KR950001172Y1 - Slit valve - Google Patents
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Abstract
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Description
제1도는 본 고안의 정면도.1 is a front view of the present invention.
제2도는 제1도의 A-A선을 절취한 상태의 단면도.2 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
1 및 10 : 플랜지 12 : 힌지1 and 10: flange 12: hinge
13 : 도어 20 : 로타리 에어실린더13: door 20: rotary air cylinder
20A : 샤프트 21 : 커플링20A: shaft 21: coupling
22 : 컨넥터 30 : 마그네틱 로타링 밀봉부재22 connector 30 magnetic sealing ring member
본 고안은 슬랫 밸브(Slit valve)에 관한 것으로서, 특히 좁은 공간에서도 설치 및 작동될 수 있도록 구성한 슬릿 밸브에 관한 것이다.The present invention relates to a slit valve, and more particularly to a slit valve configured to be installed and operated in a narrow space.
반도체 제조공정에서, 웨이퍼 표면에 고집적 회로를 구성할때 사용되는 대부분의 장비는 공정이 진행되는 공정실(chamber)과, 공정이 완료된 웨이퍼를 인출하여 미리준비된 캐리어(carrier)로 인출시키는 로딩(Loading)챔버로 구분된다.(공정실로 웨이퍼를 유입시키기도 함).In the semiconductor manufacturing process, most of the equipment used to construct a highly integrated circuit on the wafer surface is loaded with a process chamber in which the process proceeds, and a wafer which takes out the processed wafer and pulls it out into a prepared carrier. It is divided into chambers (some wafers are introduced into the process chamber).
공정실은 그 내부가 고진공을 유지하면서 공정이 진행되므로 일반대기압 상태 혹은 미세먼지를 제거하기 위해 어느 정도의 진공을 유지하는 로딩부와 연통상태를 이루면서 외부와는 철저하게 격리시켜야 한다.Since the process chamber maintains a high vacuum inside, the process chamber must be thoroughly insulated from the outside while communicating with a loading unit that maintains a certain amount of vacuum to remove general atmospheric pressure or fine dust.
공정실과 로딩부를 서로 연통시킴과 동시에 공정진행시에는 공정실 내부를 밀봉시키는데 필요한 장치가 슬릿밸브로서, 기존의 슬릿 밸브는 원통형 에어실린더나 모터를 사용하여 구동하게 되나, 비교적 넓은 설치 공간을 필요로하게 되며, 슬릿밸브로 인하여 공정실 내부와 외부(대기)의 완전한 격리나 이루어지지 않아 웨이퍼의 오염문제가 야기된다.The slit valve is a slit valve that is required to connect the process chamber and the loading part to each other and to seal the process chamber during the process. The conventional slit valve is driven by using a cylindrical air cylinder or a motor, but requires a relatively large installation space. Due to the slit valve, the inside and outside of the process chamber (atmosphere) is not completely isolated or the contamination of the wafer is caused.
본 고안은 공정실을 개폐하는 슬릿밸브의 사용상 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 좁은 공간에서도 설치가능하고, 공정진행시 고진공을 요하는 공정실 내부를 완전히 밀봉시킬 수 있도록 구성한 슬릿 밸브를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention is to solve the problem of the use of the slit valve to open and close the process chamber, it is possible to install in a narrow space, to provide a slit valve configured to completely seal the inside of the process chamber requiring high vacuum during the process. There is this.
이하, 본 고안을 첨부한 도면을 참고하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings of the present invention will be described in detail.
제1도는 본 고안의 정면도, 제2도는 제1도의 A-A선을 따라 절취한 상태의 단면도로서, 본 고안은 로딩챔버와 공정챔버 내부를 서로 연통시키기 위하여 서로 접속되어 있는 로딩챔버 플랜지(1)와 공정챔버 플랜지(10)간의 경계 공간에 설치된다.1 is a front view of the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view taken along the line AA of Figure 1, the present invention is a loading chamber flange (1) connected to each other to communicate the interior of the loading chamber and the process chamber to each other And the process chamber flange 10.
공정챔버 플랜지(10) 선단에는 플랜지 구성부재를 절개하여 공간(11)을 형성하고, 그 공간(11)내에 공정챔버 플랜지(10)의 유입구(10A)를 차단하는 도어(13, Door)가 설치되어 있으며, 공정챔버플랜지(10) 측부에는 로타리 에어실린더(20)를 설치하여 도어(13)를 개폐시킨다.At the distal end of the process chamber flange 10, a flange 11 is formed to form a space 11, and a door 13 is provided in the space 11 to block the inlet 10A of the process chamber flange 10. In addition, a rotary air cylinder 20 is installed at the side of the process chamber flange 10 to open and close the door 13.
상세히 설명하면, 공정챔버 플랜지(10) 측부에 설치된 로타리 에어실린더(20)의 작동암은 샤프트 커플링(21, Shaft Coupling)과 컨넥터(22, Connector)를 통하여 샤프트(20A)와 서로 접속되어 있다.In detail, the operating arm of the rotary air cylinder 20 installed on the side of the process chamber flange 10 is connected to the shaft 20A through the shaft coupling 21 and the connector 22. .
샤프트(20A)의 한단부(컨넥터의 반대단부)는 레디얼 베어링(23A, Radial Bearing)을 통하여 베어링 고정대(23)내에 수용되어 있으며, 베어링 고정대(23)는 공간(11)에 대응하는 플랜지 유입구(10A) 연변에 고정된다.One end (opposite end of the connector) of the shaft 20A is accommodated in the bearing holder 23 through the radial bearing 23A, and the bearing holder 23 is a flange inlet (corresponding to the space 11). 10A) Fixed at the margins.
한편, 공정챔버 플랜지(10)의 유입구(10A)를 개폐하는 도어(13)가 샤프트(20A)에 연결되어 있다.On the other hand, a door 13 for opening and closing the inlet 10A of the process chamber flange 10 is connected to the shaft 20A.
즉, 샤프트(20A)의 중간부분에는 일정길이로 이루어진 힌지(12)의 한단부가 고정되어 있고, 힌지(12)의 또다른 단부에는 힌지축(12A)이 관통되어 진다. 힌지축(12A) 양단에는 래디얼 베어링(24)이 축설되며, 이 베어링(24)은 베어링 고정대(25)를 통하여 도어(13) 표면에 고착되어 진다.That is, one end of the hinge 12 having a predetermined length is fixed to the middle portion of the shaft 20A, and the hinge shaft 12A is penetrated to the other end of the hinge 12. Radial bearings 24 are arranged at both ends of the hinge shaft 12A, and the bearings 24 are fixed to the surface of the door 13 through the bearing holder 25.
이와같은 구성으로 이루어진 도어(13)는 샤프트(20A)를 중심으로 하는 힌지(12)의 회전을 의하여 샤프트(20A)를 중심으로 일정각도 범위내에서 공전이 가능하게 된다.Door 13 having such a configuration can be revolved within a certain angle range around the shaft 20A by the rotation of the hinge 12 around the shaft 20A.
한편, 도어(13)의 공정챔버 플랜지(10) 유입구(10A) 대향면에는 전가장자리에 걸쳐 오-링(25)을 삽설함으로서 도어(13)의 밀폐시 이 오-링(25)이 공정챔버 플랜지(10)의 유입구(10A) 연변에 밀착됨으로서 공정챔버 내부를 완전밀봉시킬 수 있다. 이상과 같은 본 고안의 기능을 설명하면 다음과 같다.On the other hand, the O-ring 25 is inserted into the process chamber flange 10 inlet 10A of the door 13 across the edge thereof so that the O-ring 25 is closed when the door 13 is closed. By being in close contact with the edge of the inlet 10A of the flange 10, the inside of the process chamber can be completely sealed. The function of the present invention as described above is as follows.
웨이퍼 로딩부에 재치되어 있는 웨이퍼를 공정챔버내로 이송시키기 위해서 로딩챔버와 공정챔버를 서로 차단하는 도어(13)를 개방시켜야 한다. (또는 공정완료된 웨이퍼를 로딩챔버내로 이송시키기 위해서도 동일하게 개방시켜야 함)In order to transfer the wafers placed in the wafer loading portion into the process chamber, the door 13 which blocks the loading chamber and the process chamber from each other must be opened. (Or you must open the same to transfer the processed wafer into the loading chamber)
이때, 로타리 에어실린더(20)가 작동하게 되면, 로타리 에어실리더(20)의 회전력은 샤프트 커플링(21), 컨넥터(22)를 통하여 샤프트(20A)에 전달된다. 따라서, 한단이 래디얼 베어링(23A)에 축설된 관계로 샤프트(20A)는 자전하게 되며, 결과적으로 샤프트(20A)의 중앙부에 한단이 고착되어 있는 힌지(12) 역시 샤프트(20A)를 중심으로 회전이 이루어진다.At this time, when the rotary air cylinder 20 is operated, the rotational force of the rotary air cylinder 20 is transmitted to the shaft 20A through the shaft coupling 21 and the connector 22. Therefore, the shaft 20A rotates due to one end being laid out in the radial bearing 23A. As a result, the hinge 12 having one end fixed to the center of the shaft 20A also rotates about the shaft 20A. This is done.
즉, 도어(13)의 중앙부에 베어링(24)을 통하여 고착되어 있는 상태의 힌지축(12A)에 결합된 힌지(12)의 회전에 따라 도어(13) 역시 회전을 하게되며, 이로서 공정챔버의 유입구(10A)는 개방되어 진다.That is, the door 13 also rotates in accordance with the rotation of the hinge 12 coupled to the hinge shaft 12A in a state where the door 13 is fixed to the central portion of the door 13 through the bearing 24. Inlet 10A is opened.
힌지(12)의 회전정도 즉, 도어(13)의 개방정도는 웨이퍼의 원활한 유입을 위하여 최대한으로 이루어지는 것이 바람직하나, 도어(13)와 로딩챔버 플랜지(10) 내부면과의 접촉을 방지하기 위하여 90°정도가 효과적이며, 이에 맞추어 로타리 에어실린더(20)의 작동 범위를 조절하여야 한다.Rotation degree of the hinge 12, that is, the degree of opening of the door 13 is preferably made to the maximum for smooth inflow of the wafer, but in order to prevent contact between the door 13 and the inner surface of the loading chamber flange 10. 90 ° is effective and the operating range of the rotary air cylinder 20 should be adjusted accordingly.
한편, 미설명부호 30은 마그네트 로타리 밀봉부재로서, 회전동력원인 로타리 에어실린터(20)의 회전축이 양측랜지(1, 10)의 결합부부분을 관통하여 플랜지(10) 내부에 위치하기 때문에 진공을 요하는 내부공간에 대기 및 이물질이 유입될 우려가 있으며, 따라서 로타리 에어실린더(20)의 작동축과 양플랜지(1, 10)의 경계부에 마그네트 로타리 밀봉부재(30)를 고착시킴으로서 양플랜지(1, 10) 내부를 외부와 완전히 차단시킬 수 있다.On the other hand, reference numeral 30 is a magnet rotary sealing member, because the rotary shaft of the rotary air cylinder 20, which is a rotational power source, penetrates the coupling portions of both side flanges 1 and 10 to be positioned inside the flange 10, so that the vacuum is reduced. There is a possibility that air and foreign matter may enter the internal space that requires the magnet flange sealing member 30 to the operating shaft of the rotary air cylinder 20 and the boundary between the two flanges (1, 10) so that both flanges ( 1, 10) It can completely block the inside from the outside.
이상과 같은 본 고안은 로딩챔버와 공정챔버를 연통시키는 플랜지 내부공간에 설치되어 공정챔버내부를 개폐시킴으로서 좁은 공간내에서도 그 설치 및 사용이 가능하며, 오링과 마그네트 로타리 밀봉부재를 사용함으로서 원하는 정도의 진공 및 청결상태를 유지할 수 있는 효과가 있다.The present invention as described above can be installed and used in a narrow space by opening and closing the process chamber inside the flange communicating the loading chamber and the process chamber. And there is an effect that can maintain a clean state.
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR92009751U KR950001172Y1 (en) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | Slit valve |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR92009751U KR950001172Y1 (en) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | Slit valve |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR940001985U KR940001985U (en) | 1994-01-03 |
KR950001172Y1 true KR950001172Y1 (en) | 1995-02-24 |
Family
ID=19334224
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR92009751U KR950001172Y1 (en) | 1992-06-03 | 1992-06-03 | Slit valve |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR950001172Y1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010000900A (en) * | 2000-10-26 | 2001-01-05 | 박상규 | Automatic Gate Valve in Semiconductor Fabrication Equipments |
-
1992
- 1992-06-03 KR KR92009751U patent/KR950001172Y1/en not_active IP Right Cessation
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR940001985U (en) | 1994-01-03 |
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