KR940008406B1 - 광학 기록 매체 및 그 제조방법 - Google Patents

광학 기록 매체 및 그 제조방법 Download PDF

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Description

광학 기록 매체 및 그 제조방법
제1도는 본 발명에 의한 광학 기록 매체의 개략 단면도.
제2도는 본 발명에 의한 광학 기록 매체 제조방법에 따라 제조된 광학 기록 매체의 반사특성을 나타낸 그래프.
본 발명은 정보를 광학적으로 기록하고 재생할 수 있는 광학 기록 매체 및 그 제조방법에 관한 것이다.
근래에 와서 축적된 정보를 광을 이용하여 읽어 내는(read-out) 광 디스크가 실용화되어 있다. 이러한 광 디스크는 디스크에 기록된 음향이나 동화 화상(animation image)을 반도체 레이저 비임을 이용하여 재생할 수 있도록 제조되어 컴팩트 디스크(이후 "CD"라 함) 및 비데오 디스크로 널리 이용되고 있다.
레이저 비임을 조사(照射)하여 광학특성(굴절율, 흡광계수, 위상등)을 변화시킴으로써 정보를 기록하고 재생하는 광 디스크, 소위 일회 기록 광 디스크에 대해서도 활기차게 개발이 되고 있다.
공지의 방법으로는 레이저 비임을 기록 매체에 조사하여 용융 증발시킴으로써 기록매체에 구멍이나 피트(pit)를 형성하여 정보를 기록하는 방법이 있는데, 이 방법에서는 기록매체에 아무런 변화를 일으키지 않을 정도로 충분히 약한 레이저 빔을 기록매체에 계속하여 조사하여 반사광의 강도에 따라 피트의 존재를 검출하는 방식이고, 두 번째 방법은 반사율이 작은 비결정질 기록매체에 레이저 비임을 조사하여 가열함으로써 기록매체에 상변화(phase change)를 일으켜 기록매체가 고반사율의 결정질 상태로 되게 하는 정보 기록 방법이다.
이러한 조건하에서는 사용자들이 시판되고 있는 CD플레이어로 정보를 기록하고 재생할 수 있는 광디스크에 대해서는 아무것도 실용화 되어 있지 않다.
그 이유는 CD기준을 충족시키자면 광 디스크가 그 기판의 반사율이 적어도 70% 정도 되어야 하고(즉, 예를 들자면 파장이 780nm인 반도체 레이저 비임을 그 읽어내기 쪽에서 부터 광 디스크에 입사될 경우 반사율이 70% 이상이 되어야 함), 또한 기록 선형속도 1.2∼1.4m/s에서 충분한 변조도(modulation degree)를 달성할 수 있고 소요의 수준의 추적 착오신호(tracking error signal)를 얻을 수 있는 조건을 충족할 수 있어야 하기 때문이다.
특히 반도체 레이저로 부터 나오는 출력을 이용하여 정보를 기록할 수 있고 더욱이 고반사율이어야만 한다는 조건들은 서로간에 상층하고 있다. 이러한 문제를 해결하고자 여러가지로 많은 노력을 기울여 오고 있다.
이에 따라 금속 재질보다 열전도율이 작고 기록감도가 크며 안정성이 우수하고 비교적 저렴한 장치로 제조할 수 있을 정도로 경비절감을 기할 수 있는 착색 광 디스크를 실용화할 수 있게끔 최근에 진전이 있었다. 이러한 착색 광디스크는 그러나 여러가지 단점을 가지고 있는데 그 중 한가지가 반사율이 작다는 것이다.
문헌[Takeda, Shinohara, Kusakawa and Hirohashi, 情報記錄 System 資料 "Gakujutsu Shuppan Center, 1989]에 의하면 착색제의 굴절율 n(복합굴절율의 실수부)을 크게하고 흡광계수 k(복합 굴절율의 허수부)를 작게하여 반사율을 약 40%까지 증가시킴으로써 착색 박막의 반사율을 개선할 수 있다고 한다. 또한 이들이 보고한 바에 의하면 금(Au)으로 된 반사막을 착색 코우팅막에 형성시켜 시판되고 있는 CD 플레이어를 사용하여 정보를 재생시킬 수 있다고 한다.
그런데 반사율이 최소한 70% 정도 되어야 하고 기록할 수 있는 흡광도를 발휘해야 한다는 CD기준을 만족시키자면 반도체 레이저에 있어서의 파장에서 반사율이 크고 Au, Ag, Pt 또는 이와 유사한 것으로 된 반사막을 형성시켜야 한다. 예를 들자면 일본 특허 공개 제2-42652호에 의하면 추적 유도 홈(tracking guide groove)이 구성된 투명 기판과, 특수한 착색제와 Au로 된 고굴절율의 반사막을 가진 기록막(recording film)의 적층물로 구성된 일회 기록 광 디스크를 개시(開示) 하고 있다. 이 광 디스크는 CD기준에 규정된 반사율, 즉 신호가 기록되는 표면의 랜드(land)에 있어서 780nm의 파장을 가진 광에 대해 70%∼90%의 반사율을 발휘할 수 있다.
그러나 이러한 귀금속들은 값이 고가이기 때문에 광 디스크를 다양하게 제조할 수 없다는 결점을 가지고 있다. 이에 반하여 알루미늄 같은 값싼 금속을 사용하여 반사막을 제조하면 반사율이 70%∼90%되는 광 디스크를 제조할수가 없다.
착색제 자체의 반사율을 크게 하자면 새로 설계된 분자 구조를 가진 착색제를 합성하여야만 한다.
더욱이 착색제층과 반사층 사이에 고굴절율의 무기질로 된 간섭층을 구성하면 반사율을 증가시킬 수는 있으나 이렇게 하자면 진공 증착법으로 막(film)을 형성시켜 주어야 한다. 그러나 진공 증착법에 의한 막 형성의 경우는 반드시 대규모 장치를 사용해야 하고 수시간 이상의 진공 조작을 포함한 장시간 조작을 해야하므로 경비가 많이 소요된다.
본 발명은 위와 같은 문제들을 감안하여 완성된 것이다.
본 발명의 목적은 반사율 70% 이상이라는 조건을 만족함으로써 사용자들이 시판품인 CD 플레이어를 사용하여 정보를 기록하고 재생할 수 있는 광학 기록 매체를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 반사층을 형성하기 위해 Au같은 것을 사용하지 않고 중간 간섭층을 형성하기 위해 진공 증착법 같은 것을 이용하지 않고서도 위에서 나온 여러가지 조건들을 만족시킬 수 있는 광학 기록 매체를 제조할 수 있는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명에서 제공하는 광학 기록 매체는,
(1) 기판,
(2) 정보를 기록하고 재생할 수 있는 층을 기판위에 형성시켜 된 착색 기록층,
(3) 이 착색 기록층위에, 기록-재생용 광을 투과시키고 착색 기록층에 함유된 착색제보다 작은 굴절율을 가지며 지방족 또는 지환식(脂環式) 탄화수소 용매에 가용성인 재료로 된 층을 형성시켜 된 중간층, 및
(4) 이 중간층 위에 형성된 금속질 반사층으로 구성되어 있다.
바람직한 실시태양에 있어서 중간층에 함유된 재질은 석유 수지(petroleum resin) 또는 폴리우레탄 수지로 된 것이다.
또한 본 발명은,
(1) 알코올형 용매에 착색제를 용해시켜 제조한 코우팅 조성물을 추적홈이 형성된 투명 기판 위에 스핀 코우팅법(spin coating)으로 코우팅하여 기판 표면에 착색 기록층을 형성하고,
(2) 기록-재생용 광을 투과시키고 착색 기록층에 함유된 착색제보다 작은 굴절율을 가지며 지방족 또는 지환식 탄화수소 용매에 가용성인 재료를 지방족 또는 지환식 탄화수소 용매에 용해시켜 제조한 코우팅 조성물을 착색 기록층위에 스핀 코우팅법으로 코우팅하여 중간층을 형성시키며,
(3) 중간층위에 진공 증착법 또는 스퍼터링법(sputtering)으로 금속 또는 금속합금질 반사층을 형성시키는 단계로 되어있는 광학 기록 매체 제조방법을 제공하고 있다.
본 발명을 첨부된 도면을 참고로 하여 아래에 상세히 설명한다.
제1도는 본 발명에 의한 광학 기록 매체의 개략 단면도이다. 제1도에서 (1)은 광디스크에 통상적으로 사용되는 플라스틱 재료(폴리카보네이트류, 아크릴레이트류, 에폭시수지류 및 폴리올레핀류 포함) 또는 유리로 제조된 투명 기판으로 된 기판이다. 이 기판의 기록면위에 다수의 추적홈이 동심원상으로 구성되거나 하나의 추적홈이 나선형상으로 구성된다. (2)는 에컨대 스핀 코우팅법으로 형성된 착색 기록층이다. 여기에 사용된 착색제［소광제(消光劑)가 첨가될 수도 있음］의 예에 속하는 것으로는 시아닌(cyanine)염로(특히, 인돌레닌형 시아닌 염료), 피릴륨 염료, 스콰릴륨 염료, 크로코늄 염료, 아줄렌 염료, 펜타메틴 염료, 티오인디고 염료, 안트라퀴논 염료, 나프로퀴논 염료, 프탈로시아닌 염료, 나프탈로시아닌 염료, 포르피린 염료, 테트라히드로콜린 염료, 디티올 염료, 디아민 염료, 인도아닐린 염료, 디옥사진 염료 및 디티아진 염료 등과 같은 유기 착색제가 잇다. 착색 기록층의 코우팅 두께는 10nm∼300nm인데 임의로 대체층(subbing layer)을 구성하여도 좋다.
(3)은 반사광의 양, 즉 반사율을 크게 하기 위한 중간막으로 작용하는 중간층인데, 이것은 기록-재생용광을 투과시키고 착색 기록층에 함유된 착색제보다 작은 굴절율을 가지며, 지방족 또는 지환식 탄화수소형 용매에 가용성인 재료로 되어 있다. 이러한 재료의 예로서는 석유 수지, 우레탄 수지 및 실리콘 수지등과 같은 수지류, 트리페닐메탄과 같은 탄화수소 화합물 및 각종 염료 또는 안료가 포함된다. 이 층을 구성하기에 바람직한 재료로서는 착색 기록층과 기판에 어떠한 공격이나 악영향을 주는 일이 없이 적용할 수 있는 석유 수지 또는 폴리우레탄 수지를 사용한다.
기판 재료로 통상적으로 사용되는 폴리카보네이트 수지는 알코올, 지방족 또는 지환식 탄화수소 및 혼합 탄화수소에 용해하지 않는다. 따라서 착색 기록층을 코우팅법으로 형성할 경우에는 알코올형 용매를 사용한다. 그러므로 코우팅시에 착색 기록층과 기판에 어떠한 해를 주지 않고 중간층을 형성하자면 용매로는 지방족 또는 지환식 탄하수소 용매 또는 혼합 탄화수소 용매를 사용해야 한다. 중간층용 재료로 사용되는 석유 수지로는 C5석유 수지(또는 출발물질로서 C5분획물을 사용하여 수득한 지방족 석유 수지), C9석유 수지(또는 출발물질로서 C9분획물을 사용하여 수득한 방향족 석유 수지), 출발물질로서 C5및 C9분획물을 사용하여 수득한 C5-C9공중합체 석유 수지 및 시클로펜타디엔의 열에 의한 이량체화 반응에 의해 수득한 시클로펜타디엔 석유 수지등이 있다. 이들 석유 수지는 지방족 또는 지환식 탄화수소 용매와 혼합 탄화수소 용매에 용해하기 때문에 코우팅법으로 박막(thin folm)의 중간층을 형성할 수 있다.
중간층 재료로 사용되기도 하는 풀리우레탄 수지, 더 상세하게는 유성 개질(oil-modified) 폴리우레탄 수지는 지방족 또는 지환식 탄화수소 용매 및 혼합 탄화수소 용매에 용해하므로 코우팅법으로 박막의 중간층을 형성할 수도 있다.
위에 나온 지방족 탄화수소에 속하는 것으로는 펜탄, 이소펜탄, 헥산, 이소헥산, 메틸펜탄, 헵산, 이소헵산, 옥탄, 이소옥탄, 노난, 데칸(특히 n-데칸), 도데칸, 도데센, 세탄 및 세텐등이 있다. 지환식 탄화수소에 속하는 것으로는 시클로펜탄, 메틸시클로펜탄, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 비시클로헥실, 테트랄린(Tetralin : 미국 Du Pont사 제조의 테트라히드로 나프탈렌의 상표)및 데칼린(Decalon 미국 Du Pont사 제조의 데카히드로 나프탈렌의 상표)등이 있다.
혼합 탄화수소는 각종 탄화수소의 혼합물을 뜻하는데 이들 용매를 대충 구분하자면 석유계 용매, 코올 타르계 용매 및 테르펜계 용매로 구분되며, 그 예로서는 공업용 가솔린, 석유 에테르, 석유 나프타 및 수소첨가 석유 나프타등이 있다. 코우팅액은 이들 지방족 탄화수소 용매, 지환식 탄화수소 용매 및 혼합 탄하수소 용매 중 어느 용매중에 석유 수지 또는 폴리우레탄 수지를 용해시켜 제조한다.
이와 같이 하여 제조한 코우팅액을 착색 기록층에 코우팅한 후 건조시키면 중간층이 형성된다.
스핀 코우팅, 분무 코우팅, 침지 코우팅, 블레이드(blade) 코우팅 등의 코우팅 방법을 사용할 수 있다. 중간층의 코우팅 두께는 5nm∼500nm, 바람직하게는 10nm∼200nm의 범위라야 한다. 이 중간층(3) 위에다 금속질 반사층(4)을 형성한다. 이 금속질 반사층(4) 형성에 사용되는 금속의 예로서는 Au, Ag, Cu, Al, In, Pt, Cr, Ni 및 이들 중 어느 한 가지의 합금등이 있다. 종래의 컴팩트 디스크 제조방법과 경비의 관점에서 보다 바람직하고 유익한 것은 귀금속을 사용하는 것 보다는 본 발명에서 목적으로 하고 있는 Al을 사용하는 것이다. 금속질 반사층(4)은 진공 증착법 또는 스퍼터링법으로 층의 두께가 10nm∼500nm, 바람직하게는 50nm∼100nm되게 형성한다. 이 금속질 반사층위에다 임의로 보호층(5)을 통상 1∼20㎛의 두께로 형성해도 좋다. 이 보호층(5)은 자외선 경화성 수지, 열 경화성 수지, 플라즈마 중합필름등을 사용하여 형성시킬 수 있다.
본 발명을 실시예에 따라 보다 구체적으로 설명한다.
[실시예 1]
나선형으로 추적 유도홈 하나를 형성해 둔 폴리카보네이트 기판(1) 위에다 하기 구조식의 인돌레닌형 시아닌 염료 3중량부를 에틸 셀로솔브 97중량부에 용해시켜 제조한 용액을 스핀 코우팅법으로 코우팅하여 코우팅 두께가 약 50nm인 착색 기록층(2)을 형성하였다.
이 착색 기록층위에다 수지농도가 1wt.%인 하기 조성으로 제조된 용액을 스핀 코우팅법으로 코우팅하여 중간층(3)을 형성하였다.
시클로펜타디엔 석유 수지［일본국 Nippon Zeon사 제조의 QUINTONE 1325(상품명)］1중량부
n-데칸 99중량부
1,500rpm으로 스핀 코우팅한 다음 70℃에서 2시간 건조시켜 코우팅 두께가 약 50nm인 중간층(3)을 형성한 후 이 중간층(3) 위에 스퍼터링법으로 Al을 60nm의 층 두께로 증착시켜 금속질 반사층(4)을 형성하였다. 이렇게 하여 형성한 금속질 반사층(4) 위에 자외선 경화성 아크릴 수지 SD-17(일본국 Dainippon Ink & Chemicals사 제조의 상품명)로 된 보호층(5)을 스핀 코우팅법으로 약 5㎛두께로 형성함으로써 광학 기록 매체를 제조하였다.
[실시예 2]
수지 농도를 2.5wt.%로 변화시킨 것외에는 실시예 1을 반복하여 광학 기록 매체를 제조하였다.
[실시예 3]
수지 농도를 5wt.%로 변화시킨 것 외에는 실시예 1을 반복하여 광학 기록 매체를 제조하였다.
수지 농도와 반사율과의 관계를 표 1에 나와 있다.
[표 1]
위에 나온 표로 부터 명백한 바와 같이 중간층(3)을 구성하여 주면 반사율이 증가되고 이것은 수지 농도의 증가에 따라 증가함을 알 수 있다. 또한 이 표로 부터 중간층의 수지 농도를 조절하면 필요로 하는 반사율을 쉽사리 얻을 수 있음을 알 수 있다. 실시예 1 내지 3에 있어서 반사율은 최소한 70%(측정파장: 780nm)으로서 CD 기준을 만족하고 있었다.
실시예 2에서 제조한 광학 기록 매체를 선형속도 1.4m/s로 회전시키면서 강도 변조 반도체 레이저 비임(파장 : 780nm)을 사용하여 EFM(8∼14변조 : eight to fourteen modulation) 신호를 기록하였다. 정어보가 기록된 광학 기록 매체를 시판품인 플레이어 RC-X35(일본국 Victor사 제작의 상품명)에 걸어 본 결과 기록된 정보를 아무런 문제가 전혀 없이 재생할 수 있었다.
[실시예 4]
아래 조성으로 조제된 용액을 사용하여 중간층을 형성시킨 것외에는 실시예 1에서와 동일한 방법으로 광학 기록 매체를 제조하였다.
시클로펜타디엔 석유 수지(일본국 Nippon Zeon 사
제조의 상품명 QUINTONE 1345) 5중량부
데칼린 95중량부
이 광학 기록 매체에 있어서 반사율은 최소한 79%(측정파장 : 780nm)로서 CD기준을 충족하였다.
이렇게 하여 제조한 광학 기록 매체를 선형속도 1.4m/s로 회전시키면서 강도 변조 반도체 레이저 비임(파장 780nm)을 사용하여 EFM신호를 기록 하였다. 정보가 기록된 광학 기록 매체를 시판품인 플레이어 RC-X35(일본국 Victor사 제작의 상품명)에 걸어 본 결과 기록된 정보를 아무런 문제가 전혀 없이 재생할 수 있었다.
[비교 실시예 1]
실시예 1 내지 3에서 형성시켰던 중간층을 생략하였다. 이 비교실시예에서의 반사율은 66% (측정파장 : 780nm)이었는데 CD기준을 충족하지 못하였다.
[비교 실시예 2]
실시예 1에 사용된 것과 동일한 폴리카보네이트 기판위에 실시예 1에서와 동일한 착색 기록층을 스핀 코우팅방법으로 형성한 다음 이 착색 기록층위에 아래 조성으로 제조한 용액을 실시예 1에서와 동일한 방법으로 스핀 코우팅하여 중간층(3)을 형성하였다.
폴리비닐 부티랄 수지 (일본국 Sekisui Chemical 사
제조의 상품명 S-LEC-BM-1) 3중량부
디아세톤 알코올 97중량부
본 실시예에서는 착색 기록층의 분해가 일어났기 때문에 기록할 수가 없었다.
[실시예 5]
추적 유도홈 하나가 나선형으로 형성되어 있는 폴리카보네이트 기판(1)위에, 실시예 1에서 사용된 것과 동일한 시아닌 염료 3중량부를 에틸 셀로솔브 97중량부에 용해시켜 제조한 용액을 스핀 코우팅하여 코우팅 두께가 약 5nm인 착색 기록층(2)을 형성하였다.
이 착색 기록층위에 아래의 조성으로 제조한 용액을 스핀 코우팅하여 중간층(3)을 형성하였다.
유성 개질 폴리우레탄 수지(일본국 Dainippon Ink &
Chemicals사 제조의 상품성 BURNOCK TD-125-HD) 10중량부
n-데칸 90중량부
2,000rpm으로 스핀 코우팅한 후 70℃에서 2시간 건조시켜 코우팅 두께가 약 50nm되는 중간층(3)을 형성한 다음 이 중간층(3) 위에 Al을 스퍼터링하여 층두께가 60nm되게 증착시켜 금속질 반사층(4)을 형성하였다. 이렇게 하여 형성한 금속질 반사층(4)위에 자외선 경화성 아크릴 수지 SD-17(일본국 Dainippon Ink & Chemicals 사 제조의 상품명)으로 된 보호층(5)을 약 5㎛의 두께로 스핀 코우팅 함으로써 광학 기록 매체로를 제조하였다.
이 광학 기록 매체의 반사율은 78%(측정파장 : 780nm)이었는데 CD기준을 충족하였다.
이 광학 기록 매체를 선형속도 1.4m/s로 회전시키면서 강도 변조 반도체 레이저 비임(파장 : 780nm)을 사용하여 EFM신호를 기록하였다. 정보가 기록된 광학 기록 매체를 시판품인 플레이어 RC-X35(일본국 Victor 사 제작의 상품명에 걸어 본 결과 기로된 정보를 아무런 문제가 없이 재생할 수 있었다.
[실시예 6]
실시예 5에 사용한 것과 동일한 폴리카보네이트 기판위에 실시예 5에서와 동일한 착색 기록층을 스핀 코우팅하여 형성시킨 후, 이 착색 기록층 위에 아래의 조성으로 제조된 용액을 스핀 코우팅하여 중간층(3)을 형성하였다.
유성 개질 폴리우레탄 수지(일본국 Dainippon Ink &
Chemicals 사 제조의 상품명 BURNOCK TD-125-HD) 5중량부
i-옥탄 95중량부
2,000rpm으로 스핀 코우팅한 후 70℃에서 2시간 건조시켜 쿠우팅 두께가 약 50nm되는 중간층(3)을 형성한 다음 이 중간층(3)위에 Al을 스퍼터링하여 60nm의 층두께로 증착시켜 금속질 반사층(4)을 형성하였다. 이렇게 하여 형성한 금속질 반사층(4)위에 자외선 경화성 아크릴 수지 SD-17(일본국 Dainippon Ink & Chemicals 사 제조의 상품명)로 된 보호층(5)을 약 5㎛의 두께로 스핀 코우팅하여 형성시킴으로써 광학 기록 매체를 제조하였다.
이 광학 기록 매체의 반사율은 79%(측정파장:780nm)이었는데 CD기준을 충족하였다.
이 광학 기록 매체를 선형속도 1.4m/s로 회전시키면서 강도 변조 반도체 레이저 비임(파장:780nm)을 사용하여 EFM 신호를 기록하였다. 정보가 기록된 광학 기록 매체를 시판품인 플레이어 RC-X35(일본국 Viotor사 제작의 상품명)에 걸어 본 결과 기록된 정보를 아무런 문제가 없이 재생할 수 있었다.
[실시예 7]
시시예 5에서 사용한 것과 동일한 폴리카보네이트 기판위에 실시예 5에서와 동일한 착색 기록층을 스핀 코우팅법으로 형성하고, 이 착색 기록층위에다 표2에 있는 각종 수지 농도의 유성 개질 폴리우레탄 수지(일본국 Dainippon Ink & Chemicals 사 제조의 상품명 BURNOCK TD-125-HD)를 사용하여 제조한 용액을 스킨 코우팅하여 중간층(3)을 형성시켰다. 이때 사용된 용매는 i-옥탄이었다.
1,500rpm에서 스핀 코우팅 한 다음 70℃에서 2시간 건조시켜 코우팅 두께가 약 50nm인 중간층(3)을 형성한 후 이 중간층(3)위에 Al을 스퍼터링하여 70nm의 층두께로 증착시켜 금속질 반사층(4)을 혀성시켰다.
이렇게 하여 제조한 광학 기록 매체위에 그 기판쪽으로부터 반도체 레이저 비임(파장: 780nm)을 입사(入射) 하여 반사율을 측정하였는데, 그 결과는 표2에 나타나 있다.
[표 2]
위의 표에서 명백한 바와같이 수지 농도가 증가함에 따라 반사율이 향상됨을 알 수 있고, 또한 중간층의 수지 농도를 조절하면 필요로 하는 반사유를 얻을 수 있다는 것을 알 수 있었다. 한편, 기판(1)과 반대되는 쪽인 Al 반사층 쪽으로부터 레이저 비임을 입사시켜 측정한 반사율은 84%이었다.
[비교실시예 3]
실시예 5에서 형성시켰던 중간층을 본 실시예에서는 생략하였다. 이 경우에 있어서 반사율은 60%(측정파장 780nm)이었는데 CD기준을 충족하지 못하였다.
[비교실시예 4]
실시예 5에서 사용한 것과 동일한 폴리카보네이트 기판위에 실시예 5에서와 동일한 착색 기록층을 스핀 코우팅하여 형성시키고, 이 착색 기록층위에 아래 조성으로 제조한 용액을 실시예 5에서와 마찬가지 방법으로 스핀 코우팅하여 중간층(3)을 형성시켰다.
폴리비닐 부티랄 수지(일본국 Sekisui Chemical 사
제조의 상품명 S-LEC-BN-1) 3중량부
디아세톤 알코올 97중량부
본 실시예에서는 착색 기록층이 분해하였기 때문에 기록을 할 수가 없었다.
[실시예 8]
피치(pitch)가 1.6μ되는 추적 유도홈 하나가 나선형으로 형성되어 있는 폴리카보네이트 기판(1)위에 실시예 1에서 사용한 것과 동일한 시아닌 염료 3중량부를 에틸 셀로솔부 97중량부에 용해시켜 제조한 용액을 스핀 코우팅 하여 코우팅 두께가 약 50nm인 착색 기록층(2)을 형성시켰다.
이 착색 기록층 위에 아래의 조성을 제조한 용액을 스핀 코우팅하여 중간층(3)을 형성시켰다.
시클로펜타디엔 석유 수지(일본국 Nippon Zeon 사
제조의 상품명 QUINTONE 1325) 0.5∼5.0중량부
n-데칸 95.0∼99.5중량부
회전수 1,000∼3,000rpm으로 스핀 코우팅 한 다음 최고 60℃에서 최소한 1시간 건조시켜 코우팅 두께가 약 10nm∼약 200nm인 중간층(3)을 형성시킨 다음 이 중간층(3)위에 Al를 스퍼터링하여 약 50nm의 층두께로 증착시켜 금속질 반사층(4)을 형성시켰다. 이렇게 하여 혀성시킨 금속질반사층(4)위에 자외선 경화성 아크릴 수지 SD-17(일본국 Dainippon Ink & Chemicals사 제조의 상품명)로 된 보호층(5)을 스핀 코우팅하여 약 5㎛의 두께로 형성시킴으로서 광학 기록 매체를 제조하였다.
코우팅액중의 석유 수지의 농도, 스핀 코우팅의 회전수 및 건조 조건등을 여러 가지로 변화시켜 위에 나온 광학 기록 매체를 제조함에 있어서 중간층의 코우팅 두께도 변화시켜 주어 코우팅 두께와 반사율과의 사이의 관계를 검토하였다. 제2도는 중간층의 코우팅 두께 변화에 대한 반사율 변화를 나타낸 것인데 중간층의 코우팅 두께를 조절함으로써 필요로 하는 반사율을 얻을 수도 있다.
위에서 설명한 바와같이 본 발명에 의한 광학 기록 매체는 기판, 이 기판 위에 형성된 정보를 기록하고 재생할 수 있는 착색 기록층, 이 착색 기록층위에 형성된 중간층 및 이 착색 기록층위에 형성된 금속질 반사층으로 구성되어 있고, 중간층은 특히 앞서 나온바와 같이 구성되어 있다. 따라서 중간층은 비교적 값싼 장치를 사용하여 쉽사리 형성시킬 수 있고 반사율도 향상시킬 수 있다.
더욱이 본 발명의 광학 기록 매체에 있어서는 Al을 사용하여 반사층을 형성시킬 수 있기 때문에 경비를 크게 저감할 수 있다. 기록식으로서 CD기준을 충족하는 광학 기록 매체로 쉽사리 제조할 수 있다.
본 발명에 의한 광학 기록 매체는 CD와 호환성이 있는 광 디스크에 사용할 수 있을 뿐만 아니라 모든 종류의 광 디스크의 반사율을 향상시킬 목적으로 사용할 수 있기 때문에 재현성과 추적 성능을 향상시킬 수 있다.

Claims (15)

  1. (1) 기판, (2) 정보를 기록하고 재생할 수 있는 층을 기판위에 형성시켜 된 착색 기록층, (3) 이 착색 기록층위에, 기록-재생용 광을 투과 시키고 착색 기록층에 함유된 착색제보다 작은 굴절율을 가지며 지방족 또는 지환식 탄화수소 용매에 가용성인 재료로 된 층을 형성시켜 된 중간층, 및 (4) 이 중간층위에 형성된 금속질 반사층으로 구성되어 있는 광학 기록 매체.
  2. 제1항에 있어서, 중간층에 함유된 재료가 석유 수지 또는 폴리우레탄 수지를 포함하는 것인 광학 기록 매체.
  3. 제2항에 있어서, 석유 수지가 시클로펜타디엔 석유 수지인 광학 기록 매체.
  4. 제2항에 있어서, 폴리우레탄 수지가 유성 개질 폴루우레탄 수지인 광학 기록 매체.
  5. 제1항에 있어서, 착색 기록층에 시아닌 염료, 피릴륨 염료, 스콰릴륨 염료, 크로코늄 염료, 아졸렌 염료, 펜타메틴 염료, 티오인디고 염료, 안트라퀴논 염료, 나프토퀴논 염료, 프탈로시아닌 염료, 나프탈로시아닌 염료, 포르피린 염료, 테트라히드로콜린 염료, 디티올 염료, 디아민 염료, 인도아닐린 염료, 디옥사진 염료 및 티타이진 염료로 된 근으로부터 선택된 유기 착색제를 함유하는 광학 기록 매체.
  6. 제1항에 있어서, 착색 기록층에 인돌레닌형 시아닌 염료를 함유하는 광학 기록 매체.
  7. 제1항에 있어서, 금속질 반사층에 알루미늄을 함유하는 광학 기록 매체.
  8. (1) 알코올형 용매에 착색제를 용해시켜 제조한 코우팅 조성물을 추적 홈이 형성된 투명 기판 위에 스핀 코우팅법으로 코우팅 하여 기판 표면에 착색 기록층을 형성하고, (2) 기록 -재생용 광을 투과시키고 착색 기록층에 함유된 착색제보다 작은 굴절율을 가지며 지방족 또는 지환식 탄화수소 용매에 용해시켜 제조한 코우팅 조성물을 착색 기록층위에 스핀 코우팅법으로 코우팅하여 중간층을 형성시키며, (3) 중간층위에 진공 증착법 또는 스퍼터링법으로 금속 또는 금속합금질 반사층을 형성시키는 단계로 되어 있는 광학 기록 매체 제조방법
  9. 제8항에 있어서, 중간층 형성에 사용된 재료에는 석유 수지 또는 폴리우레탄 수지를 포함하는 광학 기록 매체 제조방법.
  10. 제9항에 있어서, 석유 수지가 시클로펜타다엔 석유 수지인 광학 기록 매체 제조방법.
  11. 제9항에 있어서, 폴리우레탄 수지가 유성개질 폴리우레탄 수지인 광학 기록 매체 제조방법.
  12. 제1항에 있어서, 지방족 또는 지환식 탄화수소 용매가 n-데칸 또는 데카히드로나프탈렌인 광학 기록 매체 제조방법.
  13. 제8항에 있어서, 착색제는 시아닌 염료, 피릴륨 염료, 스콰릴륨 염료, 크로코늄 염료, 아졸렌 염료, 펜타메틴 염료, 티오인디고 염료, 안트라퀴논 염료, 나프토퀴논 염료, 프탈로시아닌 염료, 나프탈로시아닌 염료, 포르피린염료, 테트라히드로콜린 염료, 디티올 염료, 디아민 염료, 인도아닐린 염료, 디옥사진 염료 및 디타아진 염료로 된 군으로부터 선택되는 것인 광학 기록 매체 제조방법.
  14. 제8항에 있어서, 착색 기록층에 인돌레닌형 시아닌 염료를 함유하는 광학 기록 매체 제조방법.
  15. 제1항에 있어서, 반사층을 형성하는 금속에는 알루미늄을 포함하는 광학 기록 매체 제조방법.
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