Claims (9)
가스 흡입구와 가스 배출구를 구비하며 상기 가스 흡입구를 통해 그 내부로 유도된 처리 가스를 사용함으로써 그 내부에 위치한 샘플을 처리하기 위한 진공처리 챔버와, 상기 진공처리 챔버내에 유도된 상기 처리가스를 배기하기 위한 상기 진공처리 캠버의 상기 가스 배출구에 결합된 흡입구를 구입한 것으로, 이것의 상기 흡입구의 크기가 상기 진공처리 챔버의 상기 가스 배출구의 크기보다 더 크지 않은 배기펌프로 구성된 진공처리장치.A vacuum processing chamber having a gas inlet and a gas outlet and for processing a sample located therein by using the processing gas guided therein through the gas inlet, and exhausting the processing gas induced in the vacuum processing chamber. A suction inlet coupled to the gas outlet of the vacuum processing camber, wherein the size of the suction port is not larger than the size of the gas outlet of the vacuum chamber.
제1항에 있어서, 상기 배기펌프의 상기 흡입구가 상기 진공처리 챔버의 상기 가스배출구에 직접 연결됨을 특징으로 하는 진공처리 장치.The vacuum processing apparatus of claim 1, wherein the inlet of the exhaust pump is directly connected to the gas outlet of the vacuum chamber.
제2항에 있어서, 상기 배기펌프의 출구에 콘덕턴스 밸브가 공급됨을 특징으로 하는 진공장치.The vacuum apparatus according to claim 2, wherein a conductance valve is supplied to an outlet of the exhaust pump.
제3항에 있어서, 상기 콘덕턴스 벨브의 크기가 상기 배기펌프의 출구의 크기보다 더 크지 않음을 특징으로 하는 진공처리장치.4. The vacuum processing apparatus according to claim 3, wherein the size of the conductance valve is not larger than that of the outlet of the exhaust pump.
제1항에 있어서, 상기 배기펌프의 상기 흡입구가 콘덕턴스 벨브를 통해 상기 진공처리 챔버의 상기 가스 출구에 연결되고 상기 콘덕턴스 밸브의 크기가 상기 진공처리 챔버의 상기 가스출구의 상기 크기보다 크지 않으며 상기 배기펌프의 픕입구의 상기 크기보다 더 작지 않음을 특징으로 하는 진공처리장치.The method of claim 1, wherein the inlet of the exhaust pump is connected to the gas outlet of the vacuum chamber through a conductance valve and the size of the conductance valve is not greater than the size of the gas outlet of the vacuum chamber. And not smaller than the size of the inlet of the exhaust pump.
상기 진공처리 챔버내로 상기 처리가스를 유도하기 위한 수단과, 상기 처리가스의 가스흐름을 조절하기 위한 수단과, 상기 샘플이 상기 처리가스에 의해 처리된 후에 상기 처리 가스를 배기하기 위한 수단과, 배기펌프와, 상기 배기펌프의 흡입구 크기보다 더 큰 확장영역으로 상기 샘플의 중앙에 실질적으로 수직인 방향으로 연장된 버퍼공간과, 처리될 기 샘플의 표면의 후측상에 형성될 가스배출구을 가지며, 상기 가스 배출구라 상기 배기 펌프의 상기 흡입구의 크기보다 크거나, 실질적으로 같은 크기를 갖는 상기 배기수단으로 구성된, 처리가스에 의해 샘플을 처리하기 위한 진공처리장치.Means for directing the process gas into the vacuum chamber, means for adjusting the gas flow of the process gas, means for evacuating the process gas after the sample has been processed by the process gas, exhaust A gas having a pump, a buffer space extending in a direction substantially perpendicular to the center of the sample with an expansion area larger than the inlet size of the exhaust pump, and a gas outlet to be formed on the rear side of the surface of the sample to be treated; And a discharge port comprising the exhaust means having a size larger than or substantially the same as the size of the suction port of the exhaust pump.
진공처리 챔버내로 유도된 처리가스를 사용함으로써 상기 진공처리 챔버내에 위치한 샘플을 처리하는 진공 처리 장치에 있어서, 상기 진공처리 장치가 상기 진공처리 챔버내로 상기 처리가스를 유도하기 위한 수단과, 상기 처리가스의 가스흐름을 조절하기 위한 수단과, 상기 샘플이 상기 처리가스에 의해 처리된 후 상기 처리가스를 배기하기 위한 수단을 구비하며, 상기 배기수단이 배기펌프와, 상기 배기펌프의 흡입구의 크기보다 더 큰 확장영역으로 상기 샘프의 중앙에 실질적으로 직각인 방향으로 연장된 버퍼공간과, 처리될 상기 샘플의 표면의 후측상에 형성되고 상기 배기펌프의 상기 흡입구의 크기와 같은 크기를 가지는 가스 배출기와, 상기 샘플 둘레에 콘덕턴스를 균일하게 하기 위해 상기 샘플과 상기 배기펌프 사이에 공급되는 수단으로 구성되는 진공처리 장치.A vacuum processing apparatus for processing a sample located in the vacuum processing chamber by using a processing gas guided into a vacuum processing chamber, the vacuum processing apparatus comprising: means for guiding the processing gas into the vacuum processing chamber and the processing gas; Means for regulating the gas flow of the gas, and means for evacuating the process gas after the sample has been processed by the process gas, the exhaust means being larger than the size of an exhaust pump and an inlet of the exhaust pump. A buffer space extending in a direction substantially perpendicular to the center of the sample with a large expansion area, a gas discharger formed on the rear side of the surface of the sample to be treated and having a size equal to the size of the intake port of the exhaust pump; Means supplied between the sample and the exhaust pump to equalize conductance around the sample Vacuum processing apparatus is configured.
진공처리 챔버내로 유도된 처리가스를 사용함으로써 상기 진공처리 챔버내에 위치한 샘플을 처리시키는 진공처리 챔버에 있어서, 상기 진공처리장치가 상기 진공처리 챔버내로 상기 처리가스를 유도하기 위한 수단과, 상기 처리가스의 가스 흐름을 조절하기 위한 수단과, 상기 샘플이 상기 처리가스에 의해 처리된후 상기 처리가스를 배기하기 위한수단을 구비하며, 상기 배기수단이 복수개의 배기 펌프와, 각각의 상기 배기펌프의 흡입구의 크기보다 더 큰 확장영역으로 상기 샘플의 중앙에 실질적으로 직각인 방향으로연장된 버퍼, 공간과, 처리될 상기 샘플의 표면의 후측상에 형성되며 각각이, 상기 각 배기 펌프의 상기 흡입구의 크기보다 크거나 실직적으로 같은 크기를 가지는 복수개의 가스배출구로 구성되는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.A vacuum processing chamber for processing a sample located in the vacuum processing chamber by using a processing gas guided into a vacuum processing chamber, the vacuum processing apparatus comprising: means for guiding the processing gas into the vacuum processing chamber and the processing gas; Means for regulating the gas flow of the gas, and means for evacuating the processing gas after the sample has been processed by the processing gas, wherein the exhausting means comprises a plurality of exhaust pumps and an inlet of each of the exhaust pumps. A buffer, space extending in a direction substantially perpendicular to the center of the sample with an enlargement region greater than the size of and formed on the rear side of the surface of the sample to be treated, each of the size of the inlet of each exhaust pump Vacuum processing apparatus, characterized in that consisting of a plurality of gas outlet having a larger or substantially the same size.
진공처리 챔버내로 유도된 처리가스를 사용함으로써 상기 진공처리 챔버내에 위치한 제작물을 처리시키는 진공처리 챔버에 있어서, 상기 진공처리장치가 상기 진공처리 챔버내로 상기 처리가스를 유도하기 위한 수단과, 상기 처리가스의 흐름을 조절하기 위한 수단과, 상기 샘플이 상기 처리가스에 의해 처리된 후 상기처리가스를 배기하기 위한 수단을 구비하며, 상기 배기 수단은 복수개의 배기펌프와, 처리될 상기 샘플의 표면의 후측상에 형성되고 상기 샘플의 표면에 평행한 관계로, 그리고 상기 샘플의 중앙선에 대해 서로 대칭인 관계로 배열된 복수개의가스 배출구로 구성되며, 각각의 상기 가스배출기가 상기 배기 펌프 각각의 흡입구의 크기보다 크거나 대체로 같은 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 진공처리장치.CLAIMS 1. A vacuum processing chamber for processing a workpiece located in the vacuum processing chamber by using a processing gas guided into a vacuum processing chamber, the vacuum processing apparatus comprising: means for guiding the processing gas into the vacuum processing chamber; Means for regulating the flow of gas and means for evacuating the process gas after the sample has been processed by the process gas, the evacuation means comprising a plurality of exhaust pumps and a surface of the surface of the sample to be treated. A plurality of gas outlets formed on the side and arranged in a parallel relationship to the surface of the sample and in a symmetrical relationship with respect to the centerline of the sample, wherein each of the gas dischargers is the size of the intake port of each of the exhaust pumps; Vacuum processing apparatus, characterized in that larger or substantially the same size.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.