Claims (8)
전극(7)(8)(9)의 전계 안으로 빔을 생성하기 위하여 가스를 전송하며, 동축배열에 전극(7)(8)(9)을 받아들이는 노즐(1)(2)(3)과, 최소 3상(R)(S)(T)의 전류원과 연결된 3개의 전극(7)(8)(9)을 포함하며, 높은 연화점 또는 융점을 가진 물질, 특히 석영, 유리 또는 금속으로 만들어진 공작물을 플라즈마 빔에 의해 가공하기 위한 장치에 있어서, 대칭축(19)둘레에 전극(7)(8)(9)(10)(11)(12)을 포함한 노즐(1)(2)(3)(4)(5)(6)이 회전 대칭으로 배열되며, 노즐(1)(2)(3)(4)(5)(6)의 출구가 회전대칭의 대칭축(19)으로 부터 동일거리에 놓이며, 상기 대칭축(19)이 가공될 공작물(20)안에 일렬로 형성되며, 노즐(1)(2)(3)(4)(5)(6)의 경도축(13)(14)(15)(16)(17)(18)은 대칭축(19)에 대하여 측정된 각 범위가 대칭축(19)에 대해 수직면으로 부터 최대 ±15°의 기울기를 갖도록 배열된 것을 특징으로 하는 가공장치.Nozzles (1) (2) (3) which transmit gas to generate a beam into the electric field of the electrodes (7) (8) (9) and receive the electrodes (7) (8) (9) in a coaxial arrangement; A workpiece made of a material having a high softening or melting point, in particular quartz, glass or metal, comprising three electrodes (7) (8) (9) connected to a current source of at least three phases (R) (S) (T) In a plasma beam, comprising: nozzles 1, 2, 3 (including electrodes 7, 8, 9, 10, 11, 12) around an axis of symmetry 19; 4) (5) (6) are arranged in rotational symmetry, with the outlets of nozzles (1) (2) (3) (4) (5) (6) at the same distance from the axis of symmetry (19) of rotational symmetry. The axis of symmetry 19 is formed in a line within the workpiece 20 to be machined, and the hardness axes 13, 14, 15 of the nozzles 1, 2, 3, 4, 5, 6 are (16) (17) (18) is characterized in that each range measured with respect to the axis of symmetry (19) is arranged such that it has an inclination of at most ± 15 ° from the vertical plane with respect to the axis of symmetry (19).
제1항에 있어서, 대칭측(19)위에 놓인 공통점에서 노즐(1)(2)(3)(4)(5)(6)의 경도측(13)(14)(15)(16)(17)(18)이 서로 교차하도록 회전 대칭의 배열로 된 것을 특징으로 하는 가공장치.2. The hardness side (13) (14) (15) (16) of the nozzle (1) (2) (3) (4) (5) (6) at a common point on the symmetric side (19). 17) A processing apparatus, characterized in that the arrangement is rotationally symmetric such that the 18 intersect each other.
제1항에 있어서, 노즐(1) (2) (3) (4) (5) (6)의 경도측(13) (14) (15) (16) (17) (18)이 대칭측(19)위에 중심점을 가진 원주에 접하도록 회전대칭의 배열로 된 것을 특징으로 하는 가공장치.The hardness side (13) (14) (15) (16) (17) (18) of the nozzle (1) (2) (3) (4) (5) (6) is a symmetric side ( 19) Processing apparatus characterized in that the arrangement of rotationally symmetrical to contact the circumference with the center point on.
제1항에 있어서, 3개의 n배 전극(7)(8)(9)(10)(11)(12)(여기서 n은 정수)을 포함하며, 분리된 전극(7)(8)(9)(10)(11)(12)에 다상 전류원의 각 위상 (R)(S)(T)(U)(V)(Z)이 연결되는 것을 특징으로 하는 가공장치.2. The electrode of claim 1 comprising three n-fold electrodes (7) (8) (9) (10) (11) (12) (where n is an integer) and separated electrodes (7) (8) (9). (10) (11) (12) processing apparatus, characterized in that each phase (R) (S) (T) (U) (V) (Z) of a polyphase current source is connected.
제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 3상(R)(S)(T)전류원과 3개의 n배 전극(7)(8)(9)(10)(11)(12)(여기서 n은 정수)을 포함하며, 각 상(R)(S)(T)은 n개의 전극(7)(8)(9)(10)(11)(12)에 연걸되는 것을 특징으로 하는 장치.4. The three-phase (R) (S) (T) current source and three n-fold electrodes (7) (8) (9) (10) (11) (12) (in accordance with any one of claims 1 to 3). Wherein n is an integer), wherein each phase (R) (S) (T) is connected to n electrodes (7) (8) (9) (10) (11) (12). .
제5항에 있어서, 6개의 전극(7)(8)(9)(10)(11)(12)이 전류원의 각 위상(R)(S)(T)에 연견된 3개의 그룹으로 분리되며, 2개의 전극(7)(8)(9)(10)(11)(12)으로 구성된 상기 그룹은 대칭축(19)에 대하여 서로 맞은편 공간에 배열된 것을 특징으로 하는 장치.6. The electrode according to claim 5, wherein the six electrodes (7) (8) (9) (10) (11) (12) are separated into three groups connected to each phase (R) (S) (T) of the current source. , Said group consisting of two electrodes (7) (8) (9) (10) (11) (12) arranged in spaces opposite each other about an axis of symmetry (19).
제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 있어서, 노즐과 전극이 최소한 2개의 이상 셀트되며, 각 센트는 대칭축(19)을 따라 배열되는 것을 특징으로 하는 장치.7. An apparatus according to any one of the preceding claims, characterized in that the nozzle and the electrode are at least two more celled, with each cent arranged along the axis of symmetry (19).
제1항 내지 제7항중 어느 한 항에 있어서, 순환하는 대기로부터 격리된 공간내에 전극(7)(8)(9)(10)(11)(12)이 배열되는 것을 특징으로 하는 장치.8. The device according to any one of the preceding claims, wherein the electrodes (7) (8) (9) (10) (12) are arranged in a space isolated from the circulating atmosphere.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.