KR950033697A - 투영 노광 방법 - Google Patents
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Abstract
투영 노광 방법은 원판의 패턴이 존재하는 영역둘레의 다수의 마크를 배열하는 단계와, 광감지 기판의 표면과 거의 동일한 평면에 투영된 다수의 마크의 이미지의 위치를 검출하는 단계와, 지정된 위치에 대한 원판상의 마크의 위치 이동과, 광감지 기판에 대한 원판의 위치 이동과, 예정된 광학 특성에 대해 투영 광학 시스템의 광학 특성의 편차 중 적어도 하나를 얻는 단계와, 구해진 위치 이동에 근거한 광감지 기판을 위치설정하기 위한 제1보정량과, 구해진 편차에 근거한 투영 광학 시스템의 광학 특성의 제2보정량 중 적어도 하나를 얻는 단계와, 상기 제1, 2보정량 중 적어도 하나를 근거해서 투영 광학 시스템의 광학 특성과, 광감지 기판의 위치와 원판의 위치 중 적어도 하나를 보정하는 단계를 포함한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예에 따른 노광 장치를 도시하는 블럭 다이어그램.
Claims (10)
- 원판과 광감지 기판을 위치설정하고 예정된 광학 특성을 가지는 투영 광학 시스템을 통해 광감지 기판상의 예정된 영역에 원판의 패턴을 투영하기 위한 투영 노광 방법에 있어서, 원판의 패턴이 존재하는 영역둘레의 다수의 마크를 배열하는 단계와, 광감지 기판의 표면과 거의 동일한 평면에 투영된 다수의 마크의 이미지의 위치를 검출하는 단계와, 다수의 마크가 투영 광학 시스템에 의해 투영되는 지정된 위치로부터의 다수의 마크의 이미지의 검출된 위치의 이동량에 따라서, 지정된 위치에 대한 원판상의 마크의 위치 이동과, 광감지 기판에 대한 원판의 위치 이동과, 예정된 광학 특성에 대해 투영 광학 시스템의 광학 특성의 편차 중 적어도 하나를 얻는 단계와, 구해진 위치 이동에 근거한 광감지 기판을 위치 설정하기 위한 제1보졍랑과, 구해진 편차에 근거한 투영 광학 시스템의 광학 특성과 관련된 제2보정량 중 적어도 하나를 얻는 단계와, 상기 제1, 2보정량 중 적어도 하나를 근거해서 투영 광학, 시스템의 광학 특성과, 광감지 기판의 위치와 원판의 위치 중 적어도 하나를 보정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 마크의 이미지의 위치를 검출하는 단계는 원판상에 투영된 광감지 기판의 표면과 동일한 평면상에 배치된 제2마크의 이미지와 마크 사이의 위치 관계를 검출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1보정량은 상기 투영 광학 시스템의 광학축 둘레의 원판의 위치의 보정량과, 광학축에 수직인 두 방향에서의 위치의 보정량 중 하나이고, 상기 제2보정량은 두 방향에서의 이미지의 확대와 관련된 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제1항에 있어서, 패턴의 이미지를 서로 결합하면서 예정된 영역에 인접한 영역에 노광할때 결합부에서 위치 이동량을 최소화하기 위한 제1,2보정량을 구하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 패턴의 이미지를 예정된 영역 내에 오버레이하면서 노광할때 오버레이 이동량을 최소화하기 위한 제1,2보정량을 구하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 패턴의 이미지를 서로 결합하는 동시에 예정된 영역으로 오버레이하면서 노광할때 결합부에서의 오버레이 이동량의 차를 최소화하기 위한 제1,2보정량을 구하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제4항에 있어서, 상기 결합부에 대응하여 원판상의 위치에 다수의 마크를 배열하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제4항에 있어서, 상기 결합부에 존재하는 패턴의 연장부의 방향에 수직인 방향으로 이동 성분을 최호화하기 위한 제1, 2보정량을 구하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 원판과 광감지 기판을 위치설정하고 예정된 광학 특성을 가지는 투영 광학 시스템을 통해 광감지 기판상의 예정된 영역에 원판의 패턴을 투영하기 위한 투영 노광 방법에 있어서, 원판의 패턴이 존재하는 영역둘레의 다수의 마크를 배열하는 단계와, 광감지 기판의 표면과 거의 동일한 평면에 투영된 다수의 마크의 이미지의 위치를 검출하는 단계와, 다수의 마크가 투영 광학 시스템에 의해 투영되는 지정된 위치로부터의 다수의 마크의 이미지의 검출된 위치의 이동량에 따라서, 지정된 위치에 대한 원판상의 마크의 위치 이동과, 광감지 기판에 대한 원판의 위치 이동과, 예정된 광학 특성에 대해 투영 광학 시스템의 광학 특성의 편차 중 적어도 하나를 얻는 단계와, 구해진 위치 이동에 근거한 광감지 기판을 위치 설정하기 위한 제1보정량과, 구해진 편차에 근거한 투영 광학 시스템의 광학 특성과 관련된 제2보정량 중 적어도 하나를 얻는 단계와, 상기 제1, 2보정량 중 적어도 하나를 근거해서 투영 광학 시스템의 광학 특성과, 광감지 기판의 위치와 원판의 위치 중 적어도 하나를 보정하는 단계와 예정된 영역에 패턴의 이미지를 오버레이시켜 노광하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 원판과 광감지 기판을 위치설정하고 예정된 광학 특성을 가지는 투영 광학 시스템을 통해 광감지 기판상의 예정된 영역에 원판의 패턴을 투영하기 위한 투영 노광 방법에 있어서, 원판의 패턴이 존재하는 영역둘레의 다수의 마크를 배열하는 단계와, 광감지 기판의 표면과 거의 동일한 평면에 투영된 다수의 마크의 이미지의 위치를 검출하는 단계와, 다수의 마크가 투영 광학 시스템에 의해 투영되는 지정된 위치로부터의 다수의 마크의 이미지의 검출된 위치의 이동량에 따라서, 지정된 위치에 대한 원판상의 마크의 위치 이동과, 광감지 기판에 대한 원판의 위치 이동과, 예정된 광학 특성에 대해 투영 광학 시스템의 광학 특성의 편차 중 적어도 하나를 얻는 단계와, 구해진 위치 이동에 근거한 광감지 기판을 위치 설정하기 위한 제1보정량과, 구해진 편차에 근거한 투영 광학 시스템의 광학 특성과 관련된 제2보정량 중 적어도 하나를 얻는 단계와, 상기 제1, 2보정량 중 적어도 하나를 근거해서 투영 광학 시스템의 광학 특성과, 광감지 기판의 위치와 원판의 위치 중 적어도 하나를 보정하는 단계와 패턴의 이미지를 서로 결합하면서 예정된 영역에 인접한 영역에 패턴의 이미지를 노광하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6136289A JPH07321026A (ja) | 1994-05-26 | 1994-05-26 | 投影露光装置 |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| KR950033697A true KR950033697A (ko) | 1995-12-26 |
Family
ID=15171696
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950013103A KR950033697A (ko) | 1994-05-26 | 1995-05-25 | 투영 노광 방법 |
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| JP (1) | JPH07321026A (ko) |
| KR (1) | KR950033697A (ko) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1994
- 1994-05-26 JP JP6136289A patent/JPH07321026A/ja active Pending
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1995
- 1995-05-25 KR KR1019950013103A patent/KR950033697A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07321026A (ja) | 1995-12-08 |
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