Claims (17)
하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 및 그의 염, 또는 이러한 화합물 또는 염들의 혼합물.The compounds of formula (I) and salts thereof, or mixtures of such compounds or salts.
R1및 R3는 각각 독립적으로 수소, -COOH 또는 -SO3H 이고, R2및 R4각각 독립적으로 수소, C1-4알킬 또는 C2-4하이드록시 -알킬이며, Q는 헤테로환상 섬유-반응성 라디칼, 또는 -COCHY2-CH2Y1, -COCY2=CH2또는 -COCH2Y1의 그룹(여기서, Y1은 염소, 브롬, -OSO3H 또는 -SSO3H이며, Y2는 수소, 염소 또는 브롬이다)이고, m은 1또는 2이며, n은 0, 1 또는 2이고, z는이며, 단, 각각의 아조 라디칼은 디설포나프틸 라디칼의 아미노 또는 하이드록시 그룹에 대해 오르토 위치에 결합된다.R 1 and R 3 are each independently hydrogen, —COOH, or —SO 3 H, each of R 2 and R 4 is independently hydrogen, C 1-4 alkyl, or C 2-4 hydroxy-alkyl, and Q is heterocyclic fiber-reactive radicals are, or -COCHY 2 -CH 2 Y 1, -COCY 2 = CH 2 or a group -COCH 2 Y 1 (where, Y 1 is chlorine, bromine, -OSO 3 H or -SSO 3 H, Y 2 is hydrogen, chlorine or bromine), m is 1 or 2, n is 0, 1 or 2, z is With the proviso that each azo radical is bonded at the ortho position relative to the amino or hydroxy group of the disulfonaphthyl radical.
제1항에 있어서, 헤테로 환상 섬유-반응성 라디칼로서의 Q가 불안정한 할로겐 치환체를 함유하는 피리미디닐 또는 트리아지닐 라디칼인 화합물.The compound of claim 1, wherein Q as a heterocyclic fiber-reactive radical is a pyrimidinyl or triazinyl radical containing an unstable halogen substituent.
제1항 또는 2항에 있어서, D가 일반식(a)의 라디칼인 화합물.The compound of claim 1 or 2 wherein D is a radical of formula (a).
제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, R1이 R1a이고, R1a가 -COOH 또는 -SO3H이며, R3이 R3a이고, R3a가 수소 또는 -SO3H인 화합물.The compound of any one of claims 1-3, wherein R 1 is R 1a , R 1a is —COOH or —SO 3 H, R 3 is R 3a , and R 3a is hydrogen or —SO 3 H. .
제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, R2이 R2a이고, R4이 R4a이며, R2a및 R4a가 각각 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 또는 2-하이드록시에틸인 화합물.The compound of any one of claims 1-3, wherein R 2 is R 2a , R 4 is R 4a , and R 2a and R 4a are each independently hydrogen, methyl, ethyl, or 2-hydroxyethyl .
제1항 내지 제5항중 어느 한 항에 있어서, Q가 Qa이며, Qa가 라디칼(C), -COCHY2-CO2Y1또는 -COCHY2=CH2이고, Y1이 염소, 브롬, -OSO3H 또는 -SSO3H 이며, Y2가 수소, 염소 또는 브롬이고,또는 =N-이며, YO가 H, F, Cl, -CN, -CHO, -SR5, -SOR5, -SO2R5또는 -SO2F이고, Z1이 H, F, Cl, Br, -NR6R7또는 -OR5이며, Z2가 F, Cl, Br 또는A이고, A-가 비발색성 음이온이며, R5가 수소, C1-4알킬, C1-4하이드록시알킬, 페닐, 또는 카복시 또는 설포에 의해 일치환된 페닐이고, R6및 R7이 각각 독립적으로 수소; C1-4알킬, C2-4하이드록시알킬=페닐 또는 C1-4알킬, C1-4알콕시, 설포 또는 카복시에 의해 일치환된 페닐; 페닐 (C1-3알킬), 또는 페닐환이 C1-4알킬, C1-4알콕시, 설포 또는 카복시에 의해 일치환된 페닐(C1-3알킬); -(CH2)t-SO2-X, -CH2CH2-O-(CH2)t-SO2-X 또는(여기서, t는 2 또는 3이고; X는 -CH=CH2또는 -CH2CH2-Y이며, Y는 하이드록시, 또는 알칼리성 조건하에 분리될 수 있는 라디칼이다) 이거나, 또는 -NR6R7이 피페리딘, 피페라진, N-메틸-피페라진 또는 모르폴리 환이며, R8이 하이드록시, -NH2, 메톡시 또는 에콕시인 화합물.The compound according to any one of claims 1 to 5, wherein Q is Q a and Q a is a radical (C). And, -COCHY 2 -CO 2 Y 1 = CH 2 and 2 or -COCHY, Y 1 is chlorine, and bromine, -OSO 3 H or -SSO 3 H, Y 2 is hydrogen, chlorine or bromine, Or = N-, Y O is H, F, Cl, -CN, -CHO, -SR 5 , -SOR 5 , -SO 2 R 5 or -SO 2 F, and Z 1 is H, F, Cl, Br, -NR 6 R 7 or -OR 5 , Z 2 is F, Cl, Br or A , A − is a non-chromogenic anion, R 5 is hydrogen, C 1-4 alkyl, C 1-4 hydroxyalkyl, phenyl, or phenyl monosubstituted by carboxy or sulfo, and R 6 and R 7 are each Independently hydrogen; C 1-4 alkyl, C 2-4 hydroxyalkyl = phenyl or C 1-4 alkyl, phenyl monosubstituted by C 1-4 alkoxy, sulfo or carboxy; Phenyl (C 1-3 alkyl), or phenyl ring is C 1-4 alkyl, C 1-4 alkoxy, sulfo or carboxy-substituted phenyl (C 1-3 alkyl) by; -(CH 2 ) t -SO 2 -X, -CH 2 CH 2 -O- (CH 2 ) t -SO 2 -X or Where t is 2 or 3; X is -CH = CH 2 or -CH 2 CH 2 -Y and Y is hydroxy, or a radical that can be separated under alkaline conditions) or -NR 6 R 7 is a piperidine, piperazine, N-methyl-piperazine or morpholin ring, and R 8 is hydroxy, -NH 2 , methoxy or epoxy.
제1항에 있어서, 하기 일반식(Ⅰa)에 상응하는 화합물 및 그의 염.The compound and salt thereof according to claim 1, which correspond to the following general formula (Ia).
상기식에서, Z는 제1항에서 정의된 바와 같고, R1 -는 -COOH 또는 -SO3H이며, R2X는 수소, 메틸 또는 에틸이고; D2는 하기 라디칼(a2) 또는 (b3)이며;Wherein Z is as defined in claim 1 , R 1 - is -COOH or -SO 3 H, and R 2X is hydrogen, methyl or ethyl; D 2 is the following radical (a2) or (b3);
(여기서, m은 1 또는 2이고, n'는 0 또는 1이며, 이 경우, (CH2)n'-NH-Qd및 (SO3H)m의 위치는 다음과 같다: ⅰ)n'가 1이고, -CH2-NH-Qd는 5-위치에 존재하고; m이 1이고, 설포그룹은 1-위치에 존재하며; ii) n'가1이고, -CH2-NH-Qd는 5-위치에 존재하고; m이 2이고, 설포그룹은 1- 및 7-위치에 존재하며; ⅲ) n'가 0이고, -NH-Qd는 6-위치에 존재하고; m이 2이고, 설포그룹은 4-및 8-위치에 존재한다); Qo는 라디칼(C1')또는 (C2')이고, Qd는 라디칼(C2')이며, 라디칼(C1')는 하기 라디칼(C1)이고, 라디칼(C2')는 하기 라디칼(C2)이며,Wherein m is 1 or 2 and n 'is 0 or 1, in which case the positions of (CH 2 ) n ' -NH-Q d and (SO 3 H) m are as follows: i) n ' Is 1 and -CH 2 -NH-Q d is at the 5-position; m is 1 and the sulfo group is in the 1-position; ii) n 'is 1 and -CH 2 -NH-Q d is at the 5-position; m is 2 and the sulfogroup is in the 1- and 7-positions; Iii) n 'is 0 and -NH-Q d is in the 6-position; m is 2 and the sulfogroup is in the 4- and 8-positions); Q o is a radical (C 1 ′) or (C 2 ′), Q d is a radical (C 2 ′), a radical (C 1 ′) is a radical (C 1 ), and a radical (C 2 ′) is Is a radical (C 2 ),
Z1'는 염소 또는 -NR6aR7a이고, R6a및 R7a는 각각 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 2-하이드록시에틸, 페닐 또는 메틸, 메톡시, 설포 또는 카복시에 의해 일치환된 페닐, -(CH2)t-SO2-Xa또는 -CH2CH2-O(CH2)t-SO2-Xa(여기서, t는 2 또는 3이고, Xa는 -CH=CH2, -CH2CH2OH 또는 -CH2CH2OSO3H이다) 이거나, 또는 -NR6aR7a가 피페리딘 또는 모르폴린환이고, Z2'는 F또는 Cl이며, YO'는 수소, Cl 또는 -CN이고, Z1" 및 Z2"는 각각 F 또는 Cl이며, 단 , 각각의 아조 라디칼은 디설포나프틸 라디칼의 아미노 또는 하이드록시 라디칼에 의해 오르토 위치에 결합 된다.Z 1 ′ is chlorine or —NR 6a R 7a , and R 6a and R 7a are each independently hydrogen, methyl, ethyl, 2-hydroxyethyl, phenyl or phenyl monosubstituted by methyl, methoxy, sulfo or carboxy ,-(CH 2 ) t -SO 2 -X a or -CH 2 CH 2 -O (CH 2 ) t -SO 2 -X a , where t is 2 or 3 and X a is -CH = CH 2 , -CH 2 CH 2 OH or -CH 2 CH 2 OSO 3 H), or -NR 6a R 7a is a piperidine or morpholine ring, Z 2 'is F or Cl, Y O ' is hydrogen , Cl or -CN, Z 1 "and Z 2 " are each F or Cl, provided that each azo radical is bonded at the ortho position by the amino or hydroxy radical of the disulfonafyl radical.
제7항에 있어서, 하기 일반식(Ⅰb)에 상응하는 화합물 및 그의 염.8. Compounds and salts thereof according to claim 7, which correspond to the following general formula (Ib).
상기식에서, R2b및 Z는 제7항에서 정의된 바와 같고, -NR2b-Z는 4- 또는 5-위치에 존재하며, D3는 제7항에서 정의된 라디칼(a2)이다.Wherein R 2b and Z are as defined in claim 7, -NR 2b -Z are in the 4- or 5-position and D 3 is the radical (a 2 ) as defined in claim 7.
제8항에 있어서, R2b가 수소인 화합물.The compound of claim 8, wherein R 2b is hydrogen.
제9항에 있어서, -CH-Z가 5-위치에 존재하는 화합물.The compound of claim 9, wherein —CH—Z is at the 5-position.
실제로 실시예 1 내지 42중 어느 하나를 참고로하여 상세한 설명에 기술한 바와 같은 화합물.Indeed a compound as described in the detailed description with reference to any one of Examples 1-42.
1-아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6- 또는 -4,6-디설폰산을, 한편으로는 하기 일반식(Ⅱ)의 아민의 디아조늄염과 반응시키고, 다른 한편으로는 하기 일반식(Ⅲ)의 아민의 디아조늄염과 반응시킴을 포함하는, 제1항에서 정의된 바와 같은 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 이러한 화합물들의 혼합물을 제조하는 방법.1-amino-8-hydroxynaphthalene-3,6- or -4,6-disulfonic acid is reacted with the diazonium salt of the amine of the following general formula (II) on the one hand, and on the other hand A process for preparing a compound of formula (I) or a mixture of such compounds as defined in claim 1 comprising reacting with a diazonium salt of the amine of (III).
상기식에서, D, R1, R2및 Z는 제1항에서 정의된 바와 같다.Wherein D, R 1 , R 2 and Z are as defined in claim 1.
실제로 실시예 1 내지 42중 어느 하나를 참고로 하여 상세한 설명에 기술한 바와 같은 제1항에서 정의된 일반식(Ⅰ)의 화합물의 제조방법.In fact a process for the preparation of a compound of formula (I) as defined in claim 1 as described in the detailed description with reference to any one of Examples 1-42.
제12항 또는 제13항의 방법에 의해 수득된 일반식(Ⅰ)의 화합물.A compound of formula (I) obtained by the method of claim 12 or 13.
제1항 내지 제10항 및 제14항중 어느 한항의 화합물 또는 이들의 혼합물을 하이드록시 그룹- 또는 질소-함유 유기 기재에 적용시킴을 포함하는, 상기 기재를 염색 또는 날염하는 방법.A method of dyeing or printing a substrate, comprising applying the compound of any one of claims 1 to 10 and 14 or a mixture thereof to a hydroxy group- or nitrogen-containing organic substrate.
제15항에 있어서, 상기 기재가 천연 또는 재생 셀룰로오즈를 포함하는 섬유 물질인 방법.The method of claim 15, wherein the substrate is a fibrous material comprising natural or regenerated cellulose.
실제로 적용실시예 A 내지 C중 어느 하나를 참고로 하여 상세한 설명에 기술한 바와 같은 기재의 염색 및 날염 방법.Process for dyeing and printing substrates as actually described in the detailed description with reference to any of Examples A-C.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.