KR960005917A - 농도제어방법 및 이것을 이용한 기판처리장치 - Google Patents

Abstract

처리액과 그 용매의 각각의 투과광강도를 측정하여 그 측정결과에 의거하여 처리액의 농도를 제어하는 농도제어방법 및 장치로서, 용매의 온도를 바꾸어 각온도에서의 투과광강도를 측정하므로서 온도와 투과광강도와의 관계를 나타내는 검량선데이터를 채취하여 소정의 농도 및 온도로 조정한 기준처리액의 투과광강도(기준투과광강도)와 용매의 투과광강도(참조투과광강도)를 측정하여 기준처리액의 온도와 검량선데이터에서 용매의 온도를 기준처리액과 같은 온도로 한 경우의 예측투과광강도를 구하여 상기 참조투과광강도와 예측투과광강도의 비에서 보정계수를 구하고, 기준투과광강도와 참조투과광강도와 보정계수에서 기준처리액의 투과율(기준투과율)을 구한다. 그후, 기판의 처리에 실제로 사용되는 처리액의 투과광강도(시료투과광강도)를 측정하여 이 시료투과광강도와 참조투과광강도와 보정계수에서 처리액의 시료투과율을 상기 기준투과율과 시료투과율에 따라 처리액의 농도를 제어한다.

Description

농도제어방법 및 이것을 이용한 기판처리장치

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 제1실시예에 관한 기판처리장치의 개략구성을 나타내는 개략도이고,

Claims (20)

1. 기판의 처리에 사용되는 처리액의 투과광강도를 제1의 투과광강도 측정수단에 의해 측정함과 동시에, 상기 처리액을 구성하는 용매의 투과광강도를 제2의 투과광강도측정수단에 의해 측정하고, 상기 측정결과에 의거하여 처리액의 농도를 제어하는 농도제어방법으로서, (a) 상기 처리액을 구성하는 용매의 온도를 변화시키면서 상기 용매만의 투과광강도를 제1의 투과광강도 측정수단에 의하여 측정하고, 용매의 온도와 투과광강도와의 관계를 나타내는 검량선 데이터를 기억하는 과정과, (b) 미리소정의 농도 및 온도로 조제된 기준처리액의 투과광강도를 기준투과광강도로서 제1의 투과광강도 측정수단에 의하여 측정하는 과정과, (c) 용매의 투과광강도를 참조투과광강도로서 제2의 투과광강도 측정수단에 의하여 측정하는 과정과, (d) 기준처리액의 온도와 기억되어 있는 검량선데이터에 의거하여 용매를 기준처리액과 같은 온도로 한 경우에 제2의 투과광강도측정수단에 의하여 측정하여야할 용매의 투과광강도에 상당하는 예측투과광강도를 산출하여, 상기 참조투과광강도와 예측투과광강도와의 비에서 보정계수를 산출하는 과정과, (e) 기준투과광강도와 참조투과광강도와 보정계수에서 상기 소정의 온도에서의 기준처리액의 투과율을 기준투과율로서 산출하는 과정과, 로되는 기준설정과정을 미리 행한 후, (f) 기판의 처리에 실제로 사용되는 처리액의 투과광강도를 시료투과광강도로서 제1의 투과광강도측정수단에 의하여 측정하는 과정과 (g) 시료투과광강도와 참조투과광강도와 보정계수로부터 처리액의 투과율을 시료투과율로서 산출하는 과정과, (h) 기준투과율과 시료투과율에 따라 기판의 처리에 실제로 사용하여야 할 처리액의 농도를 제어하는 과정과, 로되는 피드백 제어과정을 기준투과율과 시료투과율이 일치하도록 반복하는 농도제어방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 (f)의 과정의 전 또는 후에 상기 (c)의 과정을 재차행하여 참조투과광강도를 측정하고 이것과 상기 예측투과광강도의 비로부터 보정계수를 구한 후에 상기 (g)의 과정을 행하는 농도제어방법.
3. 제1항에 있어서, 상기 (a)의 과정은 상기 각 온도에서의 투과광강도를 측정함과 동시에, 각 온도에서의 광원의 광강도에 관련하는 광원관련광강도를 측정하여 각온도에서의 상기 투과광강도와 상기 광원관련 광강도와의 비(투과광강도비)를 검량선데이터로서 기억하여 상기(b), 상기(c) 및 상기 (f)의 각 과정에서는 각각의 과정에서의 각투과광강도의 측정과 함께 광원관련 광강도를 측정하여 각 투과광강도와 각 광원관련광강도와의 비를 구하여 각 공정에서 이들의 비에 의거하여 연산을 행하는 농도제어방법.
4. 소정의 농도 및 온도로 조제된 처리액에 의하여 기판의 처리를 행하는 기판처리장치로서, 처리하여야할 기판이 수납되는 기판수납수단과, 기판수납수단에 수납된 기판의 처리를 행하는 처리액을 저류하는 처리액저류수단과, 처리액을 구성하는 약액 혹은 그 가스를 처리액 저류수단에 공급하는 약액공급수단과, 처리액을 구성하는 용매를 처리액저류수단에 공급하는 용매공급수단과, 처리액저류수단에 저류된 처리액을 기판수납수단에 수납된 기판에 공급하는 처리액공급수단과, 서로 같은 광로길이의 광투과부를 가진 제1 및 제2의 시료채취수단과, 미리 소정의 농도 및 온도로 조정된 기준처리액의 투과광강도(기준투과광도(를 제1의 시료채취수단을 사용하여 측정함과 동시에, 기판의 처리에 실제로 사용하는 처리액의 투과광강도(시료투과광강도)를 제1의 시료채취수단을 사용하여 측정하는 제1의 투과광강도측정수단과, 처리액을 구성하는 용매의 투과광강도(참조투과광강도(를 제2의 시료채취수단을 사용하여 측정하는 제2의 투과광강도측정 수단과, 상기 처리액을 구성하는 용매의 온도를 변화시키면서 그 용매만의 투과광강도를 제1의 시료채취수단을 사용하여 측정하며 용매의 온도와 투과광강도와의 관계를 나타내는 검량선 데이터를 채취하는 검량선 데이터 채취수단과, 기준처리액의 온도와 채취한 검량선데이터에 의거하여 용매를 기준처리액과 같은 온도로한 경우에 제2의 시료채취수단을 사용하여 제2의 투과광강도 측정수단에 의해 측정한 경우의 투과광강도에 상당하는 예측투과광강도를 산출하여 상기 참조투과광강도와 예측 투과광강도의 비에서 보정계수를 산출하는 보정계수 산출수단과, 기준투과광강도와 참조투과광 가도와 보정계수에서 상기 소정의 온도에서의 기준처리액의 투과율을 기준투과율로서 산출하는 기준투과율산출수단과, 시료투과광강도와 참조투과광강도와 보정계수에서 처리액의 투과율을 시료투과율로서 산출하는 시료투과율산출수단과, 기준투과율과 시료투과율에 따라 상기 약액공급수단 및 상기 용매 공급수단을 제어하므로서 기판의 처리에 실제로 사용하여야할 처리액의 농도를 제어하는 농도제어수단을 구비하는 기판처리장치.
5. 제4항에 있어서, 상기 농도제어수단은 기준투과율과 시료투과율과의 차에 따라 상기 약액 공급수단 및 상기 용매공급수단을 제어하는 피드백 제어수단을 포함하는 기판처리장치.
6. 제4항에 있어서, 적어도 상기 제1의 시료채취수단은 광투과성재료로 형성된 1쌍의 광투과부를 소정의 간격(셀길이)으로 대향배치하여 상기 광투과부의 사이를 유통하는 피측정유체에 대하여 상기 광투과부의 한쪽에서 빛을 조사하여 상기 광투과부의 다른쪽에서 조사한 광광도를 측정하기 위한 투과광측정용 플로우셀으로서 상기 1쌍의 광투과부의 피측정유체가 닿는면에 피측정유체에 대하여 내식성을 가진 피막을 형성한 기판처리장 치.
7. 제6항에 있어서, 상기 피막은 불소수지로 형성되어 있는 기판처리장치.
8. 제4항에 있어서, 상기 제1 및 제2의 투과광강도측정수단은 양수단에 겸용되는 단일의 광원과, 상기 광원에서 발생한 빛을 상기 제1 및 제2의 시료채취수단으로 돌려 분기시키는 광분기수단과, 상기 제1 및 제2의 시료채취수단을 따로따로 투과한 빛을 수광하여 각각의 강도에 따른 신호를 출력하는 단일의 광검출기와, 상기 제1 및 제2의 시료채취수단을 따로따로 투과한 빛을 서로번갈아 광검출기에 입사시키는 광로절환수단을 포함하며, 광로절환수단의 절환 타이밍에 동기하여 광검출기에서의 신호를 취입하고, 광검출기가 제2의 시료채취수단을 투과한 빛을 수광했을때의 광검출기의 출력신호를 참조투과광강도로 하고, 광검출기가 제1의 시료채취수단을 투과한 빛을 수광했을 때의 광검출기의 출력신호를 기준투과광강도로 하여, 각각 측정하는 기판처리장치.
9. 제8항에 있어서, 상기 광로절환수단은, 광투과부와 차광부를 소정비율로 판상으로 형성하여되는 광선택셔터와, 상기 제2의 시료채취수단의 투과광과 상기 제1의 시료채취수단의 투과광을 서로 번갈아 상기 광검출기에 조사하도록 상기 광선택셔터를 구동하는 구동수단에 의하여 구성되어 있는 기판처리장치.
10. 제8항에 있어서, 상기 제1 및 제2의 투과광강도측정수단은, 기준투과광강도와 시료투과광강도의 각각의 투과광강도의 측정과 참조투과광강도의 측정을 반복행하여, 각각 제i번째(i는 임의의 자연수)의 투과광강도와 참조투과광강도의 비, 제i+1번째의 투과광강도와 제i번째의 참조투과광강도와의 비, 각각 제i+1번째의 투과광강도와 참조투과광강도와의 비와 같이 시간적으로 서로 이웃하는 투과광강도 및 참조투과광강도에 의한 비의 이동평균을 산출하는 기판처리장치.
11. 기판의 처리에 사용되는 처리액의 투과광강도와 그 처리액을 구성하는 용매의 투과광강도를 공통의 투과광강도측정수단에 의해 측정하며, 상기 측정결과에 의거하여 처리액의 농도를 제어하는 농도제어방법으로서, (a) 상기 처리액을 구성하는 용매의 온도를 변화시키면서 상기 용매만의 투과광강도를 투과광강도측정수단에 의하여 측정하여 용매의 온도와 투과광강도와의 관계를 나타내는 검량선데이터를 기억하는 과정과, (b) 미리 소정의 농도 및 온도로 조정된 기준처리액의 투과광강도를 기준투과광강도로서 상기 투과광강도측정수단에 의하여 측정하는 과정과, (c) 용매의 투과광강도를 참조투과광강도로서 상기 투과광강도측정수단에 의하여 측정하는 과정과, (d) 기준처리액의 온도와 기억되어 있는 검량데이터에 의거하여 용매를 기준처리액과 같은 온도로한 경우에 상기 투과광강도측정수단에 의하여 측정하여야할 용매의 투과광강도에 상당하는 예측투과광강도를 산출하여 상기 참조투과광강도와 예측투과광강도와의 비로부터 보정계수를 산출하는 과정과, (e) 기준투과광강도와 참조투과광강도와 보정계수로부터 상기 소정의 온도에서의 기준처리액의 투과율을 기준투과율로서 산출하는 과정과, 로되는 기준설정과정을 미리 행한 후, (f) 기판의 처리에 실제로 사용되는 처리액의 투과광강도를 시료투과광강도로서 상기 투과광강도측정수단에 의하여 측정하는 과정과, (g) 시료투과광강도와 참조투과광강도와 보정계수로부터 처리액의 투과율을 시료투과율로서 산출하는 과정과, (h) 기준투과율과 시료투과율에 따라 기판의 처리에 실제로 사용하여야 할 처리액의 농도를 제어하는 과정과, 로되는 피드백 제어과정을 기준투과율과 시료투과율이 일치하도록 반복하여 행하는 농도제어방법.
12. 제11항에 있어서, 상기 (f)의 과정의 전에 상기(c)의 과정을 재차 행하여 참조투과광강도를 측정하고, 이것과 상기 예측투과광강도와의 비에서 보정계수를 구한 후에 상기(g)의 과정을 행하는 농도제어방법.
13. 제11항에 있어서, 상기 (a)의 과정은 상기 각 온도에서의 투과광강도를 측정함과 동시에, 각 온도에서의 광원의 광강도에 관련하는 광원관련 광강도를 측정하여, 각온도에서의 상기 투과광강도와 상기 광원관련광강도와의 비 (투과광강도비)를 검량선데이터로서 기억하고, 상기(b), 상기(c) 및 상기 (f)의 각과정에서는 각각의 과정에서의 각투과광강도의 측정과 함께 광원관련광강도를 측정하여 각투과광강도와 각 광원관련 광강도와의 비를 구하여 각 과정에서 이들의 비에 의거하여 연산을 행하는 농도제어방법.
14. 소정의 농도 및 온도로 조정된 처리액에 의하여 기판의 처리를 행하는 기판처리장치로서, 처리하여야할 기판이 수납되는 기판수납수단과, 기판수납수단에 수납된 기판의 처리를 행하는 처리액을 저류하는 처리액 저류수단과, 처리액을 구성하는 약액 혹은 그 가스를 처리액 저류수단에 공급하는 약액공급수단과, 처리액을 구성하는 용매를 처리액 저류수단에 공급하는 용매공급수단과, 처리액저류수단에 저류된 처리액을 기판수납수단에 수납된 기판에 공급하는 처리액 공급수단과, 소정의 광로길이의 광투과부를 가지며 처리액과 그것을 구성하는 용매를 따로따로 채취하는 시료채취수단과, 미리소정의 농도 및 온도로 조정된 기준처리액을 채취한 시료채취수단을 투과한 빛의 강도(기준투과광강도)를 측정하여 이 기준투과광 강도와 광조사수단에서 발생한 빛의강도(광원관련광강도)와의 비를 기준투과광강도비로서 구하고 처리액을 구성하는 용매만을 채취한 시료채취수단을 투과한 빛의강도(시료투과광강도)를 측정하여 이시료투과광강도와 광조사수단에서 발생한 빛의 강도와의 비를 시료투과광강도비로서 구하는 투과광강도비 측정수단과, 상기 처리액을 구성하는 용매의 온도를 변화시키면서 상기 용매만의 투과광강도를 시료채취수단을 사용 측정하여, 용매의 온도와 투과광강도와의 관계를 나타내는 검량선데이터를 채취하는 검량선 데이터 채취수단과, 기준처리액의 온도와 채취한 검량선데이터에 의거하여 용매를 기준처리액과 같은 온도로 한 경우에 시료채취수단을 사용하여 측정한 경우의 투과광강도에 상당하는 예측투과광강도와 광조사수단에서 발생한 빛의 강도와의 비를 예측투과광강도비로서 구하여 상기 참조투과광강도비와 예측투과광강도비와의 비로부터 보정계수를 산출하는 보정게수산출수단과, 기준투과광강도비와 참조투과광강도비와 보정계수로부터 상기 소정의 온도에서의 기준처리액의 투과율을 기준투과율로서 산출하는 기준투과율 산출수단과, 시료투과광강도비와 참조투과광강도비와 보정계수로부터 처리액의 투과율을 시료투과율로서 산출하는 시료투과율 산출수단과, 기준투과율과 시료투과율에 따라 상기 약액공급수단 및 상기 용매공급수단을 제어하므로서 기판의 처리에 실제로 사용하여야할 처리액의 농도를 제어하는 농도제어수단을 구비하는 기판처리장치.
15. 제14항에 있어서, 농도제어수단은 기준투과율과 시료투과율과의 차에 따라 상기 약액공급단 및 상기 용매공급수단을 제어하는 피드백제어수단을 포함하는 기판처리장치.
16. 제14항에 있어서, 상기 시료채취수단은 광투과성재료로 형성한 1쌍의 광투과부를 소정의 간격(셀길이)으로 대향배치하며 상기 광투과부의 사이를 유통하는 피측정유체에 대하여 상기 광투과부의 한쪽에서 빛을 조사하여 상기 광투과부의 다른쪽에서 출사한 광강도를 측정하기 위한 투과광측정용 플로우셀으로서 상기 1쌍의 광투과부의 피측정유체가 닿는 면에 피측정유체에 대하여 내식성을 가진 피막을 형성하는 기판처리장치.
17. 제16항에 있어서, 상기 피막은 불소수지로 형성되어 있는 기판처리장치.
18. 제14항에 있어서, 상기 투과광강도 비측정수단은 단일의 광원과 소정의 감광율을 가진 광학필터와 상기 광원에서 발생한 빛을 상기 시료채취수단과 상기 광학필터로 돌려 분기시키는 광분기수단과 상기 시료채취수단 및 광학필터를 따로따로 투과한 빛을 수광하여 각각의 강도에 따른 신호를 출력하는 단일의 광검출기와 상기시료채취수단 및 광학필터를 따로따로 투과한 빛을 서로번갈아 광검출기에 입사시키는 광로절환수단을 포함하며, 광로절환수단의 절환 타이밍에 동기하여 광검출기에서의 신호를 취입하여 광검출기가 시료채취수단을 투과한 빛을 수광했을때의 광검출기의 출력신호를 기준투과광강도, 참조투과광강도 및 시료투과광강도중의 어느하나로 하여 측정하며, 광검출기가 광학필터를 투과한 빛을 수광했을때의 광검출기의 출력신호를 광조사수단에서 발생한 빛의강도(광원광련광강도)로서 각각 측정하는 기판처리장치.
19. 제18항에 있어서, 상기 광로절환수단은 광투과부와 차광부를 소정비율로 판상으로 형성하여 되는 광선택셔터와, 상기 광학필터의 투과광과 상기 시료채취수단의 투과광을 서로번갈아 상기 광검출기에 조사하도록 상기 광선택셔터를 구동하는 구동수단에 의하여 구성되어 있는 기판처리장치.
20. 제18항에 있어서, 상기 투과광강도비 측정수단을 기준투과광강도, 참조투과광강도, 시료투과광강도의 각각의 투과광강도의 측정과, 광원관련광강도의 측정을 반복하여, 각각 제i번째(i는 임의의 자연수)의 투과광강도와 광원관련광강도와의 비, 제i+1번째의 투과광강도와 제i번째의 광원관련광강도와의 비, 각각 제i+1번째의 투과광강도와 당원관련 광강도와의 비와 같이 시간적으로 서로 이웃하는 투과광강도 및 광원관련광강도에 의한 비의 이동평균을 산출하여 기준투과광강도비, 참조투과광강도비 및 시료투과광강도비로 하는 기판처리장치.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.