KR950030919A - 탈색된 모발에 수행되는 미용 처리 결과를 향상시키기 위한 방법 - Google Patents

Abstract

탈색된 모발에 행해지는 미용 처리의 결과를 향상시키기 위한 방법으로서 본 방법은 레이저의 방사를 이용한 조사에 의해서 탈색된 모발에 상기한 처리를 적용하는 것이다. 본 탈색 방법은 화학적 방법에 비하여 모발의 기계적 및 물리 화학적 특성에 나쁜 영향을 초래하지 않으며, 이러한 방법에 의해서 탈색된 모발에 미용 처리가 행해질 경우 퍼머, 염색 및 그 밖의 모발 미용 처리에 바람직한 결과를 가져온다.

Description

탈색된 모발에 수행되는 미용 처리 결과를 향상시키기 위한 방법

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도의 본 발명의 장치의 제일 실시예의 개략도로서, 그 일단에 넓은 바닥의 그루브의 형상의 리셉터클과 레버에 의해 작동할 수 있는 상보적인 피스를 포함하고 있다. 제2도는 리셉터클을 수행하고 있는 제1도의 장치의 일단의 부분 평면도이다. 제3도는 제1도의 장치의 상보적 피스의 일단부의 부분저면도이다. 제4도는 제1도의 장치의 사용 모드를 개략적으로 나타내는 도면이다.

Claims (17)

1. 탈색된 모발에 적용되는 미용 처리 결과를 향상시키기 위한 방법으로서, 상기한 처리는 레이저 방사를 이용한 조사에 의해서 탈색된 모발에 적용되는 것을 특징으로 하는 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 미용 처리는 퍼머 모양 바꿈 처리, 염색 처리, 세발 또는 영양 성분의 적용 및 로숀 또는 레커의 적용 중에서 적어도 하나인 방법.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기의 모발은, 모발을 탈색시키기에 충분한 파워의 레이저 빔을 사용하여 하나의 모발타래, 모발타래의 일부분을 조사함으로써 최소한 부분적으로 탈색시키는 방법.
4. 제3항에 있어서, 모발을 탈색시키기 위하여, -모발타래의 상기한 일부분의 부위는 모발의 멜라닌의 손상에 의해서 상기한 부위의 모발을 최소한 부분적으로 탈색하기 위해서 펄스의 형태로써 방사되는 레이저 빔의 조사로써 처리하고, -필요에 따라서, 상기한 레이저 빔에 대한 상기한 모발타래의 상대적 운동에 의해서 상기한 모발타래의 전체적인 처리를 위해서 하나 또는 그 이상의 다른 부위를 연속적으로 유사한 방법으로 이루어지며, -상기한 처리를 상기한 모발타래 또는 모발타래의 일부분에 원하는 탈색이 이루어질 때까지 가능한한 반복하고, -상기 조작은 충분한 펄스당 전달되는 파워, 0.1 내지 1.2 J/㎠의 레이저 조사로 수행되며, 상기한 에너지 밀도의 값은 532㎚ 파장의 조사에 대하여 주어지고, 상기의 선택된 에너지 밀도는 모발의 케로틴 파이버가 손상을 입는 임계점보다 크지 않고, 상기한 임계점은 처리되는 모발의 천연색이 짙을수록 낮아진다.
5. 제4항에 있어서, 상기 조작은 펄스당 최대 에너지 밀도가 다음을 초과하지 않고 수행되는 방법.

   -일본식 모발에 있어서는 0.35 J/㎠, -짙은 밤색 모발에 있어서는 0.4 J/㎠, -옅은 밤색 모발에 있어서는 0.5 J/㎠, -짙은 금발에 있어서는 0.7 J/㎠, -옅은 금발에 있어서는 1.2 J/㎠, 상기 에너지 밀도 값은 532nm의 파장의 조사에 대하여 주어지고 사용된 조사가 532㎚이외의 파장λ(㎚로 표현)를 갖는 때에는 하기한 보정계수를 곱한다.
6. 제5항에 있어서, 상기의 조작은 펄스당 하기의 에너지 밀도(J/㎠)를 얻기 위해서 수행되는 방법.

   -일본식 모발에 있어서는 0.2 내지 0.35, -짙은 밤색 모발에 있어서는 0.2 내지 0.4, -옅은 밤색 모발에 있어서는 0.15 내지 0.5, -짙은 금발에 있어서는 0.15 내지 0.7, -옅은 금발에 있어서는 0.1 내지 1.2, 상기 에너지 밀도 값은 532㎚의 파장의 조사에 대하여 주어지고 사용된 조사가 532㎚ 이외의 파장 λ(㎚로 표면)를 갖는 때에는 하기한 보정계수를 곱한다.
7. 상기한 항중의 어느 한 항에 있어서, 탈색 단계에서 처리된 모발을 염색약을 사용해서 염색해야 할 경우 모발의 조사 추가 공정을, 항중 어느한 항에서 기술된 것과 유사한 방법으로, 그러나 염색약을 파괴하거나 또는 분해시킬 수 있을 만큼 충분히 높은 에너지 밀도로 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
8. 제7항에 있어서, 상기한 높은 에너지 밀도는 532㎚에서 펄스 당 0.8 J/㎠와 최소한 같아야할 것을 특징으로 하는 방법.
9. 제3항 내지 제8항중의 어느 한 항에 있어서, 모발에 손상을 주는 국부적인 가열을 방지하기 위해서 탈색 단계에서, 펄스의 주파수가 제한되고 및/또는 레이저 빔에 대하여 처리되는 모발타래의 상대적인 운동이 충분히 수행되며 및/또는 모발이 처리된 부위에서 냉각되는 것을 특징으로 하는 방법.
10. 제3항 내지 제9항중의 어느 한 항에 있어서, 탈색 단계에서 모발의 리본을 형성하기 위해서 상기한 모발타래가 사전에 배열되며, 처리되는 부위내 모발은 상기한 리본의 최소한 하나의 페이스에 조사에 의해 탈색되는 것을 측징으로 하는 방법.
11. 제3항 내지 제10항의 어느 한 항에 있어서, 상기한 탈색 단계동안, -상기 조작은 처리되는 모발타래의 리셉터클을 포함하는 처리장치를 사용하여 수행하고, 상기한 리셉터클의 페이스는 상기한 레이저 빔의 출구로써 오리피스를 가지고 있으며, -리본의 형태로 퍼져있는 상기한 타래의 머리카락, 그 길이의 적어도 일부분 이상을 상기한 리셉터클의 표면에 놓아 처리될 부위가 상기한 오리피스와 대향되게 하고, -상기한 부위에 방사를 실시하고, -레이저빔에 대한 상기한 타래의 상대적 운동에 의하여, 처리될 다른 부위의 방사가 연속적으로 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
12. 제11항에 있어서, 상기한 상대적 운동은 상기한 리셉터클에 대한 상기한 타래의 상대적 운동을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
13. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기한 상대적 운동은 처리되는 부위의 주사를 수행하기 위해 레이저 빔의 방향을 변경시킴으로써 달성되는 것을 특징으로 하는 방법.
14. 제9항 내지 제13항중의 어느 한 항에 있어서, 상기한 모발은 유체의 순환에 의해서 냉각되는 것을 특징으로 하는 방법.
15. 제14항에 있어서, 상기한 모발은 처리 부위에서 가스 흐름을 발생시켜 냉각하는 것을 특징으로 하는 방법.
16. 탈색된 모발에 수행되는 미용 처리 방법을 향상 시키기 위하여 레이저 방사를 사용하는 모발 탈색 용도.
17. 제16항에 있어서, 상기한 탈색은 제4항 내지 15항중 어느 한 항의 방법에 의해서 수행되는 것을 특징으로 하는 용도.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.