KR927003775A - 헤테로고리형 화합물을 세척 및 클리닝제에서의 표백활성제 또는 형광 표백제로서 이용하는 방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
헤테로고리형 화합물을 세척 및 클리닝제에서의 표백활성제 또는 형광 표백제로서 이용하는 방법
[도면의 간단한 설명]
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (14)
- 하기 일반식(Ⅰ)의 헤테로고리형 화합물을 세척 및 클리닝제어서의 표백 활성제 또는 형광 표백제로서 이용하는 방법.상기 식에서, X는, O, S 또는 N-R3그룹(여기에서, R3는 수소, C1-C25-알킬, C1-C25-아실, 또는 C12이하의 아릴 그룹임)이고, Y는 CH 또는 N이고, X가 S 또는 N-R3인 경우, R1인 수소, C1-C25-알킬 또는 C1-C25-알켄 그룹이거나, 또는 추가로 C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, 히드록실, 카르복실, 술포아미노, C1-C4-아실아미노, 니트로 또는 시아노 그룹들, 또는 염소 또는 브롬 원자들(이들중 2개의 치환기가 서로함께 존재한다면 이들은 같거나 다를 수 있음)에 의해 일 또는 이치환될 수 있는 페닐기이고, X가 0인 경우, R1은 페닐, o-, m- 또는 p-톨릴, p-클로로페닐, m-니트로페닐, m-메톡시페닐 또는 m-메틸술포닐페닐이고, X가 S 또는 N-R3인 경우, R2는 수소, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, 히드록실, 카르복실, 술포아미노 또는 C1-C4-아실아미노 그룹, 또는 염소 또는 브롬원자들이고, 그리고 X가 0인 경우, R2는 수소이다.
- 제1항에 있어서, X가 산소원자이고, R1이 X=0인 경우에 대해 정의한 바와 같으며, R2가 수소임을 특징으로 하는, 헤테로고리형 화합물(Ⅰ)의 이용방법.
- 제1항에 있어서, X가 황 또는 N-R3그룹이며, R1및 R2가 각각 X=S 또는 N-R3인 경우에 대해 정의한 바와 같음을 특징으로 하는 헤테로고리형 화합물(Ⅰ)의 이용방법.
- 제3항에 있어서, R1이 수소 또는 C1-C10-알킬 그룹이거나, 또는 추가로 C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, 히드록실 또는 니트로에 이해 치환될 수 있는 페닐임을 특징으로 하는, 헤테로고리형 화합물(Ⅰ)의 이용방법.
- 제3 또는 4항에 있어서, R2가 수소, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시 또는 히드록실임을 특징으로 하는 헤테로고리형 화합물(Ⅰ)의 이용방법.
- 하기 일반식(Ⅰ)의 헤테로고리형 화합물을 표백 활성제 또는 형광 표백제로서 이용하는 것으로 이루어진 세척 및 클리닝 방법.상기 식에서, X는, O, S 또는 N-R3그룹(여기에서, R3는 수소, C1-C25-알킬, C1-C25-아실, 또는 C12이하의 아릴 그룹임)이고, Y는 CH 또는 N이고, X가 S 또는 N-R3인 경우, R1인 수소, C1-C25-알킬 또는 C1-C25-알켄 그룹이거나, 또는 추가로 C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, 히드록실, 카르복실, 술포아미노, C1-C4-아실아미노, 니트로 또는 시아노 그룹들, 또는 염소 또는 브롬 원자들(이들중 2개의 치환기가 서로함께 존재한다면 이들은 같거나 다를 수 있음)에 의해 일 또는 이치환될 수 있는 페닐기이고, X가 0인 경우, R1은 페닐, o-, m- 또는 p-톨릴, p-클로로페닐, m-니트로페닐, m-메톡시페닐 또는 m-메틸술포닐페닐이고, X가 S 또는 N-R3인 경우, R2는 수소, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, 히드록실, 카르복실, 술포아미노 또는 C1-C4-아실아미노 그룹, 또는 염소 또는 브롬원자들이고, 그리고 X가 0인 경우, R2는 수소이다.
- 제6항에 있어서, 사용된 화합물(Ⅰ)에서 X가 산소원자이고, R1이 X=0인 경우에 대해 정의한 바와 같으며, R2가 수소임을 특징으로 하는, 세척 및 클리닝방법.
- 제6항에 있어서, 사용된 화합물(Ⅰ)에서 X가 황 또는 N-R3그룹이고, R1및 R2가 각각 X=S 또는 N-R3인 경우에 대해 정의한 바와 같음을 특징으로 하는, 세척 및 클리닝 방법.
- 제8항에 있어서, 사용된 화합물(Ⅰ)에서 R1이 수소 또는 C1-C10-알킬 그룹이거나, 또는 추가로 C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, 히드록실 또는 니트로에 의해 치환될 수 있는 페닐임을 특징으로 하는 세척 및 클리닝 방법.
- 제8 또는 9항에 있어서, 사용된 화합물(Ⅰ)에서 R2가 수소, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시 또는 히드록실임을 특징으로 하는 세척 및 클리닝 방법.
- 제8항에 있어서, 사용된 화합물(Ⅰ)에서 R2가 수소, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시 또는 히드록실임을 특징으로 하는 세척 및 클리닝방법.
- 제6,7,8,9 또는 10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 목적을 위해 사용된 제제가 제제의 전체량을 기준으로 하여 0.1 내지 10중량%의 하나이상의 헤테로고리형 화합물(Ⅰ)을 포함함을 특징으로 하는 세척 및 클리닝 방법.
- 제제의 전체량을 기준으로 하여 0.1 내지 10중량%의 제1,2,3,4 또는 5항 중 어느 한 항의 일반식(Ⅰ)의 하나이상의 헤테로고리형 화합물을 포함하는 세척 및 클리닝 제.
- 제제의 전체량을 기준으로 하여 0.1 내지 10중량%의 제6항의 일반식(Ⅰ)의 하나이상의 헤테로고리형 화합물을 포함하는 세척 및 클리닝제.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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