KR940000200A - 고경도금속을 함유하는 분할형 환상체에서의 다층표면피복 용접법 - Google Patents

고경도금속을 함유하는 분할형 환상체에서의 다층표면피복 용접법 Download PDF

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KR940000200A
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시케아키 스기오카
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이가라시 쓰토무
가부시키가이샤 구리모토뎃코쇼
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Abstract

본 발명은 수직 로울 밀에서 분할형 테이블 또는 편입된 로울의 마모면상에 다층 표면 피복 용접하기 위한 방법에 관한 것이다. 용접에 의해 이루어진 다층은 선행 기술과 비교해서 경도가 충분히 높고, 더 큰 두께로 켜지고 분할면이 부드럽다. 이렇게 하기 위해, 용접할 분할 성분을 성분사이의 간격을 1내지 10mm로 하여 환상 형태를 형성하면서 차례로 배치하고, 입열량 J(60x아크 전압Vx 용접 전류 A/용접 속도 cm/분으로 계산한다)는 2,000내지 6,000J/cm의 범위로 제한되며, 층간 온도는 또한 300℃이하로 제한하여서 다수의 미세한 크랙크를 비이드에 직각 방향으로 분산시키고, 환상으로 배치된 성분을 사이간격에 기계적 외력을 적용시켜서 실질적으로 간격의 면을 따라서 분리성분으로 이형시킨다. 이러한 다층 용접에 의해 형성된 표면 피복층의 경도 및 두께는 공지된 것들 보다 유리하게 더 우수하고 표면 피복층의 수명이 연장되었다. 다른 장점은 각 성분의 종단면에 거의 일치하 는 분할 단면을 형성시키므로서 표면 피복된 성분을 이형시키기 위해서 비교적 작은 기계적 외력도 충분하고, 마무리 공정을 수작업에 의해 용이하고 간편하게 수행할 수 있다.

Description

고경도금속을 함유하는 분할형 환상체에서의 다층표면피복 용접법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1(A)도 및 제2(B)도는 각각 본 발명의 양태를 도시하는 종단정면도(A)와 종단측면도(B)이고,
제2도는 동일양태의 금속 조직을 도시하는 확대 사진이고,
제3도는 분할의 일예를 도시하는 평면도이다.

Claims (7)

  1. 용접시킬 분할 성분들을 서로의 간격이 1내지 10mm인 환상이 형성되도록 나란히 위치시키고, 기본 금속의 표면상에 다층 용접물을 도포할때, 등식 J=60×I×E/v[여기서, J는 입열량(J/cm)이고; E는 아크(arc) 전압(V)이고, I는 용접 전류(A)이고; v는 용접 속도(cm/분)이다]로 산출되는 입열량 J를 2,000 내지 6,000J/cm범위로 제한하고; 층간 온도를 항상 300℃ 이하로 제한함으로써 용착 금속의 비이드(bead)상에 비이드 방향과 수직인 방향으로 다수의 미세한 크랙크(crack)가 균등하게 분산되어 생성되도록 하며 상기 간격에 하중을 가함으로써 환상 성분을 실질적으로 이 간격의 표면을 따라서 개별 성분으로 분할시키는 단계들 포함함을 특징으로 하여, 고경도 금속을 함유하는 분할형 환상체에 다층 표면 피복 용접하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 오픈 아크(open arc)전자동 용접법을 이용함을 특징으로 하여, 고경도 금속을 함유하는 분할형 환상체에 다층 표면 피복 용접하는 방법.
  3. 제2항에 있어서, 오픈 아크 전자동 용접법에서 사용하는 심선(core wire)으로서 플럭스(flux)심선을 사용함을 특징으로 하여, 고경도 금속을 함유하는 분할형 환상체에 다층 표면 피복 용접하는 방법.
  4. 제3항에 있어서, 심선을 3,000cm/분까지 공급할 수 있는 고속 와이어 공급장치를 사용함을 특징으로 하여, 고경도 금속을 함유하는 분할형 환상체에 다층 표면 피복 용접하는 방법.
  5. 제1항에 있어서, 다층 용접에서 사용하는 고경도 금속의 경도가 적어도 Hv 600을 초과하고, 목적하는 두께를 수득하기 위해서는 층수의 제한없는 수의 층을 형성시킬 수 있음을 특징으로 하여, 고경도 금속을 함유하는 분할형 환상체에 다층 표면 피복 용접하는 방법.
  6. 제5항에 있어서, 피복시키기 위해 사용하는 고경도 금속이 (1)C : 3.0 내지 7.0%, Si : 0.5 내지 2.0%, Mn : 0.5 내지 4.0%, 및 Cr : 20.0 내지 35.0%, 또는 (2)상기 금속에 2%이하의 비로 첨가되는 Mo, W, V Zr, Ti, B, Nb, Cd, Co 및 Al중에서 선택된 1개 이상의 성분으로 구성됨을 특징으로 하여, 고경도 금속을 함유하는 분할형 환상체에 다층 표면 피복 용접하는 방법.
  7. 제5항에 있어서, 피복시키기 위해 사용하는 고경도 금속이 (1)C : 3.0 내지 7.0%, Si : 0.5 내지 2.0%, Mn : 0.5 내지 4.0%, V : 10.0 내지 20.0%, W : 3.0 내지 10.0%; 또는 (2)상기 금속에 2%이하의 비로 첨가되는 Mo, W, V, Zr, Ti, B, Nb, Cd, Co 및 Al중에서 선택된 1개 이상의 성분으로 구성됨을 특징으로 하여, 고경도 금속을 함유하는 분할형 환상체에 다층 표면 피복 용접하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920020136A 1992-06-15 1992-10-30 분할형 환상체의 고경도 금속에 의한 다층 용접법 KR100254031B1 (ko)

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