KR940003237B1 - Copper foil for printed circuit board - Google Patents
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Abstract
내용 없음.No content.
Description
제1도는 본 발명의 인쇄 배선판용 구리박을 도시하는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing the copper foil for a printed wiring board of the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
1 : 제1구리층 2 : 내식층1: 1st copper layer 2: corrosion resistant layer
2 : 제2구리층2: 2nd copper layer
본 발명은 인쇄 배선판에 사용되는 구리박, 상기 구리박을 사용하는 인쇄 배선판용기판 및 그의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a copper foil used for a printed wiring board, a printed wiring board substrate using the copper foil, and a manufacturing method thereof.
전자 기기 및 장치의 발달에 따라 보다 강화된 배선 밀도를 갖는 인쇄배선기판이 요구되게 되었고, 보다 미세한 배선의 제조에는 전류시간의 중요한 기술적인 문제가 있다.BACKGROUND With the development of electronic devices and devices, printed wiring boards having a stronger wiring density have been required, and there is an important technical problem of current time in manufacturing finer wiring.
인쇄배선기판을 제조하는데에는 다양한 방법이 있다. 그리고, 일반적으로 알려진 방법은 ; 절연 수지에 구리박을 형성하여 구리피복 박층을 얻고, 다음에 비회로 영역에서 구리박을 에칭하여 회로형 구리박을 제제하는 감법 ; 비전착 도금법 및 회로를 형성함에 의해서 절연 수지판 위에 의도하는 회로 형태의 피복 구리를 구성하는 부가법 ; 부분적으로, 예를들면 통공에, 비전착성 도금등에 의해서 전도체를 형성하는 부분 첩가법이 있다.There are a variety of methods for manufacturing printed wiring boards. And generally known methods; A subtractive method of forming a copper foil on an insulating resin to obtain a copper clad thin layer, and then etching the copper foil in a non-circuit region to prepare a circuit-type copper foil; An additional method of forming a covering copper of an intended circuit form on the insulating resin plate by forming a non-electrode plating method and a circuit; In part, for example, in the through-hole, there is a partial fold method of forming a conductor by non-electrodeposition plating or the like.
이들 방법중에서, 수년전부터 감법이 사용되고 있다. 이 방법에서는 지금까지, 배선 밀도의 강화를 구비 피복 적층의 구리박의 두께를 저감하므로 달성하고 있다. 이것은 다음의 이유 때문이다. 즉, 이 방법에 따른 필요한 회로 형태의 방식제(etching resist)을 표면에 형성하고, 방식제에 의해서 덮여지지 않는 불필요한 영역의 구리박을 염화제2구리 또는 염호하제2철의 부식액을 사용하여 용해시킨다. 만약 구리박의 두께가 너무 크다면, 또한 필요한 회로영역의 측면은 이때에 부식액과 접촉되며, 소위 측면 부식현상이 발생한다. 그리고, 만약 구리박이 너무 두껍다면, 또한 필요한 회로영역이 구리가 용해되므로, 미세한 형태의 회로를 산출할 수 없다. 부가하여, 관통공을 가져야 하는 배선판의 경우에, 관통공 내의 도체의 두께를 안정하게 하기 위하여 전해도금에 의해서 구리층을 형성한 후, 구리피복박층에 두께를 뚫고, 비전착성 도금법에 의해서 구리박표면을 포함하는 구멍에 얇은 구리층을 형성한다. 결과적으로, 구리박의 두께가 초기 상태에서 보다 두껍게 된다.Among these methods, subtractive methods have been used for many years. In this method, the thickness of the copper foil of the coating lamination provided with the strengthening of wiring density is achieved until now. This is for the following reason. That is, an etching circuit of the required circuit form according to this method is formed on the surface, and copper foil in an unnecessary area not covered by the corrosion inhibitor is dissolved using a cupric chloride or a ferric chloride under corrosion solution. Let's do it. If the thickness of the copper foil is too large, the side of the required circuit area also comes into contact with the corrosion solution at this time, so-called side corrosion occurs. And, if the copper foil is too thick, the required circuit area is also dissolved copper, it is not possible to calculate the circuit of a fine form. In addition, in the case of the wiring board which should have a through hole, after forming a copper layer by electroplating in order to stabilize the thickness of the conductor in a through hole, the copper coating layer is made of thickness, and a copper foil is formed by a non-electrode plating method. A thin copper layer is formed in the hole containing the surface. As a result, the thickness of the copper foil becomes thicker than in the initial state.
이때문에, 구리피복박층판의 구리박이 적은 두께를 가져야 하고, 그리고 지금까지 다양한 두께의 구리박을 적층함에 의해서 마련된 많은 구리 피복 박층판을 제안하고 발전시켜 왔다. 본 목적을 위해서 사용된 구리박은 가열과 압력의 작용에 의해서 구리의 덩어리를 얇게 하여 제조한 압연구리박, 그리고, 전해 도금법에 의해서 스테인레스강과 같은 금속위에 구리를 피복시킴에 의해서 생산한 전해구리박으로 분류되며, 통상적으로 두께가 180㎛~70㎛인 구리박을 제조한다.For this reason, the copper foil of a copper clad laminated board should have a small thickness, and until now, many copper clad thin boards provided by laminating | stacking copper foil of various thickness have been proposed and developed. The copper foil used for this purpose is a rolled copper foil produced by thinning a copper mass by the action of heating and pressure, and an electrolytic copper foil produced by coating copper on a metal such as stainless steel by an electroplating method. It is classified and usually produces copper foil whose thickness is 180 micrometers-70 micrometers.
최근에, 또한 알루미늄박 위에 전기도금하여 두께가 5㎛인 얇은 구리박을 생산할 수 있게 되었다.Recently, it has also been possible to produce a thin copper foil having a thickness of 5 mu m by electroplating on aluminum foil.
현재, 종래의 압연구리박을 얇은 구리박으로서 사용하고 있지 않은 이유는 다음과 같은 문제점때문이다. 즉 구리박 자체가 얇은 상태에서 취급하기 어렵고 생산량이 낮으며, 너무 비싸다. 더우기, 전해구리박이 지지하는 알루미늄박 등을 사용하므 그의 기계적 강도를 유지할 수 있을지라도, 절연수지에 대한 접착력이 통상의 두꺼운 구리박의 접착력보다 낮은 문제점이 있다. 이와같은 이유는 배선판에 대한 통상의 구리박의 표면이 수지에 대한 접착성을 강화시키는 목적을 위하여 거칠게 처리할 지라도, 얇은 계기 구리박에는 거친 처리가 어렵다.Currently, the reason why the conventional rolled copper foil is not used as a thin copper foil is because of the following problems. In other words, the copper foil itself is difficult to handle in a thin state, low yield, and too expensive. Moreover, even though the mechanical strength can be maintained because aluminum foil or the like supported by the electrolytic copper foil is used, there is a problem that the adhesive strength to the insulating resin is lower than that of the usual thick copper foil. The reason is that even though the surface of the conventional copper foil to the wiring board is roughened for the purpose of enhancing the adhesiveness to the resin, it is difficult to rough the thin instrument copper foil.
본 발명의 목적은 적은 두께에서도 처리가 쉽고 수지에 접착력이 우수하 인쇄배선판용 구리박, 및 상기 구리박을 사용하는 인쇄 배선판용 기판을 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a copper foil for printed wiring boards, and a substrate for printed wiring boards using the copper foil, which is easy to process even at a small thickness and has excellent adhesion to resin.
본 발명은 제1구리층(1), 구리를 부식시키는 용액에 대해서 보다 고저항성을 갖는 금속으로 형성된 내식층(2), 및 제2구리층(3)으로 구성되는 인쇄 배선판용 구리박을 제공하고, 상기 내식층(2)은 제1구리층(1)과 제2구리층(3) 사이에 존재하며 제2구리층(3)의 표면은 거칠다.The present invention provides a copper foil for a printed wiring board comprising a first copper layer (1), a corrosion resistant layer (2) formed of a metal having higher resistance to a solution that corrodes copper, and a second copper layer (3). The corrosion resistant layer 2 is present between the first copper layer 1 and the second copper layer 3 and the surface of the second copper layer 3 is rough.
본 발명은 또한 인쇄 배선판용 상기 구리박으로 구성되는 인쇄 배선판용 기판 및 절연기재를 제공한다.This invention also provides the board | substrate for printed wiring boards and the insulating base which consist of the said copper foil for printed wiring boards.
본 발명은 또한 상기 인쇄 배선판용 구리박을 사용하는 인쇄 배선판용 기판을 생산하는 방법을 제공한다.This invention also provides the method of producing the board | substrate for printed wiring boards using the said copper foil for printed wiring boards.
본 발명은 첨부된 도면에 의하여 보다 명백할 것이다.The invention will be more apparent from the accompanying drawings.
도면에 있어서, 본 발명의 인쇄 배선판용 구리박은, 제1구리층(1), 구리를 부식시키는 용액에 대하여 고저항성을 갖는 금속으로 형성된 내식층(2), 제3구리층(3)으로 구성되어 있으며, 상기 내식층은 제1구리층(1)과 제2구리층(3) 사이에 존재하고, 상기 제2구리층(3)의 표면은 거칠게 되어 있다.In the figure, the copper foil for printed wiring boards of this invention consists of the 1st copper layer 1 and the corrosion-resistant layer 2 formed of the metal which has high resistance with respect to the solution which corrodes copper, and the 3rd copper layer 3 The corrosion resistant layer is present between the first copper layer 1 and the second copper layer 3, and the surface of the second copper layer 3 is roughened.
본 발명의 제1구리층(1)은, 압연 구리박법, 전해구리박법, 또는 증착, 비전착성 도금 등과 같은 다른 방법에 의해서 형성될 수 있다. 이 제1구리박(1)의 두께는 취급하기 쉽도록 15㎛ 이상인 것이 바람직하다. 또한, 구리층의 일측은 적어도 약1~10㎛의 거친면을 갖는 것이 바람직하다. 거친 면을 형성하기 위하여는, 부식액과 접촉시키고, 선택조건하에서의 전해도금 등과 같은 종래의 거친 구리박법이 적합할 수 있다.The first copper layer 1 of the present invention may be formed by a rolled copper foil method, an electrolytic copper foil method, or other method such as vapor deposition, non-electrode plating, or the like. It is preferable that the thickness of this 1st copper foil 1 is 15 micrometers or more so that handling may be easy. Moreover, it is preferable that one side of a copper layer has a rough surface of at least about 1-10 micrometers. In order to form a rough surface, a conventional rough copper foil method such as contact with a corrosion solution and electroplating under optional conditions may be suitable.
다음에, 내식층(2)에 관하여는, 구리를 부식시키는 용액에서 낮은 용해성을 갖는 층을 선택하여, 제1구리층(1)의 거친 면에 형성한다. 종래의 내식층의 예로서, 니켈층, 주석층 등을 언급할 수 있다. 상기 층은 한종류의 금속 또는 2종류 이상의 금속의 합금으로 형성될 수 있다. 내식층(2)의 전체두께를 보다 얇게 할 수 있을 지라도, 한층으로 제한시키지 않고, 2이상으로 할 수 있다. 거친면을 형성하기 위하여 이들 방법의 조건을 조정할 때까지는 전해도금, 비전착도금, 치환도금, 중착 등의 방법으로 내식층(2)을형성할 수 있다.Next, regarding the corrosion resistant layer 2, the layer which has low solubility is selected in the solution which corrodes copper, and is formed in the rough surface of the 1st copper layer 1. As shown in FIG. As an example of a conventional corrosion resistant layer, a nickel layer, a tin layer, etc. can be mentioned. The layer may be formed of one kind of metal or an alloy of two or more kinds of metals. Although the overall thickness of the corrosion resistant layer 2 can be made thinner, it can be made into two or more, without restricting to one layer. Until the conditions of these methods are adjusted to form a rough surface, the corrosion resistant layer 2 may be formed by a method such as electroplating, non-electrode plating, substitution plating, or intermediate deposition.
상기 내식층(2)의 표면에 제2구리층(3)을 형성하고, 필요에 따라 이 층의 두께를 줄일 수 있다. 이 구리층(3)을 형성하는 방법으로서, 내식층(2)의 단락에서 언급한 바와같은 방법을 전용할 수 있다.The 2nd copper layer 3 is formed in the surface of the said corrosion-resistant layer 2, and thickness of this layer can be reduced as needed. As a method of forming this copper layer 3, the method as mentioned in the paragraph of the corrosion resistant layer 2 can be diverted.
만약 필요하다면, 장기간의 저장에서 고 안정성을 유지시키기 위하여, 제2구리층(3)의 표면에 방수막을 선택적으로 형성할 수 있다.If necessary, a waterproof film may be selectively formed on the surface of the second copper layer 3 in order to maintain high stability in long term storage.
제2구리층의 거친면을 절연기재로 접합시킴에 의해서 인쇄 배선판용 기판으로서 상기 방법에서 얻어진 구리박을 사용할 수 있다. 본 목적을 위하여 사용할 수 있는 절연재로는, 페놀계수지, 에폭시수지, 폴리에스테르수지, 폴리이미드수지, 폴리에틸렌수지, 폴리테트라플루오르에틸렌수지 등과 같은 유기 절연재로, 그리고 세라믹 등과같은 무기 절연재료들을 포함한다. 또한 유기 절연재로는 유리섬유, 유리촙(glass chop), 비직조 섬유 등으로 조합하여 FRP의 형태로 사용할 수 있다. 가공되지 않은 상태의 수지를 구리박의 제2구리층(3)의 거친면에 공급하고, 열과 압력으로 전체를 박판으로 만들어서 유기 절연재료에 이들 결합된 재료를 접합시킬 수 있다. 유기절연 재료의 경우에 불꽃 스프레이 코팅법에 의해서 구리박의 제2구리층(3)의 면에 상기 재료를 접합시킬 수 있다. 물론, 구리박에 절연재료를 접합시키는 공지된 다른 기술을 상기에 부가하여 사용할 수 있다.The copper foil obtained by the said method can be used as a board | substrate for printed wiring boards by joining the rough surface of a 2nd copper layer with an insulating base material. Insulating materials that can be used for this purpose include organic insulating materials such as phenolic resins, epoxy resins, polyester resins, polyimide resins, polyethylene resins, polytetrafluoroethylene resins, and the like, and inorganic insulating materials such as ceramics and the like. . In addition, the organic insulating material may be used in the form of FRP in combination with glass fiber, glass chop, non-woven fiber and the like. The resin in the unprocessed state can be supplied to the rough surface of the second copper layer 3 of copper foil, and the whole can be laminated with heat and pressure to bond these bonded materials to the organic insulating material. In the case of an organic insulating material, the material can be bonded to the surface of the second copper layer 3 of copper foil by a flame spray coating method. Of course, the other well-known technique of bonding an insulating material to copper foil can be used in addition to the above.
본 발명의 다른 실시예에 있어서, 절연 기재로 제1구리층과 제2구리층(3)의 거친면을 접합하고, 상기 구리층이 절연재료와 접촉하지 않는 영역으로부터 구리층을 부식시킴에 의해서, 구리를 부식시킬 수 있는 부식액을 사용함에 의해 인쇄 배선판용 기판으로서 본 발명의 구리박을 사용할 수 있다. 또한, 구리를 부식시키지 않고 내식층을 쉽게 부식시키는 용액을 사용하여 내식층을 제거함으로, 인쇄 배선판용 기판으로서 나머지를 사용할 수 있다. 다음의 기술에 의해서 고 접착성을 가지며 얇은 게이지 구리박을 갖는 인쇄배선판용 기판을 얻을 수 있고, 배산 회로처리로 고정밀한 배선판을 생산할 수 있다.In another embodiment of the present invention, by joining the rough surface of the first copper layer and the second copper layer 3 as an insulating substrate and corroding the copper layer from a region where the copper layer is not in contact with the insulating material. The copper foil of this invention can be used as a board | substrate for printed wiring boards by using the corrosion liquid which can corrode copper. In addition, by removing a corrosion resistant layer using a solution which easily corrodes the corrosion resistant layer without corroding copper, the rest can be used as a substrate for a printed wiring board. By the following technique, a substrate for a printed wiring board having a high adhesiveness and a thin gauge copper foil can be obtained, and a highly accurate wiring board can be produced by distributed circuit processing.
[실시예 1]Example 1
스테인레스강 플레이트상에, 구리 설파이트 두께 30㎛를 갖는 구리박을 형성하였다. 이렇게 형성된 구리박의 표면은 약 7㎛의 조도를 갖는다.On the stainless steel plate, the copper foil which has a copper sulfite thickness of 30 micrometers was formed. The surface of the copper foil thus formed has roughness of about 7 μm.
다음, 와트전도를 사용하여 구리박의 표면에 약 0.5㎛의 두께를 갖는 전해니켈도금층을 형성하였다.Next, the electrolytic nickel plating layer having a thickness of about 0.5 μm was formed on the surface of the copper foil using watt conductance.
그리고, 상기 전해도금에서 사용된 바와같은 방법으로 니켈막의 표면에 약2㎛의 두께를 갖는 전해구리 도금막을 형성하였다.Then, an electrolytic copper plating film having a thickness of about 2 μm was formed on the surface of the nickel film by the same method as used in the electroplating.
또한, 전해 처리에 의해서 구리막의 표면에 아연-크롬 내식막을 형성하였다.In addition, a zinc-chromium resist was formed on the surface of the copper film by electrolytic treatment.
그리고, 이렇게 얻어진 구리막의 내식면위에 유리섬유 에폭시수지 침투강공제를 겹쳤다.Then, the glass fiber epoxy resin penetrating steel was laminated on the corrosion-resistant surface of the copper film thus obtained.
이렇게, 얻어진 박판의 제1구리층을 니켈층이 노출될 때까지 알칼리 부식액으로 부식시켰다.Thus, the first copper layer of the obtained thin plate was corroded with alkaline corrosion solution until the nickel layer was exposed.
그리고, 이렇게 마련된 박층이 표면에 도금 절연재료를 형성시키고, 절연도료에 의해서 덮혀지지 않은 영역에 30㎛의 두께를 갖는 구리층을 피복시킨다. 도금 절연도료를 벗긴후, 폭 10㎜, 길이 100㎜를 갖는 회로패턴을 갖는 실험견본을 얻기 의하여 박층의 얇은 니켈층 및 얇은 구리층을 염화구리/염화부식액으로 부식시켰다. 실험견본의 박리강도는 평균적으로 약 1.8kgf/㎝ 이다. 한편, 300㎛ 의 두께를 갖는 도금구리층을 전해도금법에 의해서 5㎛의 두께를 갖는 종래의 구리박에 도포시키고, 이렇게 얻어진 구리박을 유리섬유 에폭시 수지로 박층시킬때, 이 박층은 1.5kgf/㎝의 평균박리강도를 갖는다. 그리고, 본 발명의 견본이 접착강도에 있어서 종래의 구리박을 사용하여 제조하였을때 보다 높은 것을 확인할 수 있었다.Then, the thin layer thus prepared forms a plating insulating material on the surface and coats the copper layer having a thickness of 30 占 퐉 in an area not covered by the insulating paint. After the plating insulation was peeled off, the thin nickel layer and the thin copper layer were corroded with copper chloride / chloride solution by obtaining a test sample having a circuit pattern having a width of 10 mm and a length of 100 mm. The peel strength of the test sample was about 1.8 kgf / cm on average. On the other hand, when a plated copper layer having a thickness of 300 µm is applied to a conventional copper foil having a thickness of 5 µm by an electroplating method, and the thus obtained copper foil is laminated with a glass fiber epoxy resin, the thin layer is 1.5 kgf / It has an average peel strength of cm. And it was confirmed that the sample of the present invention is higher when produced using conventional copper foil in adhesive strength.
배선 패턴의 정밀도에 있어서, 본 발명은 도체폭과 도체와 도체간의 간격이 70㎛인 생산물을 얻을 수 있었다. 한편 종래의 생산물에서는 도체폭과 도체와 도체간의 간격이 100㎛ 이하는 형성할 수 없었다. 이것은 배선처리의 정밀도에서 본 발명의 생산물이 종래의 생산물보다 더 우수하다는 것을 의미한다.In the accuracy of the wiring pattern, the present invention was able to obtain a product having a conductor width and a distance between the conductors and the conductors of 70 µm. On the other hand, in the conventional products, the width of the conductor and the gap between the conductor and the conductor could not be formed below 100 m. This means that the product of the present invention is superior to the conventional product in the precision of wiring processing.
상기한 바와같이, 3층 구조를 갖는 구리박을 사용하므로, 본 발명은 접착강도에서 뿐만아니라 배선처리의 정밀도에서도 우수한 인쇄 배선판용 구리박, 상기 구리박을 사용하는 인쇄 배선판용 기판, 및 그의 생산방법을 제공한다.As described above, since a copper foil having a three-layer structure is used, the present invention provides a copper foil for a printed wiring board excellent in not only bonding strength but also in the accuracy of wiring processing, a substrate for a printed wiring board using the copper foil, and the production thereof. Provide a method.
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