KR950030921A - 냉각과 함께 레이저 빔에 의하여 모발을 탈색하는 방법 및 그 실시를 위한 장치 - Google Patents

Abstract

적어도 부분적으로 모발을 탈색하기에 충분한 파워의 레이저 빔을 사용하여 모발 타래 또는 일부분을 조사함으로써 하나의 모발 타래 또는 일부분을 탈색하는 방법으로서, -모발의 멜라닌 분해에 의하여 상기한 부위의 모발, 적어도 일부분을 탈색하기 위해서 모발 타래의 상기한 일부분의 부위를 펄스를 형태로써 조사는 레이저 빔의 조사에 의하여 처리하고, -필요에 따라서, 상기한 레이저 빔에 대한 상기한 모발 타래의 상대적 운동에 의해서, 상기한 모발 타래의 전체적인 처리를 위하여 하나 또는 그 이상의 다른 부위가 연속적으로 유사한 방법으로 처리하고, -상기한 처리를 상기한 모발 타래 또는 모발 타래의 일부분에 원하는 정도의 탈색이 이루어질 때까지 가능한한 반복하고, -상기한 탈색 처리동안, 상기한 모발을 손상시키는 국부적 가열을 예방하기에 충분하게, 처리된 부위에서 냉각시키는 것을 포함하는 방법.

Description

냉각과 함께 레이저 빔에 의하여 모발을 탈색하는 방법 및 그 실시를 위한 장치

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 본 발명의 장치의 제일 실시예의 개략도이다. 제2도는 이셉터클을 수행하고 있는 제1도의 장치의 일단의 부분 평면도이다. 제3도는 제1도의 장치의 상보적 피스의 일단부의 부분 저면도이다. 제4도는 제1도의 장치의 사용 모드를 개략적으로 나타내는 도면이다.

Claims (23)

1. 모발을 탈색시키기에 충분한 파워의 레이저 빔을 사용하여 모발 또는 모발 타래 또는 모발 타래의 일부분을 조사에 의해서 적어도 하나의 모발 타래 또는 모발 타래의 일부분을 탈색하는 방법으로서, -모발의 멜라닌 분해에 의하여 상기한 부위의 모발, 적어도 일부분을 탈색하기 위해서 모발 타래의 상기한 일부분의 부위를 펄스의 형태로써 조사는 레이저 빔의 조사에 의하여 처리하고, -필요에 따라서, 상기한 레이저 빔에 대한 상기한 모발 타래의 상대적 운동에 의해서, 상기한 모발 타래의 전체적인 처리를 위하여 하나 또는 그 이상의 다른 부위가 연속적으로 유사한 방법으로 처리하고, -상기한 처리를 상기한 모발 타래 또는 금발 타래의 일부분에 원하는 정도의 탈색이 이루어질 때까지 충분히 반복하고, -상기한 탈색 처리동안, 상기한 모발을 손상시키는 국부적 가열을 예방하기에 충분하게, 처리된 부위에서 냉각시키는 것을 특징으로 하는 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기한 모발은 처리된 부위를 액체를 순환시켜 냉각하는 것을 특징으로 하는 방법.
3. 제2항에 있어서, 상기한 모발은 처리된 부위를 모발이 잠기는 가스 흐름을 발생시켜 냉각하는 것을 특징으로 하는 방법.
4. 상기한 항중 어느 한 항에 있어서, 상기한 조작은 충분한 펄스당 전달되는 파워, 에너지 밀도가 모발의 케로틴 파이버가 손상을 입은 임계점 이상이 아니고, 상기한 임계점은 처리할 모발의 자연 색상이 짙을수록 잦아지는 에너지 밀도로 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
5. 제4항에 있어서, 상기한 에너지 밀도는 532㎚에서 0.1 내지 1.2J/㎠인 것을 특징으로 하는 방법.
6. 상기한 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 조작은 하기한 크기의 펄스당 최대 에너지 밀도를 초과하지 않으며 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.

   -일본식 모발에 있어서는 0.35J/㎠, -짙은 밤색 모발에 있어서는 0.4J/㎠, -옅은 밤색 모발에 있어서는 0.5J/㎠, -짙은 금발에 있어서는 0.7J/㎠, -옅은 금발에 있어서는 1.2J/㎠, 상기 에너지 밀도의 값은 532㎚의 파장의 조사에 대하여 주어지고 사용된 조사가 532㎚ 이외의 파장 λ(㎚로 표현)를 갖을 때에는 하기한 보정계수를 곱한다.
7. 상기한 항중 어느 한 항에 있어서, 상기한 조작은 펄스당 하기의 에너지 밀도(J/㎠)를 얻기 위해서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.

   -일본식 모발에 있어서는 0.2 내지 0.35, -짙은 밤색 모발에 있어서는 0.2 내지 0.4, -옅은 밤색 모발에 있어서는 0.15 내지 0.5, -짙은 금발에 있어서는 0.15 내지 0.7, -옅은 금발에 있어서는 0.1 내지 1.2, 상기 에너지 밀도의 값은 532㎚의 파장의 조사에 대하여 주어지고 사용된 조사가 532㎚ 이외의 파장 λ(㎚로 표현)를 갖을 때에는 하기한 보정계수를 곱한다.
8. 상기한 항중 어느 한 항에 있어서, 탈색 공정동안, 처리된 모발을 염색제를 사용하여 염색할 때, 모발의 조사 추가 공정을, 상기한 항중 어느 한 항에 기재된 것과 유사한 방식으로, 그러나 염색제를 파괴 또는 분해하기에 충분한 보다 높은 에너지 밀도로 수행하는 것을 더욱 특징으로 하는 방법.
9. 제8항에 있어서, 상기한 보다 높은 에너지 밀도는 532㎚에서 펄스당 0.8J/㎠과 적어도 동일한 것을 특징으로 하는 방법.
10. 상기한 항중 어느 한 항에 있어서, 탈색 공정동안, 모발의 리본을 형성하기 위해 그리고 처리될 부위의 모발을 상기한 리본의 부위들중 적어도 하나에 조사에 의해 탈색하도록 하기 위하여 상기한 타레가 미리 배열되는 것을 특징으로 하는 방법.
11. 상기한 항중 어느 한 항에 있어서, -상기 조작은 처리될 모발 타래의 리셉터클을 포함하는 처리장치를 사용하여 수행되고, 상기한 리셉터클의 페이스는 상기한 레이저 빔의 출구로써 오리피스를 가지고 있으며, -리본의 형태로 펼쳐있는 상기한 타래의 머리카락, 그 길이는 적어도 일부분 이상을 상기한 리셉터클의 표면에 놓아 처리될 부위가 상기한 오리피스와 대향되게 하고, -상기한 부위에 조사를 실시하고, -레이저 빔에 대한 상기한 타래의 상대적 운동에 의하여, 처리될 다른 부위의 조사가 연속적으로 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
12. 제11항에 있어서, 상기한 상대적 이동은 상기한 리셉터클에 대한 상기한 타래의 상대적 이동을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
13. 제11항 또는 제12항에 있어서, 상기한 상대적 이동은 처리될 부위의 스캐닝을 수행하기 위하여 레이저 빔의 방향을 변경하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 방법.
14. 상기한 항중 어느 한 항에서 정의된 방법을 실행하는 장치로서, -리셉터클(2)을 장착한 본체(1)로서, 상기 리셉터클은 모발의 길이의 적어도 일부 이상을 처리될 모발 타래에 대한 하우징으로서 제공되고, 상기한 타래는 리본의 형태로 펼쳐있는 본체와, -상기한 리셉터클에 배열된 모발 타래의 적어도 일부 부위를 조사하기 위한 레이점 빔 이동 수단(3,3b, 4.3a)과, -상기한 조사 부위 또는 부위들에서 상기한 모발을 냉각하기 위한 수단(8,8a)를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
15. 제14항에 있어서, 상기한 모발을 냉각 시키기 위한 수단은 가스 흐름을 발생하는 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
16. 제14 또는 제15항에 있어서, 상기한 리셉터클은 넓고 바닥의 그루브(2)를 포함하여, 상기한 바닥상에 상기한 리본이 펼쳐질 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
17. 제16항에 있어서, 상기한 그루부는 탈착 가능한 모양의 탈착가능 피스(5)와 결합되고, 상기한 탈착가능 피스는 상기한 그루브에 삽입될 수 있고 상기한 피스와 상기한 그루브의 바닥 사이에 상기한 리본에 대한 하우징을 형성하는 공간을 남기는 것을 특징으로 하는 장치.
18. 제17항에 있어서, 상기한 피스는 처리될 타래를 리셉터클내로 도입하거나 또는 그로부터 제거할 수 있는 제거할 수 있는 레버(7)를 움직여 탈착할 수 있는 것을 특징으로 하는 장치.
19. 제16항 내지 제18항중 어느 한 항에 있어서, 상기한 그루브의 바다 및/또는 상기한 바닥에 대향하는 상기한 피스의 일 페이스는 조사되는 부위상에 레이저 빔의 퇴출을 위한 오리피스를 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
20. 제16항 내지 제19항중 어느 한 항에 있어서, 상기한 그루브의 바닥 또는 상기한 바닥에 대향하는 상기한 피스의 일면이 가스 흐름을 발생하기 위한 오리피스(8a)를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
21. 제14항에 있어서, 상기한 리셉터클은 상기한 본체의 표면에 나타나고 그 폭의 전체에 대하여 상기한 리본의 삽입이 가능하도록 충분한 깊이를 갖는 좁은 슬롯의 형상의 그루브를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
22. 제21항에 있어서, 상기한 좁은 슬롯에 대향하는 페이스(12, 13)의 적어도 하나는 레이저 빔의 퇴출을 위한 오리피스를 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
23. 제21항 또는 제22항에 있어서, 상기한 좁은 슬롯에 대향하는 페이스(12, 13)의 적어도 하나가 가스 흐름을 발생시키기 위한 오리피스를 갖는 것을 특징으로 하는 장치.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.