KR920016560A - 반응성 디스아조 염료의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (1)
- 일반식(Ⅱ)인 1,3-디아미노벤젠술폰산을 구조식(Ⅲ)인 염화시아눌과 축합하여 일반식(Ⅳ)인 화합물을 얻고 ; 일반식(Ⅳ)인 화합물에 일반식(Ⅴ)인 화합물을 넣어 두 화합물을 동시에 디아조화하고 ; 위의 디아조화액에 구조식(Ⅵ)인 1-아미노-8-나프톨-3,6-디술폰산 수용액을 가하고 일반식(Ⅶ)인 화합물을 가해 커플링과 축합을 같은 반응욕에서 진행하는 단계로이루어진 일반식(Ⅰ)로 표시되는 반응성 디스아조 염료의 제조방법 :위에서, R1은 수소, 메틸기 또는 술폰산기 ; R2, R3는 각각 수소, 메틸기, 메툭시기, 에톡시기, 카복실기 또는 술폰산기 ;X는 -CH2CH2OSO3H 또는 -CH= CH2임.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
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| KR1019910002458A KR940002559B1 (ko) | 1991-02-13 | 1991-02-13 | 반응성 디스아조 염료의 제조방법 |
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| KR940002559B1 KR940002559B1 (ko) | 1994-03-25 |
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ID=19311117
Family Applications (1)
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Country Status (1)
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| KR (1) | KR940002559B1 (ko) |
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1991
- 1991-02-13 KR KR1019910002458A patent/KR940002559B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
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|---|---|
| KR940002559B1 (ko) | 1994-03-25 |
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