KR930010215B1 - Photographic elements sensitive to near infrared - Google Patents

Photographic elements sensitive to near infrared Download PDF

Info

Publication number
KR930010215B1
KR930010215B1 KR1019850006294A KR850006294A KR930010215B1 KR 930010215 B1 KR930010215 B1 KR 930010215B1 KR 1019850006294 A KR1019850006294 A KR 1019850006294A KR 850006294 A KR850006294 A KR 850006294A KR 930010215 B1 KR930010215 B1 KR 930010215B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
microns
less
layer
light
particles
Prior art date
Application number
KR1019850006294A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR860002035A (en
Inventor
이. 그르제스코비아크 니콜라스
비. 필립 제이 알. 제임스
Original Assignee
미네소타 마아닝 앤드 매뉴팩츄어링 컴패니
도날드 밀러 셀
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미네소타 마아닝 앤드 매뉴팩츄어링 컴패니, 도날드 밀러 셀 filed Critical 미네소타 마아닝 앤드 매뉴팩츄어링 컴패니
Publication of KR860002035A publication Critical patent/KR860002035A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR930010215B1 publication Critical patent/KR930010215B1/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/775Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers the base being of paper
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C5/00Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
    • G03C5/16X-ray, infrared, or ultraviolet ray processes
    • G03C5/164Infra-red processes
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/825Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antireflection means or visible-light filtering means, e.g. antihalation
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/95Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers rendered opaque or writable, e.g. with inert particulate additives

Abstract

내용 없음.No content.

Description

근 적외선에 감광하는 사진재료Photographic materials that are sensitive to near infrared

본 발명은 750nm 이상 특히 750-1500nm의 근적외선 스펙트럼에서 방출되는 광에 대해 민감(감광)한 사진재료(photographic elements)에 관한 것이다. 특히 레이저 다이오드 주사시스템에 대한 고품질의 기록 매체(recording medium)을 제공하는데 적합한 사진재료에 관한 것이다.The present invention relates to photographic elements that are sensitive (photosensitive) to light emitted in the near infrared spectrum of at least 750 nm, in particular 750-1500 nm. In particular, it relates to a photographic material suitable for providing a high quality recording medium for a laser diode scanning system.

널리 사용되는 상처리 기술은 가시상의 근접된 작은 영역들에 대한 명도를 코우드화 함으로써 가시상을 전자데이타로 전환시키는 것이다. 이러한 전자암호화는 상의 조작, 전송 및 기억에 대한 잇점이 있다. 또한 소위 " 주사시스템"에 의해 데이타를 가시상으로 다시 전환시키는 방법이 공지되어 있는데, 이렇게 함으로써 집속된 광선은 광에 민감한 매체를 통하여 계속되는 인접 래스터 라인에 빠르게 주사되며, 그 동안에 광의 세기를 변조하여 전자신호에 기초해서 필요로 하는 상의 세기로 재생시킨다.A widely used wound technique is to convert the visible image to electronic data by coding the brightness of adjacent small areas of the visible image. Such electronic encryption has advantages for image manipulation, transmission and storage. Also known is a method of converting data back into the visible image by a so-called "scanning system," whereby the focused rays are quickly scanned into adjacent raster lines through a light-sensitive medium, while modulating the intensity of the light The image is reproduced at the required intensity based on the electronic signal.

레이저, 특히 가스지속매체로서 아르곤, 크립톤, 헬륨- 네온 또는 헬륨- 카드뮴 혼합물을 사용한 레이저는 이러한 상 기술에 대한 높은 세기의 광원으로서 사용된다. 이러한 모든 레이저는 방출되는 광의 세기를 변조하기 위한 부가적인 복잡한 장치를 필요로하고, 큰 물리적 벌크, 큰 기계적 메짐성 및 큰 제작비용을 필요로하는 불리점이 수반되었다.Lasers, in particular lasers using argon, krypton, helium-neon or helium-cadmium mixtures as gas-sustaining media, are used as high intensity light sources for this phase technique. All these lasers require additional complex devices to modulate the intensity of the emitted light, and have the disadvantage of requiring large physical bulks, large mechanical brittleness and large fabrication costs.

반도체 레이저 다이오드는 주사광 출력이 전기신호 입력에 의해 직접적으로 변조되고, 또한 주사광이 매우 내구성이 크다는 점에서 주사시스템에 대한 광원으로 매우 적합하다.The semiconductor laser diode is very suitable as a light source for a scanning system in that the scanning light output is directly modulated by the electric signal input, and the scanning light is very durable.

그러나, 현재 허용되는 긴 작동수명과 값싼 제작비용을 지닌 산업적 이용 가능한 레이저 다이오드 장치는 750-150nm의 적외선(NIR)스펙트럼범위에서 빛을 방출하는 장치이다. 따라서, 상 목적을 위해 레이저 다이오드 주사시스템을 이용하기 위해 NIR범위에서 광에 민감한 기록매체를 제공할 필요가 있다.However, currently available laser diode devices with long operating lifetimes and low manufacturing costs are those that emit light in the infrared (NIR) spectrum range of 750-150 nm. Therefore, there is a need to provide a light sensitive recording medium in the NIR range in order to use a laser diode scanning system for this purpose.

긴 사슬의 시아닌 염료를 사용하는 할로겐화는 에멀젼은 근적외선에 대해 민감하다고 Mees 및 James의 "The Theory of the Photographic Process"(제 3판, MacMillan 1966, pp. 198-201)등에 공지되어 있는데, 상기 문헌을 본 발명에 참고했다.Halogenation using long chain cyanine dyes is known in Mees and James, The Theory of the Photographic Process (3rd edition, MacMillan 1966, pp. 198-201), that emulsions are sensitive to near infrared light. Reference is made to the present invention.

NIR 감광사진필름, 특히 0.4 마이크론 이하의 평균직경을 갖는 할로겐화은은, 다른 표면과 접촉하기 위해 비유리질의 호울더의 가장자리에 의해 지탱되고, 820nm에서 방출된 레이저 다이오드 주사시스템으로부터 균일하게 노출되었을때 넓은 소용돌이치는 간섭패턴(이하 "비-접촉 주사무늬"라 칭하여짐)으로 덮여진 상을 산출한다. 이러한 무뉘는 주위의 공기를 지닌 필름재료의 2개의 간섭으로부터 노출광의 반사에 의해 생긴 것이다. 필름의 상부면과 하부면으로부터 반사된 광선들 사이의 경로차이(path difference)는 주어진 특정점에서 필름의 두께에 의해 조절되며, 유효 상 차이는 상쇄간섭 또는 보강간섭으로 인해 기인되고, 주어진 점에서 광에 민감한(감광성)에멀젼 층속으로 투과되어진 감소노출 또는 증가노출에 의해 기인된다. 그러므로 상기 무늬는 필름 재료에서의 현미경적 두께변이의 윤곽선이 나타나고 전상 영역을 1mm의 간격을 지닌수 센티미터 길이의 넓은 선으로 덮는다.NIR photosensitive films, especially silver halides with an average diameter of 0.4 microns or less, are supported by the edges of non-glassy holders to contact other surfaces and are broadly exposed when uniformly exposed from a laser diode scanning system emitted at 820 nm. An image covered with a swirling interference pattern (hereinafter referred to as " non-contact scanning pattern ") is calculated. This breakdown is caused by the reflection of exposure light from two interferences of the film material with ambient air. The path difference between the light rays reflected from the top and bottom surfaces of the film is controlled by the thickness of the film at a given point, and the effective phase difference is due to offset or constructive interference, at which point It is caused by decreased or increased exposure to the light sensitive (photosensitive) emulsion layer. The pattern is therefore outlined by microscopic thickness variations in the film material and covers the field image with a wide line several centimeters long with a spacing of 1 mm.

비-접촉 간섭무늬는 할로겐화은 에멀젼물질과 관련된 문헌에는 전술한 바와 같이, 보고되어 있지 않다. 감광성 에멀젼층의 혼탁은 필름재료의 이면으로부터 반사광을 산란시키므로 상기와 같은 현상은 가시광에 노출되는 정상노출 조건하에서는 일어나지 않는다. 그러나, 더 긴 파장때문에, 적외선은 심한 산란없이 작은 입자의 사진 에멀젼을 통과할 수 있으며, 레이저 다이오드출력의 일관성이 향상되어 간섭패턴을 형성한다. 따라서, 3g/m2의 은의 피복중량과 0.28 마이크론의 평균직경의 크기를 갖는 할로겐화은 입자의 사진에 에멀젼은 감지할 수 있는 무늬를 보여준다. 0.23 마이크론의 크기를 입자의 크기를 낮추거나 피복중량을 감소시키면 더 많은 패턴이 발생하여, 0.20 마이크론 또는 이 이하의 평균직경 크기의 입자를 지닌 에멀젼은 비-접촉 레이저 다이오드 주사후 심한 무늬를 보여준다.Non-contact interference fringes have not been reported, as described above, in the literature relating to silver halide emulsion materials. Since the haze of the photosensitive emulsion layer scatters the reflected light from the back surface of the film material, the above phenomenon does not occur under normal exposure conditions exposed to visible light. However, because of the longer wavelengths, infrared light can pass through small particle photographic emulsions without severe scattering, and the coherence of the laser diode output is improved to form interference patterns. Thus, the emulsion shows a detectable pattern in the photograph of silver halide particles with a coating weight of silver of 3 g / m 2 and an average diameter of 0.28 microns. Reducing the size of the particles to 0.23 microns or reducing the coat weight results in more patterns, so emulsions with particles of average diameter size of 0.20 microns or less show severe pattern after non-contact laser diode injection.

비-접촉 주사무늬는 주사영상의 질, 특히 계속적 톤 농담을 지난 상의 질을 떨어뜨린다. 상기 무늬는 심미적인 면에서 아름답지 못할 뿐만아니라 상에서의 약간의 밀도차이에 의해 전달된 중요한 정보를 방해한다. 0.4 마이크론 이하(바람직하게는 0.30 마이크론 이하)의 평균직경크기의 입자를 지닌 사진 에멀젼을 사용하는 것이 바람직하다. 0.4 마이크론 또는 이 이하의 입자크기를 지닌 미세입자 에멀젼은 높은 분해능을 제공하고 높은 피복력 및 은의 낮은 피복중량에 의한 최대광 밀도 및 최적현상을 산출한다는 점에서 유리하다. 따라서, 레이저 다이오드 주사시스템에 사용되는 사진 재료는 비-접촉 간섭무늬를 은폐 시킬 수 있어야만 한다.Non-contact scanning patterns degrade the quality of the scanned image, especially the image that has passed the continuous tone tone. The pattern is not only aesthetically beautiful but also interferes with important information conveyed by slight differences in density on the bed. Preference is given to using photographic emulsions having particles of average diameter size of 0.4 microns or less (preferably 0.30 microns or less). Microparticle emulsions having a particle size of 0.4 microns or less are advantageous in that they provide high resolution and yield maximum light density and optimum phenomena due to high coating power and low coating weight of silver. Thus, the photographic material used in the laser diode scanning system must be able to conceal the non-contact interference fringe.

간섭무늬현상은 광학기록 시스템에서는 공지되어 있다. 밝은 표면의 사진필름이 유리지지체, 도트 스크린(dot screens) 또는 접촉 프린팅 네가티브스(contact printing negatives)와 같은 다른 밝은 표면과 접촉되어 노출될때, 흔한 공동의 문제는 "뉴우톤링(Newton's rings)"로서 공지된 서로 근접된 동심원 무늬패턴의 현상이 발생한다는 것이다(Encyclopedic Dictionary of Physics, J. Thewlis, Ed., Pergamon, London, 1961, p378참조). 이러한 무늬는 필름의 상부면과 접촉지지체의 하부면으로 부터의 반사광사이의 광 간섭때문이며, 공간 공기 갭의 크기는 2셋트의 광선사이의 경로차이로서 결정하며, 따라서 이러한 상차이는 에멀젼 층속으로 투과된 부가 또는 감소노출을 일으키는 밝기나 또는 어두운 무늬를 형성한다. 뉴우톤 링은 노출동안 접촉점으로부터 동심원적으로 방사형을 그리며 각 패턴의 가장자리를 향하여 점점 작게되는 좁은 무늬를 그리는 분리된 영역의 패턴을 형성하는 경향이 있다. 이것은 약 1mm 간격을 두고 수센티미터의 길이를 지닌 넓은 선으로 전상영역을 덮는 넓은 소용돌이치는 비-접촉 주사무늬와는 아주 다르다.Interference fringes are known in optical recording systems. When a bright surface photographic film is exposed in contact with other bright surfaces such as glass supports, dot screens or contact printing negatives, a common common problem is Newton's rings. The phenomenon of known concentric pattern of adjacent concentric patterns occurs (see Encyclopedic Dictionary of Physics, J. Thewlis, Ed., Pergamon, London, 1961, p378). This pattern is due to the optical interference between the upper surface of the film and the reflected light from the lower surface of the contact support, and the size of the spatial air gap is determined as the path difference between the two sets of rays, so this phase difference is transmitted into the emulsion layer. Form a bright or dark pattern that causes added or reduced exposure. Newton rings have a tendency to form a pattern of discrete regions, narrowly concentric, radially concentric from the contact point during exposure and becoming smaller toward the edge of each pattern. This is very different from the wide swirling non-contact scanning pattern that covers the field of vision with a wide line of several centimeters in length, approximately 1 mm apart.

뉴우통 링의 형성을 방지하는 방법은 당분야에서 공지되어 있다. 예를 들면, 매팅 입자(matting particles)를 필름의 외부표면에 결합시키는 것은 공지된 방법이다. 공지된 매팅입자의 보기로서 실리카, 폴리-메틸메타아크릴레이트(PMMA), 공중합체를 포함하는 폴리비닐화합물, 전분 또는 무기염등을 들 수 있다. 매팅의 적용범위는 미합중국 특허 명세서 제4,235,939호, 제4,022,622, 제3,754,924호 및 제2,322,037호등에 기술된 바와 같이 5-10 마이크론의 직경을 갖는 꽤 큰 입자의 작은 수(0.1 g/m2이하)로부터 영국 특허 명세서 제2,077,935호 및 제2,033,956호 및 미합중국 특허 명세서 제3,507,678호 및 제2,992,101호에 기술된 바와 같이 작은 입자크기의 보호막(to pcoat) 결합제의 50% 또는 1g/m2까지 더 큰 입자중량까지 다양하다.Methods for preventing the formation of pneumatic rings are known in the art. For example, bonding matting particles to the outer surface of a film is a known method. Examples of known matting particles include silica, poly-methylmethacrylate (PMMA), polyvinyl compounds containing copolymers, starch or inorganic salts. The application of matting ranges from a small number of quite large particles (no more than 0.1 g / m 2 ) having a diameter of 5-10 microns, as described in U.S. Patent Nos. 4,235,939, 4,022,622, 3,754,924 and 2,322,037, etc. Up to 50% or 1 g / m 2 of larger particle weight of small particle size to pcoat binder as described in British Patents 2,077,935 and 2,033,956 and US Patents 3,507,678 and 2,992,101 Varies.

2개의 에멀젼의 접촉스크린 노출을 위한 일루미네이션으로서 가시레이저 광을 사용하면 특히 심한 뉴우톤 링 무늬가 형성된다. 미합중국 특허 명세서 제4,343,873호는 상기 무늬를 최소로하기 위한 사진재료를 기술하고 있는데, 이것은 감광층이 레이저광에 노출되는 광-산란층을 포함하고 있다. 광산란 입자는 일루미네이션 레이저에 대해 50-150% 파장을 갖는 직경을 가지고 있다. 광 산란층은 사진재료 상에 외층으로서 또는 하부기타층으로서 피복된다.The use of visible laser light as illumination for the contact screen exposure of two emulsions results in particularly severe Newton tone ring fringes. U. S. Patent No. 4,343, 873 describes a photographic material for minimizing the pattern, which includes a light-scattering layer in which the photosensitive layer is exposed to laser light. Light scattering particles have a diameter with 50-150% wavelength for illumination lasers. The light scattering layer is coated on the photographic material as an outer layer or as a lower other layer.

내점착성, 내마멸성, 손질성(retouchability), 진공플레임에서의 우수한 인성(d raw-down) 및 감소된 정전효과(static effects)등의 비광학적 특성을 위해 사진재료에 매팅제를 사용하는 것은 공지되어 있다. 매팅제의 사용보기로서 미합중국 특허 명세서 제4,266,010호에 명시된 바의 적외선 감광필름을 들 수 있는데, 상기 특허에 따르면 0.2-10 마이크론크기의 PMMA를 산처리 젤라틴 결합제의 함유한 에멀젼 보호막에 대해 기술했으며 이것은 적외선 필름을 포함한 모든 종류의 사진물질에 적합하다고 주장하였다. 또한, 매팅제 사용의 보기로서 미합중국 특허 명세서 제3,695,888호를 들 수 있는데, 상기 특허는 메소 알킬아미노 치환제의 특정증감제(sensitisers)를 지닌 시아닌염료에 의해 적외선에 감광화된 사진에멀젼에 대해 기술하고 있으며, 상기 재료는 미합중국 특허 명세서 제2,992,101호에 명시된 바우 1-4 마이크론 크기의 메타아크릴산 -메틸메타아크릴레이트 공중합체 비이드 및 미합중국 특허 명세서 제2,701,24호에 명시된 바의 에멀젼 중합반응에 의해 형성된 1-20 마이크론 크기의 폴리-메틸메타아크릴레이트 비이드를 함유한 중합체 비이드, 실리카, 산화아연, 이산화티타늄, 전분과 같은 매팅제를 함유할 수 있다는 것을 주장하고 있다.The use of matting agents in photographic materials for non-optical properties such as adhesion, abrasion resistance, retouchability, good d raw-down in vacuum flames and reduced static effects is known. have. An example of the use of a matting agent is an infrared photosensitive film as described in US Pat. No. 4,266,010, which describes 0.2-10 micron PMMA for an emulsion protective film containing an acid treated gelatin binder. It claimed to be suitable for all kinds of photographic materials including infrared film. An example of the use of matting agents is U. S. Patent No. 3,695, 888, which describes a photoemulsion that is photosensitized in the infrared by cyanine dyes with specific sensitisers of meso alkylamino substituents. The material is prepared by Bau 1-4 micron size methacrylic acid-methylmethacrylate copolymer beads as specified in US Pat. No. 2,992,101 and emulsion polymerization as specified in US Pat. No. 2,701,24. It is claimed that polymer beads containing poly-methylmethacrylate beads of 1-20 micron size formed may contain matting agents such as silica, zinc oxide, titanium dioxide, and starch.

뉴우톤 링의 형성을 막기 위해 사진재료상에 사용되는 공지된 종류의 층은 근 적외선에 감광화되는 미소입자의 사진 에멀젼을 지닌 사진재료에 대한 비-접촉 간섭무늬의 형성을 막을 수 없다는 것을 알게 되었다.It has been found that a known kind of layer used on photographic materials to prevent the formation of Newton rings cannot prevent the formation of non-contact interference fringes on photographic materials with photographic emulsions of microparticles that are photosensitized in the near infrared. .

따라서, 본 발명에 따르면 750mm이상(일반적으로 750-1500mm)의 적외선에 대해 투광하는 지지체, 적외선에 감광된 0.4 마이크론 이하의 평균직경 크기의 입자를 지닌 할로겐화은 에멀젼의 하나 또는 그 이상의 층으로 구성된 사진재료가 제공되며, 상기 사진재료는 다음으로 구성된다는데 그 특징이 있다. 즉 :Thus, according to the present invention, a photographic material composed of one or more layers of silver halide emulsions having a support that transmits over 750 mm (typically 750-1500 mm) of infrared light, and particles of average diameter size of 0.4 microns or less that are exposed to infrared light Is provided, the photographic material is characterized by consisting of. In other words :

(i) 감광에멀젼과 같은 지지체의 동일면상에서 보호막층을 형성하며, 근적외선에 대해 확산투광하는 층인 보호막층, (ii) 감광에멀젼과 떨어진 지지체의 면상에서 최이면층을 형성하며 새로운 근적외선에 대해 확산반사 층 또는 흡광층인 이면층, (iii) 지지체와 감광에멀젼 사이에 위치하며 근적외선에 대해 확산투광 또는 흡광하는 층인 내부층(subbing layer)으로 구성된다는데 특징이 있으며, 따라서 본 발명의 사진재료는 비-접촉간섭 무늬의 형성없이 근적외선을 방출하는 레이저 주사시스템에 의해 상이 형성된다.(i) forming a protective film layer on the same surface of the support as a photosensitive emulsion, a protective film layer which is a layer which transmits light to near infrared rays; A backing layer, which is a layer or light absorbing layer, and (iii) a subbing layer, which is located between the support and the photosensitive emulsion and which diffuses or absorbs near-infrared rays, and thus the photographic material of the present invention is non- The image is formed by a laser scanning system that emits near infrared rays without the formation of contact interference fringes.

본 발명에 따른 사진재료는 노출시 필름과 다른표면이 비-접촉하고 있음에도 불구하고 레이저 다잉드 NIR 광원으로 주사된 후 현상될 때 비보호된 미세입자 근적외선 필름을 넓은 소용돌이 무늬로 덮여지도록 하는 내부 광간섭무늬의 형성에 대해 내성이 있다.The photographic material according to the present invention has an internal optical interference which allows the unprotected microparticle near-infrared film to be covered with a wide swirl pattern when it is developed after being scanned with a laser dyed NIR light source even though the film and other surface are in non-contact upon exposure. It is resistant to the formation of a pattern.

비-접촉 간섭무늬의 형성을 막는데는 3가지 방법이 있으며, 이러한 방법은 단독으로 또는 함께 조합되어 사용된다.There are three ways to prevent the formation of non-contact interference fringes, which are used alone or in combination.

즉, 제1의 방법은 사진재료의 미시적(현미경적) 표면거칠음이 간섭무늬의 형성을 막는데 중요한 역할을 한다는데 있다, 1mm2당 200,000 융기를 지닌 현미경적 표면거칠음에 의해 간섭무늬 형성에 있어 뚜렷한 감소가 일어나며, 1mm2당 250,000 융기를 지닌 필름의 이면상에 대한 표면거칠음에 의해 간섭무늬의 완전한 제거가 일어날 수 있으며, 또한 상부표면상에 대한 1mm2당 250,000이상(바람직하게는 450,000이상)의 융기를 지닌 표면 거칠음에 의해서 간섭무늬가 완전히 소멸된다.That is, the first method is that the microscopic (microscopic) surface roughness of the photographic material plays an important role in preventing the formation of the interference fringe. In the formation of the interference fringe by the microscopic surface roughness with 200,000 ridges per 1 mm 2 , Significant reduction occurs and complete removal of the interference fringe can occur by surface roughness on the backside of the film with 250,000 ridges per mm 2 , and also over 250,000 per 1 mm 2 (preferably over 450,000) on the top surface The interference fringe is completely eliminated by the surface roughness with

간섭무늬의 형성을 막는 제2의 방법은 노출광원의 파장범위에서 빛을 흡광하는 염료를 함유한 이면 또는 내부층을 제공함으로써 이루어진다. 상기층이 본 발명의 간섭무늬 억제층으로서 단독으로 사용될때 그 층은 적어도 0.75의 광 밀도를 지닌 투광피이크를 보여주며, 상기 층이 다른 간섭무늬의 수단과 함께 조합되어 사용될때 적어도 0.3의 광밀도를 보여줌으로써 간섭무늬의 현저한 감소가 일어날 수 있다.A second method of preventing the formation of interference fringes is achieved by providing a back or inner layer containing a dye that absorbs light in the wavelength range of an exposed light source. When the layer is used alone as the interference fringe inhibiting layer of the present invention, the layer shows a light peak having a light density of at least 0.75, and the layer has a light density of at least 0.3 when used in combination with other means of interference fringe. By showing, a significant reduction of the interference fringe can occur.

간섭무늬의 형성을 막는 제3의 방법은 젤라틴에 비감광성 할로겐화은 입자와 같이 결합제의 반사율보다 0.3 더 큰 높은 반사율을 지닌 입자를 함유한 결합제로 구성된 이면층 또는 보호막층을 사용하는 것이다.A third method of preventing the formation of interference fringes is to use a backing layer or protective layer composed of a binder in gelatin containing a binder having a high reflectance greater than 0.3, such as non-photosensitive silver halide particles.

할로겐화은 입자를 사용함으로써 할로겐화물을 사진재료의 현상동안에 제거할 수 있다는 잇점을 준다. 높은 반사율의 층은 결합체의 용매를 사용함으로써 노출 후 제거될 수 있다.The use of silver halide particles gives the advantage that halides can be removed during the development of the photographic material. The high reflectivity layer can be removed after exposure by using the solvent of the binder.

비-접촉 간섭무늬의 형성을 거의 완전히 억제할 수 있는 근적외선 감광 사진재료는 몇가지 구조체로 이루어져 있다는 것을 알게 되었다. 예를 들면 비-접촉 간섭무늬는 하기의 구조체중에 하나 또는 이 이상의 방법을 결합한 사진재료에서 방지된다. 즉 그 구조체는:It has been found that the near-infrared photosensitive material, which can almost completely suppress the formation of non-contact interference fringes, consists of several structures. Non-contact interference fringes, for example, are prevented in photographic materials incorporating one or more of the following structures. That is, the structure is:

(1) 2마이크론이하(일반적으로 0.1-2마이크론, 바람직하게는 0.2-2마이크론)의 평균 입자크기를 갖는 표면 거칠음제를 함유한 결합체로 구성된, 감광에멀젼으로부터 떨어진 위치에 있는 필름기재면상의 이면층으로서, 이 외부이면층은 각 입자직경의 30%만큼, 또는 0.2 마이크론이나 이하만큼 표면평균 준위이상으로 돌출된 적어도 250,000입자를 상기 표면의 1mm2당 함유하여 외부표면이 현미경적으로 거칠다.(1) the back surface of the film substrate at a position away from the photosensitive emulsion, consisting of a binder containing a surface roughening agent having an average particle size of less than 2 microns (generally 0.1-2 microns, preferably 0.2-2 microns) As a layer, this outer back layer contains at least 250,000 particles protruding above the surface average level by 30% of each particle diameter, or by 0.2 micron or less, per 1 mm 2 of the surface, and the outer surface is microscopically rough.

(2) 1.5 마이크론이하(일반적으로 0.1-1.5 마이크론, 바람직하게는 0.2-1.5마이크론)의 평균 입자크기를 갖는 표면거칠음제를 함유하는 결합제로 구성된, 감광에멀젼과 같은 동일 필름기재면상의 보호막층으로서 각 보호막층은 각 입자직경의 적어도 30%만큼, 또는 0.2 마이크론이나 또는 그 이하만큼 표면의 평균주의 이상 돌출된 적어도 250,000(바람직하게는 450,000)입자를 상기 표면의 1mm2당 함유하여 상기 외부표면이 현미경적으로 거칠다.(2) A protective film layer on the same film base surface as a photosensitive emulsion, comprising a binder containing a surface roughening agent having an average particle size of 1.5 microns or less (generally 0.1-1.5 microns, preferably 0.2-1.5 microns) Each passivation layer contains at least 250,000 (preferably 450,000) particles per 1 mm 2 of the surface, protruding above the average attention of the surface by at least 30% of each particle diameter, or 0.2 micron or less, so that the outer surface Microscopically rough

(3) 750nm이상, 바람직하게는 750-1500nm의 파장 범위에서 빛을 흡광하는 할레이션장치(antihalation)염료를 함유하고 상기 범위내에서 적어도 0.75의 광밀도 투광피이크를 보여주는 이면 또는 내부층.(3) A back or inner layer containing an antihalation dye that absorbs light in a wavelength range of at least 750 nm, preferably 750-1500 nm and exhibiting a light density light peak of at least 0.75 within said range.

(4) 750nm이상, 바람직하게는 750-1500nm의 파장(4) a wavelength of 750 nm or more, preferably 750-1500 nm

범위의 빛에 대해 적어도 0.3 광밀도의 투광피이크를 보여주는 할레이션방지 염료를 함유하고, 2마이크론 이하(일반적으로 0.1-2 마이크론, 바람직하게는 0.2-2 마이크론)의 평균입자 크기를 갖는 표면 거칠음제를 함유한 최외부 이면층으로서, 상기층은 각 입자직경의 적어도 30%만큼, 또는 0.2 마이크론이나 그 이하만큼 표면의 평균주의 이상으로 돌출된 적어도 200,000 입자를 각 표면의 1mm2당 함유하여 외부표면이 현미경적으로 거칠고, 또한 상기층은 임의적으로 2개의 분리된 층, 즉 표면거칠음제를 함유한 최외부이면층과 할레이션 방지염료를 함유한 내부 이면층으로 분할 할 수 있다.A surface roughener containing an antihalation dye that shows a light peak of at least 0.3 light density for a range of light and has an average particle size of 2 microns or less (typically 0.1-2 microns, preferably 0.2-2 microns) The outermost backing layer containing at least 30% of each particle diameter, or 0.2 micron or less, containing at least 200,000 particles protruding beyond the average attention of the surface per 1 mm 2 of each surface of the outer surface. This microscopically rough, and further, layer can be optionally divided into two separate layers, the outermost backside layer containing the surface roughening agent and the inner backside layer containing the antihalation dye.

(5) 750nm이상, 바람직하게는 750-1500nm의 파장범위의 빛에 대해 적어도 0.3의 광밀도 투광피이크를 보여주는 이면층과, 2마이크론 이하(일반적으로 0.1-2 마이크론, 바람직하게는 0.2-2 마이크론)의 평균입자 크기를 갖는 표면 거칠음제를 함유한 보호막층이 조합된 층으로서, 상기 층은 각 입자직경의 적어도 30%만큼, 또는 0.2 마이크론이나 그 이하만큼 표면의 평균준위이상 돌출된 적어도 200,000 입자를 각 표면의 1mm2당 함유하여 외부표면이 현미경적으로 거칠다.(5) a backing layer exhibiting a light density peak of at least 0.3 for light in the wavelength range of 750 nm or greater, preferably 750-1500 nm, and 2 microns or less (typically 0.1-2 microns, preferably 0.2-2 microns) A layer comprising a protective film layer containing a surface roughening agent having an average particle size of), wherein the layer comprises at least 200,000 particles protruding above the average level of the surface by at least 30% of each particle diameter, or by 0.2 micron or less. Is contained per 1 mm 2 of each surface, and the outer surface is microscopically rough.

(3) 750nm이상, 바람직하게는 750-1500nm의 파장 범위에서 빛을 흡광하는 할레이션장치(antihalation)염료를 함유하고 상기 범위내에서 적어도 0.75의 광밀도 투광피이크를 보여주는 이면 또는 내부층.(3) A back or inner layer containing an antihalation dye that absorbs light in a wavelength range of at least 750 nm, preferably 750-1500 nm and exhibiting a light density light peak of at least 0.75 within said range.

(4) 750nm이상, 바람직하게는 750-1500nm의 파장(4) a wavelength of 750 nm or more, preferably 750-1500 nm

범위의 빛에 대해 적어도 0.3 광밀도의 투광피이크를 보여주는 할레이션방지 염료를 함유하고, 2마이크론 이하(일반적으로 0.1-2 마이크론, 바람직하게는 0.2-2 마이크론)의 평균입자 크기를 갖는 표면 거칠음제를 함유한 최외부 이면층으로서, 상기층은 각 입자직경의 적어도 30%만큼, 또는 0.2 마이크론이나 그 이하만큼 표면의 평균주위 이상으로 돌출된 적어도 200,000입자를 각 표면의 1mm2당 함유하여 외부표면이 현미경적으로 거칠고, 또한 상기층은 임의적으로 2개의 분리된 층, 즉 표면거칠음제를 함유한 최외부이면층과 할레이션 방지염료를 함유한 내부 이면층으로 분할 할 수 있다.A surface roughener containing an antihalation dye that shows a light peak of at least 0.3 light density for a range of light and has an average particle size of 2 microns or less (typically 0.1-2 microns, preferably 0.2-2 microns) The outermost backing layer containing the outer surface comprising at least 30% of each particle diameter, or at least 200,000 particles protruding above the average perimeter of the surface by 0.2 micron or less per 1 mm 2 of each surface of the outer surface. This microscopically rough, and further, layer can be optionally divided into two separate layers, the outermost backside layer containing the surface roughening agent and the inner backside layer containing the antihalation dye.

(5) 750nm이상, 바람직하게는 750-1500nm 파장범위의 빛에 대해 적어도 0.3의 광밀도 투광피이크를 보여주는 이면층과, 2마이크론 이하 (일반적으로 0.1-2 마이크론, 바람직하게는 0.2-2 마이크론)의 평균입자 크기를 갖는 표면거칠음제를 함유한 보호막층이 조합된 층으로서, 상기 층은 각 입자직경의 적어도 30%만큼, 또는 0.2 마이크론이나 그 이하만큼 표면의 평균준위이상 돌출된 적어도 200,000입자를 각 표면의 1mm2당 함유하여 외부표면이 현미경적으로 거칠다.(5) a backing layer exhibiting a light density peak of at least 0.3 for light in the wavelength range of 750 nm or greater, preferably 750-1500 nm, and 2 microns or less (typically 0.1-2 microns, preferably 0.2-2 microns) A layer comprising a protective film layer containing a surface roughness agent having an average particle size of at least 300,000 particles protruding above the average level of the surface by at least 30%, or 0.2 micron or less, of each particle diameter. Containing 1mm 2 of each surface, the outer surface is microscopically rough.

(6) 750nm이상, 바람직하게는 750-1500nm 파장범위 빛에 대해 적어도 0.3의 광밀도 투광피이크를 보여주며 감광층과 기재층 사이에 위치한 할레이션 방지층과, 2마이크론 이하 (일반적으로 0.1-2 마이크론, 바람직하게는 0.2-2 마이크론)의 평균입자 크기의 표면거칠음제를 함유한 최외부이면층 또는 보호막층이 조합된 조합층으로서, 상기 층은 각 입자직경의 적어도 30%만큼, 또는 0.2 마이크론이나 그 이하만큼 표면의 평균준위이상 돌출된 적어도 200,000입자를 표면의 1mm2당 함유하여 현미경적으로 외부표면이 거칠다.(6) an anti-halation layer positioned between the photosensitive layer and the substrate layer, with a light density light peak of at least 0.3 for light of wavelengths greater than 750 nm, preferably 750-1500 nm, and less than 2 microns (typically 0.1-2 micron , Preferably a combination layer of the outermost backing layer or protective layer containing a surface roughening agent of an average particle size of 0.2-2 microns), the layer being at least 30% of each particle diameter, or 0.2 microns The outer surface is roughly microscopically containing at least 200,000 particles per 1 mm 2 of the surface protruding above the average level of the surface.

(7) 2마이크론이하(일반적으로 0.1-2 마이크론, 바람직하게는 0.2-2 마이크론)의 평균입자 크기를 갖는 표면 거칠음제가 함유되고 각 입자직경의 적어도 30%만큼, 또는 0.2 마이크론이나 그 이하만큼 표면의 평균준위 이상으로 돌출된 적어도 200,000 입자를 표면의 1mm2당 함유하여 외부표면이 현미경적으로 거칠은 외부이면층과 750nm이상, 바람직하게는 750-1500nm의 파장범위의 빛에 대해 적어도 0.3의 광밀도 투광피이크를 보여주는 할레이션 방지염료를 함유한 지지체 및 이면층 사이에 위치한 층과 결합된, 2마이크론 이하(일반적으로 0.1-2 마이크론, 바람직하게는 0.2-2 마이크론)의 평균크기의 입자를 지닌 표면 거칠음제가 함유되고, 각 입자의 직경의 적어도 30%만큼 또는 0.2 마이크론이나 그 이하만큼 표면의 평균준위이상으로 돌출된 적어도 200,000입자를 표면의 1mm2당 함유하여 외부층이 현미경적으로 거칠은 보호막층.(7) contains a surface roughening agent having an average particle size of 2 microns or less (typically 0.1-2 microns, preferably 0.2-2 microns) and surface by at least 30%, or 0.2 microns or less, of each particle diameter At least 0.3 light for a layer of at least 750 nm, preferably at least 750 nm, preferably 750-1500 nm, with at least 200,000 particles per 1 mm 2 of the surface protruding above the average level of the outer surface with a microscopically rough outer surface With particles of average size less than 2 microns (typically 0.1-2 microns, preferably 0.2-2 microns) combined with a layer located between the backing layer and the backing containing the antihalation dye, showing a density flood peak At least 200,000 particles containing a surface roughener and protruding above the average level of the surface by at least 30% or 0.2 micron or less in diameter of each particle are listed. 1mm 2 of the outer layer is subjected to microscopic containing per overcoat layer.

(8) 비감광성 할로겐화 입자와 같은 결합제보다 반사율이 더 큰 입자(5마이크론 이하, 바람직하게는 0.2-3 마이크론의 평균 입자크기를 지님)을 함유한 결합제로 구성된 이면층 또는 보호막 층으로서, 상기 층은 사진현상동안 제거될 수 있다.(8) a backing layer or protective layer composed of a binder containing particles having a higher reflectance (less than 5 microns, preferably with an average particle size of 0.2-3 microns) than a binder such as non-photosensitive halogenated particles, the layer Can be removed during photo development.

사진재료의 현미경적 거칠음은 주사레이저로 상을 형성할때 비-접촉무늬를 형성하도록 재료의 성질에 영향을 준다는 것을 알게되었다. 특히, 방사선이 상기 재료의 다른면으로부터 발생된다는 것을 가정할때, 상기 표면의 평균준위 이상으로 1mm2당 적어도 250,000 융기를 지닌 현미경적 거칠음을 제공하는 외부이면층의 존재에 의해 무늬의 형성을 막을 수 있다는 것을 알게 되었다. 유사하게, 상기 재료가 층과 동일면으로부터 방사된다고 가정할때 1mm2당 적어도 250,000(바람직하게는 450,000)의 융기가 제공되어 현미경적으로 표면이 거칠은 보호막층의 제공에 의해 무늬의 형성이 억제된다. 이러한 현미경적 표면의 거칠음은 매팅제의 층을 결합한 종래의 사진재료에서 발견되었던 것과는 다르다. 즉, 일반적으로 종래의 매팅층은 본 발명에서 필요로하는 융기에 비해 1/2 정도로 존재하며, 때로는 본 발명에 사용되는 융기수의 1/10 정도로 존재한다.It has been found that the microscopic roughness of the photographic material affects the properties of the material to form a non-contact pattern when forming the image with the scanning laser. In particular, assuming that radiation originates from the other side of the material, the formation of fringes is prevented by the presence of an outer backing layer that provides microscopic roughness with at least 250,000 ridges per mm 2 above the average level of the surface. I learned that you can. Similarly, assuming that the material is radiated from the same plane as the layer, at least 250,000 (preferably 450,000) ridges per mm 2 are provided so that formation of a pattern is suppressed by providing a protective film layer having a microscopic surface. . This microscopic surface roughness differs from that found in conventional photographic materials incorporating layers of matting agent. That is, in general, the conventional matting layer is present at about 1/2 of the elevation required by the present invention, and sometimes at about 1/10 of the number of elevations used in the present invention.

750-1500nm 범위에서 적어도 0.75의 광밀도 투광피이크를 보여주는 할레이션 방지염료를 결합한 이면층 또는 내부층을 사용함으로써 또한 무늬의 형성을 억제할 수 있다.By using a backing layer or inner layer incorporating an anti-halation dye that exhibits a light density light peak of at least 0.75 in the 750-1500 nm range, the formation of a pattern can also be suppressed.

표면이 거칠은 층과 할레이션방지 층을 조합한 층은, 층들의 조합으로 인해 효과가 부가적으로 되므로 무늬 형성의 감소를 위한 수단으로서 상기 층을 사용할때 필요한 표면거칠음 및 광밀도에 대한 파라미터에 비해 각각의 층에 대한 표면거칠음 및 광밀도의 파라미터가 감소되었을 경우에 상술된 바와 같이 사용할 수 있다. 또한 무늬형성 억제층과 조합하여 사용된 외부층에 대한 적합한 현미경적 표면 거칠음은 1mm2당 200,0 00 융기라는 것을 알게 되었다. 또한 표면거칠음층과 조합되어 사용된 할레이션 방지층에서의 필요한 광밀도는 적어도 0.3이다.The combination of the rough surface layer and the anti-halation layer has an additional effect on the surface roughness and light density required when using the layer as a means for reducing the pattern formation since the combination of the layers adds an effect. It can be used as described above when the parameters of surface roughness and light density for each layer are reduced. It has also been found that a suitable microscopic surface roughness for the outer layer used in combination with the antipatterning layer is 200,0 00 ridges per mm 2 . In addition, the required light density in the anti-halation layer used in combination with the surface roughness layer is at least 0.3.

상술한 바의 입자를 함유한 표면층은 감광에멀젼면의 보호막에서 보다는 재료의 이면표면이나 두 외부표면에 사용되는 것이 바람직한데, 이것은 에멀젼으로부터 노출이 일어난다고 가정할때 에멀젼면 상의 보호막에서 보다 표면이 거칠은 이면에 의해서 비-접촉 레이저 주사무늬의 억제가 훨씬 우수하기 때문이다.The surface layer containing the particles described above is preferably used on the back surface of the material or on the two outer surfaces of the material rather than on the protective film of the photosensitive emulsion surface, which assumes that the exposure from the emulsion occurs rather than the protective film on the emulsion surface. This is because the suppression of the non-contact laser scan pattern is much better due to the rough back side.

상기층에서 사용되는 유리한 표면거칠음제는 미합중국 특허 명세서 제2,992,1 01호에 명시된 바와 같이 유기중합체(특히 폴리메틸 메타아크릴레이트) 입자 또는 현상액에 용해되는 중합체(예 : 메타아크릴산-메타아크릴에스테르 공중합체) 입자이다.Advantageous surface roughness agents used in this layer are polymers (eg, methacrylic acid-methacrylic esters) dissolved in organic polymer (particularly polymethyl methacrylate) particles or developer as described in US Pat. No. 2,992,1 01. Coalescence) particles.

상술된 바의 매팅특성을 부여하는데 필요한 하중과 입자크기범위에서 사용되는 기타 적합한 유기중합체는 영국 특허 명세서 제2,078,992호 및 제2,033,596호와 미합중국 특허 명세서 제4,287,299호 및 제3,079,257호에 기술된 바와 같이 폴리비닐화합물 또는 비닐 화합물 공중합체이다. 기타 적합한 물질은 미합중국 특허 명세서 제4,235,959호, 제3,920,456호, 제3,591,379호 및 제3,222,037호에 기술된 바와 같은 중합체와 실리카의 합성물 또는 실리카, 영국 특허 명세서 제2,077,935호에 기술된 바와 같은 경젤라틴, 수용성 무기염, 전분, 덱스트란 및 이러한 중합체의 혼합물이다.Other suitable organic polymers used in the loads and particle size ranges necessary to impart the matting properties as described above are described in poly 2,078,992 and 2,033,596 and US Pat. Nos. 4,287,299 and 3,079,257. Vinyl compound or vinyl compound copolymer. Other suitable materials include composites of silica and polymers as described in US Pat. Nos. 4,235,959, 3,920,456, 3,591,379 and 3,222,037, or silica, light gelatin, water soluble as described in British Patent No. 2,077,935. Inorganic salts, starches, dextran and mixtures of these polymers.

당분야에 공지된 매팅제는 0.1 마이크론 또는 이 이하의 직경 크기를 갖는 매우 작은 실리카 입자로 구성된다. 수용성 젤라틴과 같은 피복결합제에서 분산될때, 작은 입자들은 1마이크론 또는 이 이하의 직경의 크기를 갖는 단단하게 결합된 교착물을 형성하는데, 이러한 교착물은 마치 단일입자처럼 행동한다. 본 발명의 목적에 필요한 매팅특성은 필요한 크기의 범위내에 있는 단일입자들을 사용하거나 혹은 필요한 크기범위내에 전부 존재하는 교착물을 사용함으로써 얻을 수 있다.Matting agents known in the art consist of very small silica particles having a diameter size of 0.1 micron or less. When dispersed in a coating binder, such as a water soluble gelatin, small particles form tightly bound deadlocks having diameters of 1 micron or less, which behave like single particles. The matting properties required for the purposes of the present invention can be obtained by using single particles in the range of the required size or by using a deadlock present entirely within the required size range.

높은 반사율을 갖는 적합한 물질은 균일한 크기로 용이하게 제조될 수 있거나 사진고착제에 의해 용이하게 제거될 수 있는 비감광성 할로겐화은 결정체이다. 할로겐화은의 반사율은 일반적으로 2.0-2.2이다. 기타 높은 반사율을 갖는 적합한 물질은 산화아연 및 탄산칼슘이다.Suitable materials with high reflectivity are non-photosensitive silver halide crystals that can be easily produced in uniform size or can be easily removed by photofixing agents. The reflectance of silver halides is generally 2.0-2.2. Other suitable materials with high reflectance are zinc oxide and calcium carbonate.

젤라틴은 모든층에 대한 적합한 결합체로서, 약 1.5의 반사율을 갖는다.Gelatin is a suitable binder for all layers and has a reflectance of about 1.5.

작은입자 또는 기타입자, 특히 평균직경이 1마이크론 또는 이 이하인 입자가 피복시 결합제의 층 표면을 매팅하기 위해 사용될때, 돌출하는 입자의 수와 평균표면 준위이상으로 돌출한 융기의 높이는 층에 함유된 입자의 중량과 사용된 피복조건 및 건조조건에 따라 다르다. 입자의 돌출정도가 본 발명에서 필요로하는 정도가 되도록 피복 및 건조조건을 선택하는 것이 중요하며, 이러한 파라미터는 당분야의 당업자에게 공지된 것이다. 적합한 제형과 함께 사용될때 만족할만한 표면거칠음을 제공하는 한가지 방법은 겔이 경화되도록 30%의 상대습도를 지닌 13℃의 냉각대역으로 피복직후의 습윤재료를 통과시키고, 30%의 상대습도와 30℃에서 건조시키는 것이다. 즉, 얇은 박층을 30초-1분동안 건조시키는 것이다.When small particles or other particles, especially particles with an average diameter of 1 micron or less, are used to matte the layer surface of the binder upon coating, the number of protruding particles and the height of the protrusions protruding above the average surface level are contained in the layer. It depends on the weight of the particles and the coating and drying conditions used. It is important to select the coating and drying conditions such that the degree of protrusion of the particles is as required by the present invention, and these parameters are known to those skilled in the art. One method of providing a satisfactory surface roughness when used with a suitable formulation is to pass the wet material immediately after coating into a 13 ° C. cooling zone with 30% relative humidity to allow the gel to cure, 30% relative humidity and 30 ° C. It is to dry in. That is, the thin thin layer is dried for 30 seconds-1 minutes.

본 발명을 따라 표면을 거칠게 하기 위해 도입된 상술된바의 매팅입자의 첨가와 더불어, 접착성 및 내마멸성과 같은 기계적 성질을 향상시키기 위해 평균직경이 5마이크론 또는 이 이상인 입자를 지닌 다른 매팅제, 소량(0.1g/m2이하)의 더 큰 중합체 또는 실리카등을 사진재료에 함유시킬 수 있다.In addition to the addition of matting particles as described above introduced to roughen the surface in accordance with the invention, other matting agents with particles of average diameter of 5 microns or more, in order to improve mechanical properties such as adhesion and abrasion resistance, Larger polymers (0.1 g / m 2 or less) or silica may be incorporated into the photographic material.

본 발명의 사진재료에 사용되는 할로겐화은 에멀젼은 브롬화은, 염화은, 실버클로로브로마이드, 실버브로모이오다이드 또는 실버 클로로브로모이오다이드로 구성되며, Reserch Disclosure 17643(1978년 12월), 제 II부 및 III부에 기술된 바의 공지된 방법들에 의해 제조될 수 있다. 에멀젼은 0.4 마이크론이하(일반적으로 0.05-0.4 마이크론) 크기의 입자를 가지고 있다.The silver halide emulsion used in the photographic material of the present invention is composed of silver bromide, silver chloride, silver chlorobromide, silver bromoidide or silver chlorobromoidide, Reserch Disclosure 17643 (December 1978), Part II and III. It may be prepared by known methods as described in. Emulsions have particles less than 0.4 microns (typically 0.05-0.4 microns).

상기 에멀젼은 유럽 특허출원 공보 제0,088,595호 명시된 염료를 사용하거나 Mees 및 James에 의한 "The Theroy of the Photographic Process", 제3판, pp 198-199에 기재된 바와 같이, 750-1500nm(바람직하게는 750-8900nm) 파장의 방사선에 민감하도록 당분야에서 공지된 기타 스펙트럼 민감화 염료를 사용하는 근적외선에 감광된다.The emulsion may be prepared using the dyes specified in European Patent Application Publication No. 0,088,595 or as described in The Theroy of the Photographic Process, 3rd edition, pp 198-199 by Mees and James, preferably 750-1500 nm (preferably 750 -8900 nm) is exposed to near infrared light using other spectral sensitizing dyes known in the art to be sensitive to radiation at wavelength.

본 발명의 사진재료에 존재하는 할로겐화은 에멀젼은 포그(fog) 생성에 대해 보호작용이 있으며 처리동안 감광성의 손실에 대해 안전하다. 적합한 항포그제 및 안정제는 Research Diseclosure 17643(1978년 12월), 제VI부에 기술되어있다.The silver halide emulsion present in the photographic material of the present invention is protective against fog formation and safe against loss of photosensitivity during processing. Suitable antifog agents and stabilizers are described in Research Diseclosure 17643 (December 1978), Part VI.

본 발명의 사진재료에 존재하는 할로겐화는 에멀젼은 Research Disclosure 17643(1978년 12월), 제V부에 명시된 바와 같이 광택제를 사용할 수 있다.The halogenated silver emulsion present in the photographic material of the present invention may use a brightening agent as specified in Research Disclosure 17643 (December 1978), Part V.

본 발명에 사용된 감광화 할로겐화은 에멀젼은 Research Disclolsure(1978년 12월), 제 XXI부 등에 명시된 바와 같은 속도증가 화합물을 함유할 수 있다.The photosensitive silver halide emulsion used in the present invention may contain a rate increasing compound as specified in Research Disclolsure (December 1978), Part XXI, and the like.

사진재료층들은 Research Disclosure(1978년 12월), 제IX부에 기술된 바의 부형제 또는 결합제로서 여러클로이드 물질을 함유할 수 있다. 이러한 콜로이드물질은 Research Disclosure 17643(1978년 12월), 제X부에 기술된 바와 같이 여러 무기 및 유기경화제에 의해 경화될 수 있다.The photographic material layers may contain multiple cloroid materials as excipients or binders as described in Research Disclosure (December 1978), Part IX. Such colloidal materials can be cured by various inorganic and organic curing agents, as described in Research Disclosure 17643 (December 1978), Part X.

본 발명의 사진재료는 Research Disclosure(1978년 12월) 제XI, XII 및 XIII부에 기술된 바와 같이 대전방지제, 전도층, 가소제 및 윤활제, 계면활성제를 함유할 수 있다.The photographic material of the present invention may contain an antistatic agent, a conductive layer, a plasticizer and a lubricant, and a surfactant as described in the Research Disclosure (December 1978) sections XI, XII and XIII.

본 발명에 사용된 사진에멀젼은 Research Disclosure 17643(1978년 12월), 제 XVIII부에 기술된 바와 같이 여러 투명한 지지체상에 피복될 수 있다.The photoemulsions used in the present invention may be coated on several transparent supports as described in Research Disclosure 17643 (December 1978), XVIII.

감광염료와 기타 에멀젼 첨가물은 Research Disclosure(1978년 12월), 제X VL에 기술된 바와 같이 당분야의 여러공지된 방법에 의해 사진재료층속으로 결합될 수 있다. 상기와 유사하게, 사진재료는 여러방법에 의해 사진지지체상에 피복될 수 있다. 지지체와 피복방법은 research disclosure 17643(1978년 12월), 제XV부 및 XVII부에 기술되어있다.Photosensitizers and other emulsion additives may be incorporated into the photographic material layer by several known methods in the art, as described in Research Disclosure (December 1978), XVL. Similar to the above, the photographic material may be coated on the photographic support by a number of methods. Supports and coating methods are described in research disclosure 17643 (December 1978), sections XV and XVII.

본 발명에 사용되는 감광화 할로겐화은 에멀젼은 Research Disclosure(1978년 12월), 제XIX부에 기술된 바에 따라 노출 후 현상제의 존재하에서 할로겐화은과 수용성 알칼리매체와의 결합에 의해 가시성은 또는 염색상을 형성한다.The photosensitive silver halide emulsions used in the present invention are characterized by the combination of silver halides and water-soluble alkaline media in the presence of a developer after exposure as described in Research Disclosure (December 1978), XIX. Form.

본 발명은 0.4마이크론 이하의 직경크기를 갖는 할로겐화은 입자를 함유한 재료에 대해 상세히 기술하고 있으며, 무늬형성 억제방법은 낮은 혼탁도 때문에 주사무늬의 형성을 제한할 수 있는 기타 감광성 할로겐화은 함유한 재료에도 동일하게 적용할 수 있다. 특히, 본 발명의 직경의 크기가 0.4마이크론을 초과하지만 높은 종횡비(aspect ratio)를 지닌 얇은 입자를 함유한 재료, 특히 재료중의 할로겐화은 입자의 분율은 낮고 나머지는 미세입자로 구성된 재료에 적용된다.The present invention describes in detail a material containing silver halide particles having a diameter of 0.4 microns or less, and the method of inhibiting pattern formation is the same for other photosensitive silver halide-containing materials that can limit the formation of scan patterns due to low turbidity. Can be applied. In particular, the present invention is applied to materials containing thin particles having a high aspect ratio but larger than 0.4 microns in diameter, in particular low proportions of silver halide particles in the material and the remainder consisting of fine particles.

본 발명의 사진재료는 Research Disclosure(1978년 12월), 제XXII, XXIII, XXIV, XXV, XXVI 및 XXVII부에 기술된 바와 같이 물리적현상 시스템, 상전달시스템, 무수현상시스템, 확산전달시스템, 프린팅 및 석판인쇄, 프린트-아웃(Print-out) 및 디렉트-프린트(direct-print) 시스템에 사용될 수 있다.The photographic material of the present invention is a physical development system, phase transfer system, anhydrous development system, diffusion transfer system, printing as described in Research Disclosure (December 1978), XXII, XXIII, XXIV, XXV, XXVI and XXVII. And lithography, print-out and direct-print systems.

하기 실시예에 있어서, 샘플의 평가는 하기방법에 따른다 : 비 접촉 레이저 다이오드 주사에 의한 샘플의 평가와 무늬측정In the following examples, the evaluation of the samples is in accordance with the following methods: Evaluation of the sample and pattern measurement by non-contact laser diode scanning.

815nm에서 방출하는 히타치 HLP 1400레이저 다이오드로부터의 방사선을 샘플의 표면상의 50마이크론의 직경을 갖는 원점에 집속시키는 주사시스템에서 균일하게 노출시켜 샘플을 평가한다. 집속된 원점은 적외선의 경로에 진동 검류계 거울에 의해 샘플상에 200라인/cm의 서까래 패턴으로 주사되었다. 현상 후 샘플상에 최소밀도로부터 최대밀도까지 산출되도록 차례로 노출세기를 증가시킨다. 다음 샘플을 Eastman Kodak RP X-Omat 현상액을 사용한 자동로울러 현상기 3M형 XP 507를 사용하여 현상시킨다. 무늬패턴에 대한 조사를 눈으로 행하고 하기와 같은 랭크번호를 사용하여 평가한다:Samples are evaluated by uniform exposure in a scanning system that focuses radiation from a Hitachi HLP 1400 laser diode emitting at 815 nm to an origin with a diameter of 50 microns on the surface of the sample. The focused origin was scanned in a rafter pattern of 200 lines / cm on the sample by vibrating galvanometer mirror in the path of infrared. After development, the exposure intensity is sequentially increased so as to be calculated from the minimum density to the maximum density on the sample. The following samples are developed using a developer 3M type XP 507, automatically with Eastman Kodak RP X-Omat developer. Visually examine the pattern and evaluate it using the following rank numbers:

1. 무늬없음1.No pattern

2. 거의 검지할 수 없을 정도의 무늬2. A pattern almost undetectable

3. 매우 희미하여 매우 정밀히 조사하여야만 무늬보임3. It is very faint, so pattern must be examined very closely.

4. 확산패턴4. Diffusion Pattern

5. 희미하지만 뚜렷한 경계가 있는 무늬5. Faint but distinct borders

6. 쉽게 관측 가능한 무늬6. Easily Observable Pattern

7. 매우 뚜렷한 무늬패턴7. Very distinct pattern

작은 슬릿구멍(2.0×0.25mm)을 사용한 Joyce-Loebl MDM6 측미농도계(mi crodensitomer)로 측정하여 무늬패턴을 정량적으로 측정한다. 밝은 무늬와 어두운 무늬 사이에서 측정된 최대투과광 밀도차이(O.D)를 실시예에서 볼 수 있다. O.D는 1.0과 2.0 사이의 평균광밀도로 주사된 영역에서 측정되는데 상기 영역에서의 에멀젼의 대조비는 2.5 내지 3.5이다.The pattern is measured quantitatively by measuring with a Joyce-Loebl MDM6 mi crodensitomer using a small slit hole (2.0 × 0.25 mm). The maximum transmitted light density difference (O.D) measured between the light and dark fringes can be seen in the examples. O.D is measured in the region scanned with an average light density between 1.0 and 2.0 with an contrast ratio of emulsion in the region of 2.5 to 3.5.

본 실시예에서 샘플의 표면반사율의 측정은 하기방법에 따라 행한다:The measurement of the surface reflectance of the sample in this example is performed according to the following method:

매트된 검은표면의 직접표면 반사율 측정Direct surface reflectance measurement of matted black surfaces

실험하기전에 감광선 에멀젼층의 물리적 제거에 의해 그리고 감광성 에멀젼층의 위치에서 비반사층을 흡광하는 IR를 사용하여 샘플을 제조한다. 공지된 에너지의 시준선으로 수직면에 대해 10°각도로 815nm에서 방출되는 레이저 다이오드로부터 5nm 직경을 두고 샘플의 비처리된 면에 조사한다. 방사 검출기를 사용하여 입사선(Optronic s형 730A)에 대해 20°각도에서 반사에너지를 모니터한다. 이 검출기를 실험표면으로부터 30cm 간격을 두고 위치시켜 직경이 1cm인 원형구멍을 통해 빛을 도입시킨다.Samples are prepared by physical removal of the photosensitive emulsion layer and by IR absorbing the antireflective layer at the location of the photosensitive emulsion layer prior to the experiment. The untreated side of the sample is irradiated with a 5 nm diameter from a laser diode emitted at 815 nm at a 10 ° angle to the vertical plane with a known collimation line of energy. A radiation detector is used to monitor the reflected energy at an angle of 20 ° to the incident line (Optronic s type 730A). The detector is placed at a distance of 30 cm from the test surface to introduce light through a circular hole of 1 cm in diameter.

상기와 동일한 검출기를 사용하여 입사에너지와 반사에너지를 측정하면 반사율의 백분율을 간단하게 계산할 수 있다. 여분의 에너지가 측정되지 않도록 하기 위해 레이저 다이오드/샘플필름/검출기형태를 주의깊게 선택해야 한다.By measuring the incident energy and the reflected energy using the same detector as described above, it is possible to simply calculate the percentage of reflectance. Careful selection of the laser diode / sample film / detector type should be taken to ensure that no extra energy is measured.

본 실시예에서 샘플의 매팅된 표면의 조사는 하기 방법에 따라 행한다:In this example the irradiation of the mated surface of the sample is done according to the following method:

매트된 표면의 주자전자 현미경조사(S. E. M)Runner electron microscopy of matted surfaces (S. E. M)

샘플필름(약 1cm2)을 조사대상이 되는 표면을 최상부 위치시켜 핀으로 결합시킨다. 황금색피복물을 International Scientific Instruments Inc. (ISI) PS-2 피복단위를 사용하여 1.2kV 및 10mA에서 2분동안 약 25nm 두께로 칠한다. 샘플을 10kV에서 작동하는 ISI Super IIIA 주사 전자현미경을 사용하여 관찰한다.A sample film (about 1 cm 2 ) is placed on the top of the surface to be irradiated and bonded with a pin. Golden coatings were added to International Scientific Instruments Inc. (ISI) PS-2 coating unit is used to coat approximately 25 nm thick for 2 minutes at 1.2 kV and 10 mA. Samples are observed using an ISI Super IIIA scanning electron microscope operating at 10 kV.

상기 샘플의 각도는 +20°이다. 각 경우에 있어서, 내부검정기를 사용하여 500 0배의 배율로 사진을 찍는다. 10마이크론×10마이크론 범위를 표출하여 그릿내에서 입자를 계수한다. 입자의 평균표면 준위이상으로 직경의 적어도 30% 또는 0.2마이크론이나 그 이하만큼 돌출되는 경우 입자를 계수한다. 크고드문 입자들이 존재하는 샘플에서는 2000배율 또는 이 이하의 배율에서 사진을 찍고 좀더 광범위한 면적에 대해 계수한다.The angle of the sample is + 20 °. In each case, pictures are taken at 500 0x magnification using an internal calibrator. Count particles in the grit by expressing a range of 10 microns x 10 microns. Particles are counted if they protrude at least 30% or 0.2 microns or less in diameter above the average surface level of the particles. Samples with large and rare particles are taken at 2000 or less magnification and counted over a wider area.

각 조사대상 표면의 서로다른 두 부분에 대한 사진으로부터의 평균측정치를 기록한다.Record average measurements from photographs of two different parts of each irradiated surface.

[실시예 1]Example 1

NIR에 민감한 할로겐화은 에멀젼의 제조와 레이저 다이오드 주사실험에 대한 사진재료의 사용Preparation of NIR-sensitive silver halide emulsions and the use of photographic materials for laser diode scanning experiments

0.28마이크론의 평균입자크기와 좁은 분포 곡선을 지닌 입방 입자로 64몰%의 염화은과 36몰%의 브롬화은을 함유한 에멀젼을 유럽 특허 출원공고 제0,088,595호의 실시에 17B에 기술된 침전방법에 따라 이중젯트(double jet)에 의해 제조한다.Cubic particles with an average particle size of 0.28 microns and a narrow distribution curve are emulsions containing 64 mol% of silver chloride and 36 mol% of silver bromide according to the precipitation method described in 17B in the practice of European Patent Application Publication No. 0,088,595. (double jet).

0.23마이크론, 0.20마이크론, 0.16마이크론 및 0.13마이크론의 평균입자크기를 갖는 상기와 유사한 에멀젼을 계속적으로 더 낮은 침전온도를 사용하여 제조한다.Emulsions similar to the above having average particle sizes of 0.23 microns, 0.20 microns, 0.16 microns and 0.13 microns are prepared using lower precipitation temperatures continuously.

이러한 모든 에멀젼은 감광화 및 안정화된 황금색 및 황색이며, NIR 감광염료, 트리페닐포스핀초 감광제, 습윤제 및 경화제를 유럽 특허출원 공보 제0,088,595호의 실시에 18에서 기술된 바에따라 첨가한다. 2.7-3.0g/m2의 피복중량을 산출하도록 상기 에멀젼을 투명한 0.18mm의 내부 폴리에스테르 기재상에 각각 피복한다. 100mg의 슈퍼아미드 및 0.15ml의 Teepol 610습윤제와 4.5ml의 2% 포름알데히드 경화제(매팅제 또는 필터염료는 없다)를 함유한 5% 수용성 젤라틴 200ml를 동시에 칠하여 1.33g/ m2젤라틴의 상부층을 얻는다. 필름기재의 이면표면은 피복하지 않는다. 슈퍼아미드 L 9C는 Millmaster-Onyx UK에서 시판하는 고활성도의 라우르산-디에탄올아민 농축액이다. Teepol 610은 shell Chemicals UK Ltd에서 시판한는 제2급 알칼리 설페이트의 나트륨염이다.All these emulsions are photosensitized and stabilized golden and yellow, and NIR photosensitizers, triphenylphosphine seconds photosensitizers, wetting agents and curing agents are added as described in the practice of European Patent Application Publication No. 0,088,595 as described in 18. The emulsions are each coated on a transparent 0.18 mm internal polyester substrate to yield a coating weight of 2.7-3.0 g / m 2 . A top layer of 1.33 g / m 2 gelatin is obtained by simultaneously coating 200 ml of 5% water soluble gelatin with 100 mg superamide and 0.15 ml Teepol 610 wetting agent and 4.5 ml 2% formaldehyde curing agent (no mating agent or filter dye). . The back surface of the film substrate is not covered. Superamide L 9C is a high activity lauric acid-diethanolamine concentrate commercially available from Millmaster-Onyx UK. Teepol 610 is a sodium salt of secondary alkali sulphate marketed by shell Chemicals UK Ltd.

샘플들을 상술된 바에따라 평가하여 그 결과를 하기 표 1에 기술했다.The samples were evaluated as described above and the results are described in Table 1 below.

[표 1]TABLE 1

주사무늬에 대한 에멀젼 입자크기의 효과Effect of Emulsion Particle Size on Scanning Patterns

Figure kpo00001
Figure kpo00001

본 실시예는 할로겐화은의 입자크기가 감소함에 따라 주사무늬가 점점 심해진다는 것을 알 수 있다.In this embodiment, it can be seen that as the particle size of the silver halide decreases, the scan pattern becomes more severe.

[실시예 2]Example 2

PMMA입자를 함유하고 주사무늬에 대한 내성이 있는 이면층을 지닌 본 발명에 따른 사진재료Photographic material according to the invention with a backing layer containing PMMA particles and resistant to scanning patterns

상기 실시에 1의 슈퍼아미드 L9C 및 Teepol 610습윤제와 포름알데히드 경화제를 함유한 수용액으로부터 피복되고 젤라틴 결합제(1.3g/m2)에 0.5마이크론의 평균직경크기를 갖는 0.3g/m2의 폴리(메틸메타아크릴레이트)입자를 함유한 이면층이 구비된 0.18mm 폴리에스테르 기재를 사용하는 것을 제외하고는 상기 실시예 1에 따라 에멀젼을 제조하고, NIR로 감광시키고 피복시킨다. 필름기재상에 피복시킨 직후 습윤이면층을 13℃ 및 30℃의 상대습도를 지닌 냉각대역에 통과시켜 겔을 경화시키고 30℃ 및 30%의 상대습도에서 약 1분동안 건조시킨다. 샘플을 상술한 바에따라 레이저 다이오드 주사시스템에서 실험하여 그 결과를 하기표 2에 기술했다.0.3 g / m 2 poly (methyl) coated from an aqueous solution containing the superamide L9C and Teepol 610 wetting agent and formaldehyde curing agent of Example 1 and having an average diameter of 0.5 micron in the gelatin binder (1.3 g / m 2 ). The emulsion is prepared according to Example 1 above, except that a 0.18 mm polyester substrate with a backing layer containing methacrylate) particles is used, photosensitized and coated with NIR. If wet immediately after coating on the film substrate, the layer is passed through a cooling zone with a relative humidity of 13 ° C. and 30 ° C. to cure the gel and dry at about 30 ° C. and 30% relative humidity for about 1 minute. The samples were tested in a laser diode scanning system as described above and the results are shown in Table 2 below.

상기 실시예 1과 동일한 입자크기를 지닌 에멀젼에 대한 피복은 대조기준으로서 사용한다.The coating on the emulsion having the same particle size as in Example 1 was used as a reference.

[표 2]TABLE 2

0.5마이크론 PMMA 입자이면층에 대한 효과Effect on the backing layer of 0.5 micron PMMA particles

Figure kpo00002
Figure kpo00002

[실시예 3]Example 3

비-감광성 할로겐화은 입자를 함유한 이면층을 지닌 본 발명에 따른 사진재료Photographic material according to the invention with a backing layer containing non-photosensitive silver halide particles

젤라틴 결합제 (1.3g/m2)에 NIR 광에 감광되지 않은 할로겐화은 입자를 함유한 이면층이 구비된 0.18mm 폴리에스테르 기재를 사용하는 것을 제외하고는 상기 실시예 1의 방법에 따라 0.16마이크론의 클로로브로마이드 에멀젼으로 피복한다. 서로다른 입자크기와 이면입자의 하중에 따른 주사무늬의 효과가 하기 표 3에 기재되어 있다.0.16 micron chloro according to the method of Example 1 above, except that a gelatin binder (1.3 g / m 2 ) was used with a 0.18 mm polyester substrate equipped with a backing layer containing silver halide particles not exposed to NIR light. Cover with bromide emulsion. The effect of the scanning pattern on the different particle size and the load of the back surface particles is shown in Table 3 below.

[표 3]TABLE 3

비-감광성 할로겐화은 이면층Non-photosensitive silver halide backing layer

Figure kpo00003
Figure kpo00003

[실시예 4]Example 4

표면 거칠음제를 함유한 이면층을 지닌 시진재료Starting material with backing layer containing surface roughening agent

상기 실시예 1에서의 슈퍼아미드 L9C 또는 Teepol 610습윤제 및 포름알데히드 경화제를 함유한 수용성액으로부터 피복되어졌고, 젤라틴 결합제(1.3g/m2)에 알칼리용해성 메타아크릴산-에틸메타아크릴레이트입자(평균입자크기 0.5-2.0)를 함유한 이면을 지닌 0.18mm 폴리에스테르 기재상에 상기 실시예 1에 따라 0.16마이크론 클로로브로마이드 에멀젼을 피복한다.It was coated from an aqueous solution containing superamide L9C or Teepol 610 wetting agent and formaldehyde curing agent in Example 1, and alkali-soluble methacrylic acid-ethyl methacrylate particles (average particles) in gelatin binder (1.3 g / m 2 ). A 0.16 micron chlorobromide emulsion was coated according to Example 1 above on a 0.18 mm polyester substrate having a back side containing size 0.5-2.0).

다른 방법으로 중합체 입자를 5마이크론의 평균입자를 갖는 더 낮은 하중의 실리카 입자를 사용하여 동일한 샘플을 제조하기도 한다.Alternatively, the same sample may be prepared by using polymer particles with lower loading silica particles with an average particle size of 5 microns.

이러한 샘플을 이면이 없는 샘플과 비교하여 실험한 결과를 하기표 4에 기재했다.The results of experiments comparing these samples to those without backing are shown in Table 4 below.

[표 4]TABLE 4

Figure kpo00004
Figure kpo00004

입자피복 범위면에서 본 발명의 영역으로 벗어난 종래의 실리카 매팅은 무늬형성을 막지 못한다.Conventional silica matting outside the scope of the present invention in terms of particle coverage does not prevent fringe formation.

[실시예 5]Example 5

주사무늬에 대한 할레이션 방지제의 효과(0.16마이크론의 클로로브로마이드 에멀젼)Effect of anti-halation agent on scan pattern (0.16 micron chlorobromide emulsion)

820nm에서 0.40의 광밀도를 보여주며 750-900nm에서 강하게 흡광하는 할레이션 방지염료(유럽특허출원 공보 제0,101,646호의 염료)를 함유한 젤라틴(5g/m2)으로 구성된 이면층을 지닌 0.18mm 폴리에스테르기 재상에 0.16마이크론의 클로로브로마이드 에멀젼을 상기 실시예 1의 방법에 따라 피복한다. 이것을 레이저 다이오드 주사시스템에서 이면되지 않은 샘플과 비교하면서 실험한 결과가 하기표 5에 기술되어 있다.0.18 mm polyester with backing layer consisting of gelatin (5 g / m 2 ) containing an anti-halation dye (dye of European Patent Application Publication No. 0,101,646), which exhibits a light density of 0.40 at 820 nm and strongly absorbs at 750-900 nm. A 0.16 micron chlorobromide emulsion is coated on the substrate according to the method of Example 1 above. The results of experiments comparing this with samples not backed in a laser diode scanning system are described in Table 5 below.

[실시예 6]Example 6

요오도브로마이드 에멀젼의 사용Use of Iodobromide Emulsion

0.21마이크론 평균입자크기를 갖는 3%의 요오도브로마이드 현탁액을 유럽특허출원 공보 제0,088,595호의 실시예 17A의 방법에 따라 제조하고, 화학적으로 활성시키고, 안정화시키고, 스펙트럼적으로 감광시킨후 투명한 0.18mm의 폴리에스테르 기재상에 피복시킨다. 1.3g/m2젤라틴의 보호막을 한꺼번에 칠한다. 820nm에서 0.45, 0.8 및 1.2의 광밀도를 보여주며 750-900nm에서 강하게 흡광하는 염료(유럽특허출원 공보 제0,101,646호에서의 염료 29)를 함유한 3개의 연속젤라틴층(5g/m2)로 구성된 할레이션 방지이면 층을 지닌 0.18mm 폴리에스테르기재상에 상기와 같은 피복을 행한다. 이러한 피복체를 레이저 다이오드 주사시스템에서 실험한 결과를 하기표 5에 기술했다.A 3% iodobromide suspension with an average particle size of 0.21 microns was prepared according to the method of Example 17A of EP 0,088,595, chemically activated, stabilized and spectrally sensitized to give a transparent 0.18 mm It is coated on a polyester substrate. Apply a protective film of 1.3 g / m 2 gelatin at one time. Consisting of three continuous gelatin layers (5 g / m 2 ) containing dyes of 0.45, 0.8 and 1.2 at 820 nm and strongly absorbing dyes at 750-900 nm (dye 29 in EP 0,101,646). If it is anti-halation, the above coating is performed on a 0.18 mm polyester substrate having a layer. The results of experimenting with this coating in the laser diode scanning system are described in Table 5 below.

[표 5]TABLE 5

할레이션 방지층(AH)의 효과Effect of anti-halation layer (AH)

Figure kpo00005
Figure kpo00005

할레이션 방지층이 무늬의 형성을 막는데 분명히 도움을 주고 있다는 것을 알 수 있다.It can be seen that the anti-halation layer clearly helps to prevent the formation of patterns.

[실시예 7]Example 7

표면스펙트럼 반사율 및 표면거칠음과 주사무늬 형성과의 관계Surface Spectral Reflectance and Relationship between Surface Roughness and Scanning Pattern Formation

실시예 2에서와 같이 젤라틴 결합제(1.3g/m2)으로 피복 되었으며 0.5마이크론의 평균직경 크기의 일련농도의 PMMA 입자를 함유한 이면층 구비된 0.18마이크론 폴리에스테르 기재상에 상기 실시예 1의 방법에 따라 0.16 마이크론 클로로브로마이드 에멀젼을 피복시킨다. 이러한 샘플을 레이저 다이오드 주사시스템에서 실험한후 무늬 형성에 대한 효과를 하기표 6에 기술했다.The method of Example 1 above on a 0.18 micron polyester substrate with a backing layer coated with a gelatin binder (1.3 g / m 2 ) as in Example 2 and containing PMMA particles of serial concentration of 0.5 micron average diameter size Coat 0.16 micron chlorobromide emulsion accordingly. These samples were tested in a laser diode scanning system and the effects on pattern formation are described in Table 6 below.

[표 6]TABLE 6

표면반사율과 물리적 돌출입자에 의해 측정된 0.5마이크론 PMMA의 표면 매팅효과의 무늬형성 감소와의 관계Relationship between surface reflectivity and patterning reduction of surface matting effect of 0.5 micron PMMA measured by physically protruding particles

Figure kpo00006
Figure kpo00006

[실시예 8]Example 8

할렌이션 방지염료와 PMMA 입자로의 피복Coating with anti-halation dyes and PMMA particles

(a) 할레이션 방지염료와 종래의 매팅제(a) anti-halation dyes and conventional matting agents

0.26마이크론 입자크기의 클로로브로마이드 에멀젼을 상기 실시예 1의 방법에 따라 제조하여 감광시킨다. 에멀젼을 2.4g/m2은 피복덮개로 0.18mm의 폴리에스테르 기재상에 피복하고 동시에 0.036g/m2의 PMMA입자 (2.5마이크론의 평균직경)을 함유한 얇은 젤라틴 보호막을 칠한다. 기재의 반대편면은 815nm에서 0.6의 광밀도를 보여주며 6마이크론 평균직경의 크기를 갖는 0.065g/m2의 PMMA 입자(이면층)를 함유한 젤라틴 보호막 (1.3g/m2)을 가지고 있으며, 750-900nm의 적외선 흡광을 갖는 적외선 흡광염료 (유럽특허출원 공보 제 0,101,646호에서는 염료 17)를 함유한 젤라틴층 (5g/m2)이 구비되어 있다. 이러한 피복을 레이저 다이오드 주사에서 실험하고 그 결과를 표 7에 기재했다.A chlorobromide emulsion of 0.26 micron particle size was prepared and photosensitive according to the method of Example 1 above. The emulsion is coated on a 0.18 mm polyester substrate with a 2.4 g / m 2 silver cover and simultaneously coated with a thin gelatin protective film containing 0.036 g / m 2 PMMA particles (average diameter of 2.5 microns). The opposite side of the substrate has a gelatin protective film (1.3 g / m 2 ) containing 0.065 g / m 2 PMMA particles (back layer) with an optical density of 0.6 at 815 nm and a size of 6 micron average diameter. A gelatinous layer (5 g / m 2 ) containing an infrared absorbing dye (dye 17 in European Patent Application Publication No. 0,101,646) having an infrared absorption of 750-900 nm is provided. This coating was tested in laser diode scanning and the results are shown in Table 7.

(b) 본 발명에 따른 할레이션 방지염료와 표면거칠음제(b) anti-halation dyes and surface roughening agents according to the present invention;

앞면과 보호막층에 0.18g/m2의 0.5마이크론 PMMA 구체를 첨가하면서 상기 (a)의 피복을 반복한다. 샘플을 레이저 주사에서 실험하고, 그 결과를 표 7에 기재했다.The coating of (a) is repeated while adding 0.18 g / m 2 0.5 micron PMMA spheres to the front and protective layers. The samples were tested by laser scanning and the results are shown in Table 7.

[표 7]TABLE 7

Figure kpo00007
Figure kpo00007

샘플(a)는 가시적, 비-접촉주사 무늬를 보여주는 반면 샘플(b)는 가장 엄중한 조건하의 레이저 다이오드 주사실험하에서 어떠한 비-접촉주사 무늬도 보여주지 않는다.Sample (a) shows visible, non-contact scanning patterns, while sample (b) shows no non-contact scanning patterns under laser diode scanning experiments under the most stringent conditions.

[실시예 9]Example 9

알칼리-용해성 공중합 입자를 함유한 외부매팅층을 갖는 사진재료Photographic material having an outer matting layer containing alkali-soluble copolymer particles

상기 실시예 1에서와 같이 슈퍼아미드 L9C 및 Teepol 610 습윤제, 포름알데히드 경화제를 함유한 수용액으로부터 피복되어 졌으며, 젤라틴 결합제 (1.3g/m2)에 알칼리-용해성 메타아크릴산-에틸메타아크릴레이트 공중합체 입자를 함유한 이면을 지닌 0.18mm 폴리에스테르기재상에 0.16마이크론 클로로브로마이드 에멀젼을 피복시킨다. 공중합체 입자는 0.75마이크론 평균입자 크기를 가지지만 2마이크론까지의 넓은 범위의 직경을 갖는다. 서로 다른 농도의 매팅제를 함유한 샘플을 이면이 없는 샘플과 비교하면서 무늬형성에 대해 실험한 결과가 하기표 8에 기술되어 있다.Alkali-soluble methacrylic acid-ethyl methacrylate copolymer particles in a gelatin binder (1.3 g / m 2 ) were coated from an aqueous solution containing superamide L9C and Teepol 610 wetting agent, formaldehyde curing agent as in Example 1 above. The 0.16 micron chlorobromide emulsion was coated on a 0.18 mm polyester substrate with a backing containing. Copolymer particles have a mean particle size of 0.75 microns but a wide range of diameters up to 2 microns. The results of experiments on the pattern formation comparing the samples containing different concentrations of matting agents with the backless samples are shown in Table 8.

[표 8]TABLE 8

Figure kpo00008
Figure kpo00008

무늬형성이 억제되는 억제정도는 매팅제에 의해 산출된 돌출입자의 표면밀도와 구조체의 종류에 따라 다르다. 또한 실시예 5에서와같이 적외선 흡광 할레이션 방지층을 한쪽면에 칠한 0.18mm 폴리에스테르 기재를 사용하여 유사한 방법에 의해 피복을 행한다. 매팅층을 할레이션 방지층에 직접 적용시키고 필름기재의 반대편에 감광성 에멀젼을 적용시킨다.The degree of suppression in which fringe formation is suppressed depends on the surface density of the protruding particles produced by the matting agent and the type of structure. In addition, as in Example 5, coating was performed by a similar method using a 0.18 mm polyester substrate coated on one side with an infrared ray absorption anti-halation layer. The matting layer is applied directly to the anti-halation layer and a photosensitive emulsion is applied to the opposite side of the film substrate.

상용의 에멀젼 상부피복 대신 상술된 바와 같이 공중합체 입자의 매팅서스펜션에 의해 반복하는 것을 제외하고는 상기 실시예 1에서와 같이 3번째 셋트의 피복을 이면이 없는 0.18mm 폴리에스테르 기재상에 동일한 클로로브로마이드 에멀젼으로 행한다.The same chlorobromide on the backside-free 0.18 mm polyester substrate as in Example 1 above was subjected to the third set of coatings as in Example 1 above, except that it was repeated by mating suspension of copolymer particles as described above instead of a commercial emulsion topcoat. It is carried out in an emulsion.

할레이션 방지층상에 이면매팅을 지닌 피복과 에멀젼에 대한 매팅상부 피복을 지닌 피복을 레이저 다이오드 주사에서 실험하고 그 결과를 표 8에 기재했다.The coating with the backside matting on the anti-halation layer and the coating with the upper coating on the emulsion for the emulsion were tested in laser diode scanning and the results are shown in Table 8.

Claims (16)

(i) 감광성 에멀젼과 같은 지지체의 동일 면상의 최외부에 존재하며 근적외선에 대해 확산투광하는 보호막층, (ii) 감광성 에멀젼과 떨어진 지지체의 면상의 최외부에 존재하며 새로운 적외선에 대해 확산반사 또는 흡광하는 이면층, (iii) 지지체와 감광성 에멀젼 사이에 위치하며 근적외선에 대해 확산투광 또는 흡광하는 내부층중 하나 또는 이상의 층으로 구성되며, 근적외선을 방출하는 레이저 주사시스템에 의해 거의 비-접촉간섭무늬 없이 상을 형성하는 특징으로하는, 근적외선에 의해 투광하는 지지체와 근적외선에 감광되며, 0.4마이크론 이하의 평균직경을 갖는 하나 또는 이이상의 할로겐화는 에멀젼층으로 구성된 사진재료.(i) a protective film layer on the same outermost side of the support as a photosensitive emulsion and diffusely transmitting to near infrared rays, (ii) on the outermost side of the support away from the photosensitive emulsion and diffused or absorbed against a new infrared ray Consisting of one or more layers of a backing layer, (iii) an inner layer that is located between the support and the photosensitive emulsion and that diffuses or absorbs near-infrared light, and is almost non-contacted by a laser scanning system that emits near-infrared light. A photographic material comprising one or more halogenated silver emulsion layers having an average diameter of 0.4 micron or less, the photosensitive material being formed by a near infrared ray, and a support that is projected by near infrared rays. 제1항에 있어서, 상기 재료는 각 입자직경의 30%만큼 혹은 0.2마이크론이나 그 이하만큼 입자 평균표면 준위이상으로 돌출된 적어도 250,000입자를 표면 1mm2당 함유하여 현미경적으로 표면의 외부가 거칠도록 2마이크론 이하의 평균 입자크기를 갖는 표면 거칠음제를 함유한 결합제가 포함된 이면층으로 구성되는 것을 특징으로 하는 사진재료.The method of claim 1, wherein the material contains at least 250,000 particles per surface of 1 mm 2 protruding beyond the particle average surface level by 30% or 0.2 micron or less of each particle diameter so that the surface of the surface is microscopically rough. A photographic material comprising a backing layer comprising a binder containing a surface roughening agent having an average particle size of 2 microns or less. 제1항에 있어서, 상기 재료는 각 입자직경의 적어도 30%만큼, 또는 0.2마이크론 또는 그 이하만큼 표면의 편균준위이상 돌출한 적어도 250,000입자를 층표면 1mm2당 함유하여 외부표면이 현미경적으로 거칠도록 2마이크론 이하의 평균 입자크기를 갖는 표면 거칠음제를 함유한 결합제가 포함된 보호막층으로 구성되는 것을 특징으로하는 사진재료.2. The material of claim 1, wherein the material comprises at least 300,000 particles per 1 mm 2 of layer surface protruding at least 30% of each particle diameter, or 0.2 micron or less, above the surface level, and the outer surface is microscopically rough. And a protective film layer containing a binder containing a surface roughening agent having an average particle size of 2 microns or less. 제1항에 있어서, 각 입자직경의 적어도 30%만큼, 또는 0.2마이크론 또는 그 이하만큼 표면의 평균준위 이상으로 돌출한 적어도 450,000입자를 표면 1mm2당 함유할 정도로 표면이 현미경적으로 거칠은 것을 특징으로 하는 사진재료.The surface of claim 1 wherein the surface is microscopically rough so as to contain at least 450,000 particles per 1 mm 2 of surface, protruding above the average level of the surface by at least 30% of each particle diameter, or by 0.2 microns or less. Photographic material made with. 제1항에 있어서, 상기 재료는 근적외선에서 흡광하는 할레이션 방지염료를 함유하고 있으며 근적외선 범위에서 적어도 0.75광밀도의 투광피이크를 보여주는 이면 또는 내부층으로 구성되는 것을 특징으로하는 사진재료.2. The photographic material of claim 1, wherein the material comprises a backing or inner layer containing an anti-halation dye that absorbs in the near infrared and exhibits a light peak of at least 0.75 light density in the near infrared range. 제1항에 있어서, 상기 재료는 근적외선에 대해 적어도 0.3의 광밀도 투광피이크를 보여주는 할레이션 방지염료의 2마이크론 이하의 평균 입자크기를 갖는 표면 거칠음제가 함유된 이면층으로 구성되며, 상기 층의 외부표면은 각 입자직경이 30%만큼 또는 0.2마이크론 또는 이 이하 만큼 표면의 평균준위 이상으로 돌출된 적어도 200,000입자를 표면 1mm2당 함유하며 현미경적으로 거칠은 것을 특징으로하는 사진재료.2. The material of claim 1, wherein the material comprises a backing layer containing a surface roughening agent having an average particle size of less than 2 microns of an antihalation dye showing an optical density light peak of at least 0.3 with respect to near infrared light. Surface is microscopically microscopically containing at least 200,000 particles per 1 mm 2 surface of each particle diameter protruding above the average level of the surface by 30% or 0.2 microns or less. 제1항에 있어서, 상기 재료는 근적외선에 대해 적어도 0.3의 광밀도 투광피이크를 보여주는 이면층과 2마이크론 이하의 평균 입자크기를 갖는 표면 거칠음제를 함유한 보호막층으로 구성되며, 상기 보호막층의 외부표면은 각 입자직경의 적어도 30%만큼, 또는 0.2마이크론이나 이하 만큼 표면의 평균 준위이상으로 돌출한 적어도 200,000입자를 표면 1mm2당 함유하여 현미경적으로 거칠은 것을 특징으로 하는 사진재료.The material of claim 1, wherein the material comprises a backing layer showing a light density light peak of at least 0.3 with respect to near infrared rays, and a protective film layer containing a surface roughening agent having an average particle size of 2 microns or less. And the surface is microscopically rough, containing at least 200,000 particles per 1 mm 2 of surface, protruding beyond the average level of the surface by at least 30% of each particle diameter, or by 0.2 microns or less. 제1항에 있어서, 상기 재료는 근적외선에 대해 적어도 0.3의 광밀도 투광피이크를 보여주는 할레이션 방지내부층과 2마이크론 이하의 평균입자크기를 갖는 표면 거칠음제를 함유한 이면층 또는 보호막층으로 구성되며, 상기 이면 또는 보호막층의 외부표면은 각 입자직경의 적어도 30%만큼, 또는 0.2마이크론이나 그 이하만큼 표면의 평균준위 이상으로 돌출한 적어도 200,000입자를 표면 1mm2당 함유하여 현미경적으로 거칠은 것을 특징으로하는 사진재료.2. The material of claim 1 wherein the material comprises a backing layer or protective layer containing an antihalation inner layer exhibiting a light density light peak of at least 0.3 for near infrared light and a surface roughening agent having an average particle size of less than 2 microns. The outer surface of the back surface or the protective film layer is microscopically coarse, containing at least 200,000 particles per surface of 1 mm 2 protruding above the average level of the surface by at least 30% of each particle diameter, or 0.2 micron or less. Photo material characterized by. 제1항에 있어서, 상기 재료는 각 입자직경의 적어도 30%만큼 또는 0.2마이크론 또는 그 이하만큼 표면의 평균준위 이상으로 돌출한 적어도 200,000입자를 표면 1mm2당 함유하여 외부표면이 현미경적으로 거칠도록 2마이크론 이하의 평균 입자크기를 갖는 표면 거칠음제를 함유한 보호막층과, 각 입자직경의 30%만큼, 또는 0.2마이크론 또는 그 이하만큼 표면의 평균준위이상으로 돌출한 적어도 200,000입자를 표면 1mm2당 함유하여 외부표면이 현미경적으로 거칠도록 2마이크론 이하의 평균 입자 크기를 갖는 표면 거칠음제를 함유한 이면층과, 적외선에 대해 적어도 0.3의 광밀도 투광피이크를 보여주는 할레이션 방지염료를 함유한 내부층으로 구성되는 것을 특징으로 하는 사진재료.The method of claim 1, wherein the material contains at least 200,000 particles per surface of 1 mm 2 protruding beyond the average level of the surface by at least 30% or 0.2 microns or less of each particle diameter so that the outer surface is microscopically rough. A protective film layer containing a surface roughening agent having an average particle size of 2 microns or less, and at least 200,000 particles protruding above the average level of the surface by 30% of each particle diameter, or 0.2 microns or less, per 1 mm 2 surface. A backing layer containing a surface roughening agent having an average particle size of 2 microns or less so that the outer surface is microscopically rough, and an inner layer containing an anti-halation dye exhibiting a light density light peak of at least 0.3 to infrared light. Photo material, characterized in that consisting of. 제1항에 있어서, 상기 재료는 5마이크론 이하의 평균입자 크기를 갖는 결합제의 반사율보다 실질적으로 더 큰 반사율을 갖는 입자를 함유한 결합제가 포함된 이면 또는 보호막층으로 구성되며, 상기층은 사진현상동안 제거될 수 있는 것을 특징으로하는 사진재료.The material of claim 1, wherein the material consists of a backing or protective layer comprising a binder containing particles having a reflectance substantially greater than that of a binder having an average particle size of 5 microns or less, the layer being photographic. Photographic material characterized in that it can be removed during. 제10항에 있어서, 상기 재료는 750-900nm 파장범위의 방사선에 대해 감광하는 것을 특징으로하는 사진재료.11. The photographic material of claim 10, wherein the material is sensitive to radiation in the 750-900 nm wavelength range. 제1항 내지 제3항 또는 제5항 내지 제9항중 어느 한항에 있어서, 거칠음제 입자의 평균 크기는 0.2-2 마이크론인 것을 특징으로 하는 사진재료.10. The photographic material of any one of claims 1 to 3 or 5 to 9, wherein the average size of the roughener particles is 0.2-2 microns. 제1항 내지 제3항 또는 제5항 내지 제9항중 어느 한항에 있어서, 거칠음제는 폴리-메틸메타아크릴레이트 및 메타아크릴산과 메틸 또는 에틸메타아크릴레이트의 공중합체로부터 선택되는 것을 특징으로하는 사진재료.10. The photograph of claim 1, wherein the roughening agent is selected from poly-methylmethacrylate and copolymers of methacrylic acid and methyl or ethylmethacrylate. material. 제10항에 있어서, 고 반사율을 갖는 물질의 평균입자 크기는 0.2-3마이크론인 것을 특징으로하는 사진재료.11. The photographic material of claim 10, wherein the average particle size of the material with high reflectance is 0.2-3 microns. 제14항에 있어서, 고 반사율을 갖는 물질은 할로겐화, 산화아연 및 탄산칼슘으로부터 선택되는 것을 특징으로하는 사진재료.15. The photographic material of claim 14, wherein the material having a high reflectance is selected from halogenated, zinc oxide and calcium carbonate. 상기 전술된 전항의 사진재료를 다른 표면과의 접촉 없이 사진 재료의 에멀젼 면상에 위치한 레이저 다이오드 주사시스템으로부터의 근적외선에 노출시키고, 상기 재료를 상으로 현상시키는 단계로 구성되는 비-접촉 간섭무늬가 없는 상 기록방법.Exposing the photomaterial of the preceding paragraph to near infrared from a laser diode scanning system located on an emulsion surface of the photo material without contact with another surface, and developing the material upward. Award recording method.
KR1019850006294A 1984-08-31 1985-08-30 Photographic elements sensitive to near infrared KR930010215B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB22069 1984-08-31
GB84-22069 1984-08-31
GB848422069A GB8422069D0 (en) 1984-08-31 1984-08-31 Photographic elements

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR860002035A KR860002035A (en) 1986-03-24
KR930010215B1 true KR930010215B1 (en) 1993-10-15

Family

ID=10566097

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019850006294A KR930010215B1 (en) 1984-08-31 1985-08-30 Photographic elements sensitive to near infrared

Country Status (12)

Country Link
EP (1) EP0179555B1 (en)
JP (1) JPH0610735B2 (en)
KR (1) KR930010215B1 (en)
AR (1) AR245992A1 (en)
AU (1) AU575983B2 (en)
BR (1) BR8504071A (en)
CA (1) CA1294478C (en)
DE (1) DE3561978D1 (en)
ES (1) ES8800759A1 (en)
GB (1) GB8422069D0 (en)
MX (1) MX159941A (en)
ZA (1) ZA856085B (en)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2681629B2 (en) * 1986-06-10 1997-11-26 コニカ株式会社 Silver halide photographic material
JPS6388547A (en) * 1986-10-01 1988-04-19 Konica Corp Silver halide photographic sensitive material
JPH07109490B2 (en) * 1987-08-11 1995-11-22 コニカ株式会社 Silver halide photographic light-sensitive material
JPH0239042A (en) * 1988-07-28 1990-02-08 Fuji Photo Film Co Ltd Silver halide photographic sensitive material
JPH0268544A (en) * 1988-09-02 1990-03-08 Konica Corp Silver halide photographic sensitive material
DE68920936T2 (en) * 1988-09-22 1995-06-22 Konishiroku Photo Ind Photosensitive, photographic, fast processing silver halide material with reduced curvature.
AT394634B (en) * 1989-12-20 1992-05-25 Raganitsch Gmbh PRINTING PROCESS
US5698380A (en) * 1994-11-07 1997-12-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of forming images
GB9423571D0 (en) 1994-11-22 1995-01-11 Minnesota Mining & Mfg Antihalation/acutance system for photographic materials
EP0724192A1 (en) * 1995-01-25 1996-07-31 Eastman Kodak Company Photographic film element for recording overlapping digital and pictorial images
JPH09311403A (en) * 1996-05-20 1997-12-02 Fuji Photo Film Co Ltd Heat-developable photosensitive material

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2391127A (en) * 1942-02-17 1945-12-18 Eastman Kodak Co Antihalation coatings
US2992101A (en) * 1957-02-18 1961-07-11 Eastman Kodak Co Suppression of newton's rings in printing color films
US3523022A (en) * 1965-05-24 1970-08-04 Eastman Kodak Co Photographic element containing a protective matte layer
FR1527270A (en) * 1967-05-30 1968-05-31 Eastman Kodak Co New photographic emulsions with high resolving power
US3690891A (en) * 1970-07-20 1972-09-12 Eastman Kodak Co Infrared-sensitized silver halide systems
FR2308128A1 (en) * 1975-04-15 1976-11-12 Agfa Gevaert Intensifying screens for X-ray films - with surface layer of protruding particles of PTFE etc. to avoid frictional damage
US4028104A (en) * 1975-04-21 1977-06-07 Hughes Aircraft Company Infrared hologram recording method
JPS537231A (en) * 1976-07-08 1978-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd Image formation
JPS53123916A (en) * 1977-04-05 1978-10-28 Fuji Photo Film Co Ltd Improving method for adhesion resistance of photographic material
US4172731A (en) * 1978-04-03 1979-10-30 Eastman Kodak Company Photographic element containing a light absorbing matting agent
JPS5655939A (en) * 1979-10-15 1981-05-16 Fuji Photo Film Co Ltd Silver halide photographic material
IT1171550B (en) * 1981-09-23 1987-06-10 Minnesota Mining & Mfg PROCEDURE FOR MATTING THE SURFACE OF A PHOTOGRAPHIC MATERIAL AND PHOTOGRAPHIC MATERIAL OBTAINED WITH THAT PROCEDURE
DE3375704D1 (en) * 1982-08-20 1988-03-24 Minnesota Mining & Mfg Photographic elements incorporating antihalation and/or acutance dyes
JPS6080841A (en) * 1983-10-11 1985-05-08 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive silver halide material

Also Published As

Publication number Publication date
AR245992A1 (en) 1994-03-30
EP0179555A1 (en) 1986-04-30
ES8800759A1 (en) 1987-11-16
EP0179555B1 (en) 1988-03-23
DE3561978D1 (en) 1988-04-28
ZA856085B (en) 1987-03-25
ES546480A0 (en) 1987-11-16
BR8504071A (en) 1986-06-10
MX159941A (en) 1989-10-06
GB8422069D0 (en) 1984-10-31
AU575983B2 (en) 1988-08-11
JPH0610735B2 (en) 1994-02-09
JPS6170550A (en) 1986-04-11
KR860002035A (en) 1986-03-24
AU4583285A (en) 1986-03-06
CA1294478C (en) 1992-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4711838A (en) Photographic elements sensitive to near infrared
KR930010215B1 (en) Photographic elements sensitive to near infrared
JP3626199B2 (en) Photothermographic and thermal transfer elements for use in automated equipment
EP0119830B1 (en) Photothermographic element having topcoat bleachable antihalation layer
US4229525A (en) Process for improving image-sharpness of photographic silver halide material
EP0627660B2 (en) Infrared sensitized, photothermographic article
JP3980636B2 (en) Photothermographic components with reduced grain interference pattern
JPH04256946A (en) Image forming material having recording property with light and heat
FR2467421A1 (en) SILVER HALIDE-SENSITIVE ELEMENT AND METHOD OF FORMING A LASER-EXPOSED IMAGE
JP2875831B2 (en) Infrared light sensitive photographic material containing antihalation dye and / or acutance dye
JPS58501422A (en) Method for making reflective laser recording and data storage media with dark underlayers
US2391127A (en) Antihalation coatings
JP2672107B2 (en) Photothermographic recording articles
CA1281579C (en) Photographic elements containing bright yellow silver iodide
JPS60111200A (en) X ray photothermographic assembly for industrial use
US5641617A (en) Photographic material for laser scan exposure
CN1011833B (en) Photographic elements sensitive to near infrared
JP4061823B2 (en) Photothermographic material, method for producing photothermographic material and image recording method
JP3460393B2 (en) Photographic materials for laser scanning
Bishop Covering power and speed characteristics of silver bromide core/shell emulsions etched with sodium thiosulfate solution
US20030203322A1 (en) Photothermographic element with reduced woodgrain interference patterns
JPS63239434A (en) Silver halide photographic sensitive material
JPH05249621A (en) Silver halide photographic sensitive material
US20020015903A1 (en) Photosensitive material comprising reversibly decolorable colored layer and image-forming method using same
JPH0895198A (en) Method for detecting silver halide photographic sensitive material

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 19971001

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee