of a glass substrate and a pitch between centers of exposed portions when the photoresist film is exposed to a laser beam are defined by an exposure width. An exposure step of forming a plurality of exposed portions at equal intervals by setting less than twice, and a developing step of developing the photoresist film to remove the exposed portions and form a plurality of patterns on the glass substrate; A first electroforming step of forming a metal layer by electroforming on the pattern forming side of the glass substrate, and a mother manufacturing step of peeling the metal layer having the pattern transferred from the glass substrate and using the metal layer as a mother And a second electroforming step of forming a metal layer by performing electroforming on the pattern forming side of the mother;
And a stamper manufacturing step of removing the metal layer on which the pattern is transferred from the mother and using the metal layer as a stamper. This aims to achieve the above-mentioned object.

【0011】[0011]

【作用】[Action]

【0012】本発明の光ディスク製造用スタンパの製造
方法によれば、露光工程においてレーザ光によるフォト
レジスト膜に対する露光時に露光部中心間のピッチを露
光幅の2倍未満に設定して複数の露光部を等間隔で形成
するため、スタンパ作製工程で作製されるスタンパにお
けるパターン中心間のピッチを当該パターンの幅の2倍
未満とすることができ、この結果、例えば、前記のピッ
チでパターンを凹形状に形成したスタンパを用いて樹脂
成形を行い樹脂にパターンを転写すれば、露光装置に改
造を施すことなく、レーザ光による露光幅に相当するラ
ンドの幅よりも狭い幅の溝を有する高密度の光ディスク
を製造することが可能となる。
According to the method of manufacturing a stamper for manufacturing an optical disk of the present invention, the pitch between the centers of the exposed portions is set to be less than twice the exposure width at the time of exposing the photoresist film by the laser beam in the exposing step. Are formed at equal intervals, the pitch between the centers of the patterns in the stamper manufactured in the stamper manufacturing process can be less than twice the width of the pattern. As a result, for example, the If the pattern is transferred to the resin by performing resin molding using the stamper formed in the above, without modifying the exposure device, a high-density groove having a groove narrower than the land width corresponding to the exposure width by the laser beam An optical disc can be manufactured.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明の光ディスク製造用スタンパの
製造方法を適用してなる実施例を図面に基づいて説明す
る。
BRIEF DESCRIPTION based on an embodiment <br/> formed by applying the manufacturing method of the optical disk producing Stan path of the present invention with reference to the accompanying drawings.

【0014】本実施例における光ディスク製造方法は、
後述する幅広グルーブ露光工程で光ディスク原盤3のポ
ジ型フォトレジスト膜2に対し溝に相当する複数の露光
部5A,5B,5C・・・を形成する際に,各露光部間
のピッチ(トラックピッチ)を集光ビームによる露光幅
の2倍未満に設定した点を特徴としており、これによ
り、露光装置に改造を施すことなく、レーザの集光ビー
ムによる露光幅よりも幅の狭い溝パターンを光ディスク
に形成することにより、高密度の光ディスクを製造する
ことを可能とするようになっている。
The method of manufacturing an optical disk in this embodiment is as follows.
When a plurality of exposed portions 5A, 5B, 5C,... Corresponding to grooves are formed in the positive photoresist film 2 of the optical disk master 3 in a wide groove exposure process described later, the pitch between each exposed portion (track pitch) ) Is set to be less than twice the exposure width by the condensed beam, so that the groove pattern narrower than the exposure width by the condensed laser beam can be formed on the optical disk without modifying the exposure apparatus. Thus, a high-density optical disk can be manufactured.

【0015】本実施例の光ディスク製造方法を図1に基
づき説明すると、光ディスクを製造する工程は、フォト
レジスト塗布工程と、幅広グルーブ露光工程と、現像工
程と、第1の電鋳工程と、マザー作製工程と、第2の電
鋳工程と、スタンパ作製工程と、樹脂成形工程と、光デ
ィスク作製工程とを備える構成となっている。
The optical disk manufacturing method of this embodiment will be described with reference to FIG. 1. The optical disk manufacturing process includes a photoresist coating process, a wide groove exposure process, a developing process, a first electroforming process, The configuration includes a manufacturing process, a second electroforming process, a stamper manufacturing process, a resin molding process, and an optical disc manufacturing process.

【0016】光ディスク製造工程について詳述すると、
先ず、フォトレジスト塗布工程においては、ガラス基板
1の上面部にポジ型フォトレジスト膜2を塗布すること
により、光ディスク原盤3を作製する(図1(a)参
照)。
The optical disk manufacturing process will be described in detail.
First, in a photoresist coating step, an optical disc master 3 is manufactured by applying a positive photoresist film 2 to the upper surface of a glass substrate 1 (see FIG. 1A).

【0017】次に、幅広グルーブ露光工程においては、
図1(a)の光ディスク原盤3のポジ型フォトレジスト
膜2の上方にレンズ4を配置し、レーザ光源(図示略)
から発射したレーザビームをレンズ4により集光し、集
光ビームをポジ型フォトレジスト膜2に照射することに
より、ポジ型フォトレジスト膜2に対し溝に相当する複
数の露光部5A,5B,5C・・・を所定幅で一定間隔
を置いて形成する。これにより、露光部5A,5B,5
C・・・を有する光ディスク原盤6が作製される(図1
(b)参照)。
Next, in the wide groove exposure step,
A lens 4 is arranged above the positive photoresist film 2 of the optical disk master 3 shown in FIG.
A laser beam emitted from the lens 4 is condensed by a lens 4 and the condensed beam is irradiated on the positive photoresist film 2 to thereby expose the positive photoresist film 2 to a plurality of exposure portions 5A, 5B, 5C corresponding to grooves. Are formed at a predetermined width and at regular intervals. Thereby, the exposure units 5A, 5B, 5
The optical disc master 6 having C... Is manufactured.
(B)).

【0018】この場合、露光部中心間のピッチすなわち
トラックピッチを、集光ビームの露光幅の2倍未満に設
定してある。これは、本出願人が実験によって得た最適
なピッチである。これにより、露光装置に改造を施すこ
となく、集光ビームによる露光幅に相当するランドの幅
よりも狭い幅の溝を有する,換言すれば高密度な連続溝
を有する光ディスクを製造することができるようになっ
ている。
In this case, the pitch between the centers of the exposed portions, that is, the track pitch is set to be less than twice the exposure width of the condensed beam. This is the optimal pitch obtained by experiments by the applicant. This makes it possible to manufacture an optical disk having a groove having a width smaller than the width of the land corresponding to the exposure width by the condensed beam, in other words, having a high-density continuous groove, without modifying the exposure apparatus. It has become.

【0019】次に、現像工程においては、図1(b)の
光ディスク原盤6における露光部5A,5B,5C・・
・が形成されたポジ型フォトレジスト膜2に対し現像処
理を施し、露光部5A,5B,5C・・・を除去するこ
とにより、ガラス基板1の上面部に対し溝に相当するパ
ターン6A,6B,6C・・・を形成する。これによ
り、パターン6A,6B,6C・・・を有する光ディス
ク原盤7が作製される(図1(c)参照)。
Next, in the developing step, the exposed portions 5A, 5B, 5C,... Of the optical disk master 6 shown in FIG.
Are subjected to a development process to remove the exposed portions 5A, 5B, 5C,..., So that patterns 6A, 6B corresponding to grooves are formed on the upper surface of the glass substrate 1. , 6C,. Thus, an optical disk master 7 having the patterns 6A, 6B, 6C,... Is manufactured (see FIG. 1C).

【0020】次に、第1の電鋳工程においては、図1
(c)の光ディスク原盤7におけるポジ型フォトレジス
ト膜2の上面側(ガラス基板1のパターン6A,6B,
6C・・・形成側)に対して電鋳を行うことにより、ポ
ジ型フォトレジスト膜2の上面部に金属層8を形成す
る。これにより、金属層8を有する光ディスク原盤9が
作製される(図1(d)参照)。
Next, in the first electroforming step, FIG.
(C) The upper surface side of the positive photoresist film 2 on the optical disk master 7 (the patterns 6A, 6B,
The metal layer 8 is formed on the upper surface of the positive photoresist film 2 by performing electroforming on 6C... Thus, an optical disk master 9 having the metal layer 8 is manufactured (see FIG. 1D).

【0021】次に、マザー作製工程においては、図1
(d)の光ディスク原盤9から金属層8を剥離すると、
金属層8にパターン6A,6B,6C・・・が転写さ
れ、マザー10が作製される(図1(e)参照)。
Next, in the mother manufacturing process, FIG.
When the metal layer 8 is peeled off from the optical disk master 9 of (d),
The patterns 6A, 6B, 6C,... Are transferred to the metal layer 8, and a mother 10 is manufactured (see FIG. 1E).

【0022】次に、第2の電鋳工程においては、図1
(e)のマザー10におけるパターン6A,6B,6C
・・・の形成側に対して電鋳を行うことにより、マザー
10の上面部に金属層11を形成する。これにより、金
属層11を有するマザー12が作製される(図1(f)
参照)。
Next, in the second electroforming step, FIG.
(E) Patterns 6A, 6B, 6C in mother 10
The metal layer 11 is formed on the upper surface of the mother 10 by performing electroforming on the forming side. Thereby, the mother 12 having the metal layer 11 is manufactured (FIG. 1F).
reference).

【0023】次に、スタンパ作製工程においては、図1
(f)のマザー12から金属層11を剥離すると、金属
層11にパターン6A,6B,6C・・・が転写され、
スタンパ13が作製される(図1(g)参照)。
Next, in the stamper manufacturing process, FIG.
When the metal layer 11 is peeled off from the mother 12 of (f), the patterns 6A, 6B, 6C,.
The stamper 13 is manufactured (see FIG. 1 (g)).

【0024】次に、樹脂成形工程においては、図1
(g)のスタンパ13を使用して樹脂成形を行い、パタ
ーン6A,6B,6C・・・を樹脂14に転写すること
により、スタンパ13の下面部に樹脂14が成形された
光ディスク原盤15が作製される(図1(h)参照)。
Next, in the resin molding step, FIG.
By performing resin molding using the stamper 13 of (g) and transferring the patterns 6A, 6B, 6C... To the resin 14, an optical disk master 15 having the resin 14 molded on the lower surface of the stamper 13 is manufactured. (See FIG. 1 (h)).

【0025】最後に、光ディスク作製工程においては、
図1(h)の光ディスク原盤15からスタンパ13を剥
離すると、光ディスク16が作製される(図1(i)参
照)。以上が、光ディスクの製造工程である。
Finally, in the optical disk manufacturing process,
When the stamper 13 is separated from the master optical disk 15 shown in FIG. 1H, an optical disk 16 is manufactured (see FIG. 1I). The above is the manufacturing process of the optical disk.

【0026】図2は上述した製造工程によって製造され
た光ディスク16の断面の一部を示す図であり、光ディ
スク16の上面部には、複数のランド17A,17B,
17C・・・と溝18A,18B,18C・・・とが交
互に形成されることとなる。この場合、ランド17A,
17B,17C・・・の幅は、図1(b)の幅広グルー
ブ露光工程で使用した集光ビームによる露光幅に相当
し、溝18A,18B,18C・・・の幅は、ランド1
7A,17B,17C・・・の幅より狭い幅に形成され
ている。図中符号19は光ディスク16の表面を保護す
るための透明な保護膜を示す。
FIG. 2 is a view showing a part of a cross section of the optical disk 16 manufactured by the above-described manufacturing process. A plurality of lands 17A, 17B,
17C and the grooves 18A, 18B, 18C... Are alternately formed. In this case, the land 17A,
.. Correspond to the exposure width by the condensed beam used in the wide groove exposure process of FIG. 1B, and the width of the grooves 18A, 18B, 18C.
7A, 17B, 17C,... In the figure, reference numeral 19 denotes a transparent protective film for protecting the surface of the optical disk 16.

【0027】以上説明した如く、本実施例によれば、フ
ォトレジスト塗布工程の後、露光部中心間のピッチを集
光ビームによる露光幅の2倍未満に設定して露光を行う
幅広グルーブ露光工程を行い、その後、現像工程、第1
の電鋳工程、マザー作製工程、第2の電鋳工程、スタン
パ作製工程、樹脂成形工程、光ディスク作製工程を経て
光ディスクを製造するため、露光装置に改造を施すこと
なく、図2に示した如く集光ビームによる露光幅に相当
するランド17の幅よりも狭い幅の溝18を有する,高
密度な連続溝を有する光ディスク16を製造することが
できる。
As described above, according to the present embodiment, after the photoresist coating step, the wide groove exposure step of performing the exposure by setting the pitch between the centers of the exposed portions to less than twice the exposure width by the condensed beam. And then the development step, the first
In order to manufacture an optical disc through the electroforming step, the mother making step, the second electroforming step, the stamper making step, the resin forming step, and the optical disc making step, without modifying the exposure apparatus, as shown in FIG. It is possible to manufacture an optical disc 16 having a high-density continuous groove having a groove 18 having a width smaller than the width of the land 17 corresponding to the exposure width by the condensed beam.

【0028】この場合、本実施例では、2つの電鋳工程
により図1(i)に示す形状の光ディスクを製造した
が、図1(g)に示す形状のスタンパに対して更に電鋳
を行うことにより当該スタンパを反転した形状のスタン
パを作製すれば、図1(i)に示す形状の光ディスクを
反転した形状の光ディスクを製造することも可能であ
る。
In this case, in this embodiment, the optical disk having the shape shown in FIG. 1 (i) was manufactured by two electroforming steps, but the stamper having the shape shown in FIG. 1 (g) is further electroformed. If a stamper having the inverted shape of the stamper is manufactured in this way, it is possible to manufacture an optical disc having the inverted shape of the optical disc shown in FIG.

【0029】[0029]

【発明の効果】【The invention's effect】

【0030】以上説明したように、本発明の光ディスク
製造用スタンパの製造方法によれば、露光工程において
レーザ光によるフォトレジスト膜に対する露光時に露光
部中心間のピッチを露光幅の2倍未満に設定して複数の
露光部を等間隔で形成するため、スタンパ作製工程で作
製されるスタンパにおけるパターン中心間のピッチを当
該パターンの幅の2倍未満とすることができ、この結
果、例えば、前記のピッチでパターンを凹形状に形成し
たスタンパを用いて樹脂成形を行い樹脂にパターンを転
写すれば、露光装置に改造を施すことなく、レーザ光に
よる露光幅に相当するランドの幅よりも狭い幅の溝を有
する高密度の光ディスクを製造することが可能となる、
という効果を奏することができる。
As described above , according to the method of manufacturing a stamper for manufacturing an optical disk of the present invention, the pitch between the centers of the exposed portions is set to less than twice the exposure width when the photoresist film is exposed to the laser beam in the exposure step. Then, the plurality of exposed portions are formed at equal intervals, so that the pitch between the centers of the patterns in the stamper manufactured in the stamper manufacturing process can be less than twice the width of the pattern. As a result, for example, If the pattern is transferred to the resin by performing resin molding using a stamper with the pattern formed in a concave shape at the pitch, without modifying the exposure device, the width of the land smaller than the width of the land corresponding to the exposure width by laser light It is possible to manufacture a high-density optical disk having grooves,
The effect described above can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を適用した本実施例における光ディスク
を製造する際の各工程を示し、図1(a)はフォトレジ
スト塗布工程、図1(b)は幅広グルーブ露光工程、図
1(c)は現像工程、図1(d)は第1の電鋳工程、図
1(e)はマザー作製工程、図1(f)は第2の電鋳工
程、図1(g)はスタンパ作製工程、図1(h)は樹脂
成形工程、図1(i)は光ディスク作製工程を各々示す
説明図である。
FIGS. 1A and 1B show each step of manufacturing an optical disc according to an embodiment of the present invention. FIG. 1A shows a photoresist coating step, FIG. 1B shows a wide groove exposure step, and FIG. ) Is a development step, FIG. 1D is a first electroforming step, FIG. 1E is a mother manufacturing step, FIG. 1F is a second electroforming step, and FIG. 1 (h) is an explanatory view showing a resin molding step, and FIG. 1 (i) is an explanatory view showing an optical disk manufacturing step.

【図2】本実施例における光ディスクの断面の一部を示
す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a part of a cross section of the optical disc in the embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス基板 2 フォトレジスト膜としてのポジ型フォトレジスト膜 5A,5B,5C 露光部 6A,6B,6C パターン 8,11 金属層 10 マザー 13 スタンパ 16 光ディスク 17 ランド 18 溝 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Positive photoresist film as a photoresist film 5A, 5B, 5C Exposure part 6A, 6B, 6C Pattern 8, 11 Metal layer 10 Mother 13 Stamper 16 Optical disk 17 Land 18 Groove

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ガラス基板の上面にフォトレジスト膜を
塗布する塗布工程と、レーザ光による前記フォトレジス
ト膜に対する露光時に露光部中心間のピッチを露光幅の
2倍未満に設定して複数の露光部を等間隔で形成する露
光工程と、前記フォトレジスト膜を現像して前記各露光
部を除去し前記ガラス基板に複数のパターンを形成する
現像工程と、前記ガラス基板のパターン形成側に電鋳を
行い金属層を形成する第1の電鋳工程と、前記ガラス基
板からパターンが転写された金属層を剥離して当該金属
層をマザーとするマザー作製工程と、前記マザーのパタ
ーン形成側に電鋳を行い金属層を形成する第2の電鋳工
程と、前記マザーからパターンが転写された金属層を剥
離して当該金属層をスタンパとするスタンパ作製工程と
を具備してなることを特徴とする光ディスク製造用スタ
ンパの製造方法。
1. A photoresist film is formed on an upper surface of a glass substrate.
A coating step of coating and the photoresist by laser light
When exposing the film, the pitch between the centers of the exposed parts
Dew to form a plurality of exposed parts at equal intervals by setting it to less than twice
A light process, developing the photoresist film and exposing each light
Removing portions to form a plurality of patterns on the glass substrate
Developing step, electroforming on the pattern forming side of the glass substrate
Performing a first electroforming step of forming a metal layer;
Peel the metal layer with the pattern transferred from the plate
A mother preparation process using the layer as a mother, and a pattern of the mother
Electroforming for forming a metal layer by performing electroforming on the forming side
And removing the metal layer on which the pattern has been transferred from the mother.
Forming a stamper using the metal layer as a stamper apart from the stamper;
Optical disc manufacturing star characterized by comprising:
Manufacturing method of damper.
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