KR940004516A - 라인 형광막 슬릿 마스크 컬러 화상관을 스크리닝하는 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 슬릿 마스크 컬러 화상관의 라인 형광막을 스크리닝하는 개선된 방법에 관한 것으로, 상기 방법은 감광성 물질(40)을 화상관의 면판 패널(36)에 피복하는 단계와, 슬릿 새도우 마스크(38)를 상기 패널로 삽입하는 단계와 그리고 라인 광원(20)으로 부터의 빛을 미스레지스터 보정렌즈와 마스크 슬릿을 통과시키므로써 감광성물질을 빛에 의해 노출시키는 단계를 포함한다. 상기 개선된 방법은 감광성 물질의 노출동안 라인 광원과 미스레지스터 보정렌즈 사이에 스큐보정렌즈(26)를 위치시키는 단계를 또한 포함하고 있다. 스큐 보정렌즈는 전체적으로 그 표면이 원통형 모양으로 되어 있으나 상기 렌즈의 4개의 코너에서는 그 모양이 원통형에서 벗어난 모양으로 되어 있다.

Description

라인 형광막 슬릿 마스크 컬러 화상관을 스크리닝하는 방법

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 컬러 화상관을 스크리닝하는데 사용되는 라이트하우스(lighthouse)의 평면도.

제2도는 스큐 보정 렌즈와 라인 광원의 사시도.

제3도는 그 사이에 구멍이 뚫린 플레이트가 삽입되어 있는 제2도의 렌즈와 광원의 측면도.

제4도는 신규의 비원통형 렌즈와 종래의 원통형 렌즈를 비교하여 도시한 사시도.

제5도는 본 발명이 사용되지 않은 상태에서 특정 라인 광원 이미지가 투사된 면관 패널의 평면도.

제6도는 본 발명이 사용된 상태에서 특정 라인 광원 이미지가 투사된 면판 패널의 평면도.

Claims (7)

1. 감광성 물질을 화상관의 면관에 피복하는 단계와, 슬릿 섀도우 마스크를 패널내에 삽입하는 단계와 그리고 라인 광원으로부터의 빛을 미스레지스터 보정 렌즈와 마스크 슬릿을 통과시키므로써 상기 감광성 물질을 빛에 노출시키는 단계를 포함하는 라인 헝광막 슬릿 마스크 컬러 화상관을 스크리닝하는 방법에 있어서, 상기 감광성 물질(40)의 노출동안 상기 라인 광원(20)과 상기 미스레지스터 보정 렌즈(30) 사이에 스큐 보정 렌즈(27)를 위치시키는 단계를 포함하는데, 상기 스큐 보정 렌즈는 전체적으로 그 표면이 원롱형 모양으로 되어 있으나 상기 렌즈의 4개의 코너에서는 그 모양이 원통헝에선 벗어난 모양으로 되어 있는 것을 특징으로 하는 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 스큐 보정 렌즈(26)는 두개의 기다란 측부와 두개외 짧은 측부 그리고 서로 직각인 X,Y축을 갖는 직사각형 모양으로 되어 있는데, 상기 짧은 측부는 상기 Y축에 평행하고 상기 기다란 측부는 상기 X축에 평행하며, 상기 스큐 보정 렌즈의 상기 X축은 상기 라인 광원(20)의 종축(B-Bl)에 대체로 수직으로 방위되어 있고, 상기 전체적인 원통형 모양은 상기 X축과 평행한 중앙 종축을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 방법.
3. 제1항에 있어서, 상기 스큐 보정 렌즈(26)는 두개의 기다란 측부와 두개의 갊온 측부 그리고 서로 직각인 X,Y축을 갖는 직사각형 모양으로 되어 있는데, 상기 짧은 측부는 상기 Y축에 평행하고 상기 기다란 측부는 상기 X축에 평행하며, 상기 스큐 보정 렌즈의 상기 X축은 상기 라인 광원(20)의 종축(B-B)에 대체로 수직으로 방위되어 있고, 상기 스큐 보정 렌즈의 표면은 Y축에서 보다는 상기 Y축에 평행한 상기 스큐 보정 렌즈의 측부에서 더 큰 곡률 반경을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
4. 제1항에 있어서, 상기 스큐 보정 렌즈(26)는 두개의 기다란 측부와 두개의 짧은 측부 그리고 서로 직각인 X,Y축을 갖는 직사각형 모양으로 되어 있는데, 상기 짧은 측부는 상기 Y축에 평행하고 상기 기다란 측부는 상기 X축에 평행하며, 상기 스규 보정 렌즈의 상기 X축은 상기 라인 광원(20)의 종축(B-B)에 대체로 수직으로 방위되어 있고, 상기 스큐 보정 렌즈(26)는 상기 구부러진 표면의 반대쪽에 평평한 표면을 갖는데. 상기 구부러진 표면은 전체적으로 원통형 모양으로 되어 있으나 상기 렌즈의 4개의 코너에서는 원통형에서 벗어난 중가된 두께를 가지며, 상기 전체적인 원통형 모양은 상기 X축에 평행한 중앙 종축을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
5. 감광성 물질을 화상관의 면판에 퍼복하는 단계와, 슬릿 섀도우 마스크를 패널내에 삽입하는 단계와 그리고 라인 광원으로부터의 빛을 미스레지스터 보정 렌즈와 마스크 슬릿을 통과시키므로써 상기 감광성 물질을 빛에 노출시키는 단계를 포함하는 라인 형광막 슬릿 마스크 컬러 화상관을 스크리닝하는 방법에 있어서, 상기 감광성 물질(40)의 노출동안 상기 라인 광원(20)과 상기 미스레지스터 보정 렌즈(30) 사이에 비원통형렌즈(26)를 위치시키는 단계를 포함하는데, 상기 비원통형 렌즈(26)는 서로 직가인 X. Y축을 가지고 있고, 상기 렌즈의 X축은 상기 라인 광원의 종축에 대체로 수직으로 방위되어 있으며, 상기 비원통형 렌즈는 상기 Y축으로부터의 거리의 제곱의 함수와 상기 Y축으로부터의 거리의 제곱 곱하기 상기 X축으로부터의 거리의 제곱의 함수인 다항식(Z)으로 한정된 표면을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
6. 제5항에 있어서, 상기 표면은 다항식

   Z=A₁Y²+A₂X²Y²

   여기서, Z는 상기 렌즈(26)의 최고점에 접하는 평면으로부터의 새지틀 드롭인데. 상기 평면은 X축콰 Y축을 갖는 또다른 평면에 평행한 평면 ; A₁은 Y²변화에 대한 새지틀 변화의 크기를 결정하는 음의 계수 ; A₂는 X²Y²변화에 대한 새지틀 변화의 크기를 결정하는 양의 계수 ; X는 Y축으로부터의 수직 거리 ; Y는 X측으로부터의 수직 거리임으로 한정되는 것을 특징으로 하는 방법.
7. 감광성 물질을 화상관의 면판에 피복하는 단계와, 슬릿 섀도우 마스크를 패널내에 삽입하는 단계와 그리고 라인 광원으로부터의 빛을 미스레지스터 보정 렌즈와 마스크 슬릿을 통과시키므로써 상기 감광성 물질을 빛에 노출시키는 단계를 포함하는 라인 형광막 슬릿 마스크 컬러 화상관을 스크리닝하는 방법에 있어서, 상기 감광성 물질(40)의 노출동안 상기 라인 광원(20)과 상기 미스레지스터 보정 렌즈(30) 사이에 비원통형렌즈(26)를 위치시키는 단계를 포함하는데, 상기 비원통형 렌즈(26)는 서로 직각인 X,Y축을 가지고 있고, 상기 렌즈의 X축은 상기 라인 광원의 종축(B-B)에 대체로 수직으로 방위되어 있으며, 상기 비원통형 렌즈는 상기 Y축을 따라 대체로 원형인 제1곡률 반경과 상기 Y축에 평행한 렌즈의 측부에서 대체로 원형인 제2곡률 반경을 갖는 표면을 지니고 있는데, 상기 제2곡률 반경은 상기 제1곡률 반경보다 더 큰 것을 특징으로 하는 방법.

   ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.