KR950001742Y1 - Nitrogen supplying apparatus for dry pump - Google Patents
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Abstract
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Description
제1도는 종래 드라이 펌프 질소공급 장치의 구성도.1 is a block diagram of a conventional dry pump nitrogen supply device.
제2도는 본 고안의 핫 질소공급 장치의 구성도.2 is a block diagram of a hot nitrogen supply device of the present invention.
제3도는 본 고안의 히터제어 시스템 구성도.3 is a block diagram of a heater control system of the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
1 : 드라이펌프 3 : 튜브1: dry pump 3: tube
4 : 전류브레이커 5 : 온도제어부4: current breaker 5: temperature control unit
V1-V3: 밸브 S : 더오커플V 1 -V 3 : Valve S: The Coupler
H : 히터H: heater
본 고안은 확산 LP-CVD(저압화학 기상증착)공정에 사용되는 메인(MAIN)설비에 연결된 진공 드라이 펌프(VACUUM DRY PUMP)에 관한 것으로, 특히 진공 드라이 펌프 외부에서 히터를 이용하여 핫(HOT) 질소를 공급하므로 펌프의 전, 후단 온도 차이를 제거하기에 적당하도록 한 것이다.The present invention relates to a vacuum dry pump (VACUUM DRY PUMP) connected to the main equipment used in the diffusion LP-CVD (low pressure chemical vapor deposition) process, in particular, a hot (HOT) using a heater outside the vacuum dry pump Since nitrogen is supplied, it is suitable to eliminate the difference between the front and rear stages of the pump.
종래 확산 저압 화학 기상증착 공정 장비로 공정 진행시 프로세스 튜브내 공정압력 33.3Pa을 유지시키기 위해 메인 장비에 연결된 제1도의 종래 구성과 같이 진동 드라이펌프(1)에서 100-200Pa 밖에 펌핑(PUMPING)이 않되므로 OPa까지 전압을 유지하기 위해 상기 펌프(1)와 튜브(3) 사이에 설치된 2차 MBP(Mechical Boostar Pump)(2)를 온시켜 OPa까지 압력을 저하시킬 수 있도록 하고 있다.As the conventional configuration of FIG. 1 connected to the main equipment to maintain the process pressure 33.3 Pa in the process tube during the process with the conventional diffusion low pressure chemical vapor deposition process equipment, pumping only 100-200 Pa in the vibration dry pump 1 is performed. Therefore, in order to maintain the voltage up to OPa, the secondary mechanical booster pump (MBP) 2 installed between the pump 1 and the tube 3 is turned on to reduce the pressure to OPa.
여기서, 드라이펌프(1) 내부에는 4스테이지(STAGE)가 구성되어 있으며 펌프(1)의 코디션(codition)을 유지시키기 위해 펌프(1)온시 항상 밸브(V2)(V3)가 오픈(open)되어 질소가 외부로 부터 유입된다.Here, the four stage (STAGE) is configured in the dry pump 1 and the valve (V 2 ) (V 3 ) is always open when the pump (1) on in order to maintain the coordination of the pump (1) ( nitrogen is introduced from outside.
또한, 런(RUN) 진행시에는 공정가스(SiH2Cl2+NH3)가 튜브(3)로 유입되어 고온에 의해 형성도는 파우더성분(HN4Cl)화학가스가 펌프(1) 내부 각 스테이지에 증착되는 것을 방지하기 위해 밸브(V1)가 온되면서 이 밸브(V1)를 통하여도 N2가스가 유입되게 구성되어 있다.In addition, during run, process gas (SiH 2 Cl 2 + NH 3 ) flows into the tube (3), and the powder component (HN 4 Cl) chemical gas formed by the high temperature is formed inside the pump (1). In order to prevent deposition on the stage, the valve V 1 is turned on so that the N 2 gas is also introduced through the valve V 1 .
종래 메인 설비에 연결된 드라이펌프(1) 부속설비(밸브류)의 동작 설명은 다음과 같다.Description of the operation of the dry pump (1) attached equipment (valve) connected to the conventional main equipment is as follows.
즉, 공정을 진행하기 전 스탠바이 상태에서는 항상 파우어가 온된 상태에서 밸브(V1-V3)가 모두 온되어 질소 가스가 유입됨과 아울러 프로세스 튜브(3)내가 상압이므로 MBP(2)는 오프된다.That is, in the standby state before the process proceeds, the valves V 1 -V 3 are all turned on while the power is always turned on, so that nitrogen gas is introduced and the inside of the process tube 3 is atmospheric pressure, so the MBP 2 is turned off.
또한, 공정 런 상태에서는 드라이펌프(1)와 MBP(2) 그리고 밸브(V2)(V3)가 온되나 밸브(V1)는 오프되는데 이는 런 상태에서는 공정압력 이하로 시스템 퍼지(PURGE)가 떨어지지 않기 때문이다.In addition, the dry pump (1), MBP (2) and the valve (V 2 ) (V 3 ) is turned on in the process run state, but the valve (V 1 ) is off, the system purge below the process pressure in the run state (PURGE) Because it does not fall.
그러나 상기와 같은 종래 기술에 있어서는 SiH2Cl2+NH3가스가 프로세스튜브(3)로 유입되어 고온에 의해 NH4Cl의 화학가스가 발생되면서 튜브(3) 외부로 펌핑되며, 또한 펌프(1)내부에 N2가스가 유입되므로 드라이펌프(1) 전, 후단에는 온도차이가 발생하여 펌프 다운(DOWN) 발생이 많아져 생산성이 저하되는 결점이 있다.However, in the prior art as described above, the SiH 2 Cl 2 + NH 3 gas flows into the process tube 3 and is pumped out of the tube 3 while generating a chemical gas of NH 4 Cl by high temperature. Since N 2 gas flows into the inside, a temperature difference occurs before and after the dry pump 1, resulting in a high number of pump downs, resulting in a decrease in productivity.
본 고안은 이와같은 종래의 결점을 해결하기 위하여 안출한 것으로 질소가스 주입구와 밸브사이에 히터를 설치하여 질소가스를 핫 상태로 만들어 공급하므로 공정시 생성되는 NH4Cl화학가스의 기체 성분을 최대한 유지시켜 펌프 내부 및 배기라인 내부에 파우다가 생성되는 것을 방지할 수 있는 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been devised to solve the above-mentioned drawbacks, and by installing a heater between the nitrogen gas inlet and the valve, the nitrogen gas is made hot and supplied, thus maintaining the gas component of NH 4 Cl chemical gas generated during the process to the maximum. It is an object of the present invention to provide a device that can prevent the formation of powder in the pump and in the exhaust line.
이하에서 이와같은 목적을 달성하기 위한 본 고안의 실시예를 첨부된 도면 제2도와 제3도를 참고로 하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment of the present invention for achieving the above object will be described in detail with reference to FIGS. 2 and 3 of the accompanying drawings.
먼저 제2도는 본 고안의 핫 질소 공급을 위한 장치의 구성도로 튜브(3), 드라이 펌프(1), MBP(2), 밸브(V1-V3)로 이루어지는 구성을 종래와 같으며 상기 밸브(V1-V3)와 N2주입부분 사이에 히터(H)를 설치하여 질소를 핫 상태로 만들 수 있도록 구성한 것이다.First, Figure 2 is a configuration of a device for supplying hot nitrogen of the present invention as shown in the conventional configuration consisting of a tube (3), a dry pump (1), MBP (2), valves (V 1- V 3 ) A heater (H) is installed between (V 1 -V 3 ) and N 2 injection part to make nitrogen hot.
제3도는 이러한 본 고안의 히터의 온도를 제어하기 위한 히터제어 시스템의 구성도로 코일이 2등분하여 설치된 히터(H)와, 상기 히터(H) 전단에 설치되어 공급 전류를 조절하는 전류조절 수단인 SSR(Solenoid Set Relay)과, 상기 히터(H)의 전원공급단과 상기 SSR사이에 접속되어 이상 발생시 전원을 오프시키는 전류브레이커(4)와, 코일 사이에 설치되어 히터의 온도를 감지하는 열 감지 수단인 더모커플(S)과, 상기 더모커플(S)과 SSR사이에 연결되어 히터(H)가 일정온도를 유지할 수 있도록 제어하는 온도제어부(5)를 구비하여서 이루어진 것이다.Figure 3 is a configuration of a heater control system for controlling the temperature of the heater of the present invention is a heater (H) is installed in two coils, and the current control means is installed in front of the heater (H) to adjust the supply current SSR (Solenoid Set Relay), the current breaker (4) connected between the power supply terminal of the heater (H) and the SSR to turn off the power in the event of an abnormality, and the heat sensing means installed between the coil to sense the temperature of the heater The thermocouple (S) and the thermocouple (S) and the SSR is connected to the temperature control unit (5) for controlling to maintain a constant temperature is made.
이와같이 구성된 본 고안은 LP-CVD나이트라이드(NITRIDE)공정 장비의 메인 설비에 연결된 드라이 펌프(1)에 질소가스가 유입되기 전 외부에서 히터(H)로 가열하여 핫 질소가스를 밸브(V1-V3)를 통해 드라이펌프(1)에 공급하면 튜브(3) 외부로 배출된 NH4Cl의 파우다 성분이 액화되지 않고 기체 상태로 배기구로 배출되므로 펌프(1) 전, 후단의 온도 차이가 발생하지 않게 된다.In this way, the present invention is configured to heat the hot nitrogen gas to the valve (V 1- ) by heating it with a heater (H) before the nitrogen gas is introduced into the dry pump (1) connected to the main equipment of the LP-CVD nitride process equipment. When supplied to the dry pump (1) through V 3 ), the powder component of NH 4 Cl discharged to the outside of the tube (3) is not liquefied but is discharged to the exhaust port in gaseous state, so that a difference in temperature before and after the pump (1) occurs. You will not.
이때 히터(H)가 일정한 온도를 유지할 수 있도록 온도제어부(5)에서 히터(H) 근처에 설치한 더모커플(S)을 통하여 온도를 감지하여 온도를 항상 일정하게 제어하게 된다.At this time, so that the heater H maintains a constant temperature, the temperature control unit 5 detects the temperature through the thermocouple S installed near the heater H, thereby controlling the temperature constantly.
만일, SSR이 쇼트(Short)될 경우 온도제어가 제대로 이루어지지 않아 전원이 최대로 히터(H)에 공급되면서 온도가 급상승하여 화재를 발생할 수 있으므로 본 고안에서는 과 온도 셀 포인트(over Tomp set point)를 설정하여 과 온도시 온도제어부(5)에서 전류 브레이커를 트립시켜 히터(H)를 보호하도록 되어 있다.If the SSR is short, the temperature control is not performed properly, so the power may be supplied to the heater H at the maximum and the temperature may rise rapidly, causing a fire. It is set to protect the heater (H) by tripping the current breaker in the temperature control unit (5) during over temperature.
이상에서 설명한 바와같은 본 고안은 LP-CVD나이트라인 공정진행시 형성되는 파우다 성분의 NH4Cl가스가 튜브(3)에서 펌핑될때 펌프(1)에 핫 N2를 공급하여 펌프(1) 전, 후단 온도차이를 없애므로 프로세스 공정진행시 형성되는 NH4Cl의 기체 성분의 가스가 액화되지 않고 그대로 기체 성분을 유지한 상태로 배기구로 배출되므로 펌프 다운의 횟수를 약 3배 줄일 수 있어 생산성을 향상시킬 수 있으며, 시간 손실을 방지할 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention provides hot N 2 to the pump 1 when NH 4 Cl gas of powder component formed during the LP-CVD nightline process is pumped from the tube 3, before the pump 1, By eliminating the temperature difference in the rear stage, the gas of NH 4 Cl gas formed during the process process is not liquefied and is discharged to the exhaust port while maintaining the gas component as it is. It is possible to prevent the loss of time.
Claims (4)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR92010445U KR950001742Y1 (en) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | Nitrogen supplying apparatus for dry pump |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR92010445U KR950001742Y1 (en) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | Nitrogen supplying apparatus for dry pump |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR940001965U KR940001965U (en) | 1994-01-03 |
| KR950001742Y1 true KR950001742Y1 (en) | 1995-03-13 |
Family
ID=19334761
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| KR92010445U KR950001742Y1 (en) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | Nitrogen supplying apparatus for dry pump |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR950001742Y1 (en) |
-
1992
- 1992-06-12 KR KR92010445U patent/KR950001742Y1/en not_active IP Right Cessation
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|---|---|
| KR940001965U (en) | 1994-01-03 |
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