KR920012263A - 특이 디히드록시메틸 포스핀 옥사이드 유효량을 갖는 난연성 에폭시 수지 조성물 및 그의 생성방법 - Google Patents

특이 디히드록시메틸 포스핀 옥사이드 유효량을 갖는 난연성 에폭시 수지 조성물 및 그의 생성방법 Download PDF

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epoxy resin
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지이 휫셔 쥬니어 로버어트
제이 켈비크 체스터
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알퐁스 아아르 노에
아메리칸 사이아나밋드 캄파니
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

내용 없음

Description

특이 디히드록시메틸 포스핀 옥사이드 유효량을 갖는 난연성 에폭시 수지 조성물 및 그의 생성방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (15)

  1. 에폭시 수지, 경화제 및 하기 일반식을 갖는 적어도 하나의 디히드록시메틸 포스핀 옥사이드 유효량으로 구성되는, 난연성을 갖는 에폭시 수지 조성물：
    (상기식에서, R은 C1-약 C8인 알킬기 또는, R'가 C2-약 C8인 알킬렌기를 나타내는 R'OH기를 나타낸다)
  2. 제1항에 있어서, R은 C1-약 C4인 알킬기이고, R'는 C2-약 C4인 알킬렌기인 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 디히드록시메틸 포스핀 산화물이, 이소부틸-비스(히드록시메틸)포스핀 옥사이드, t-부틸-비스(히드록시메틸)포스핀 옥사이드, 메틸-비스(히드록시메틸)포스핀 옥사이드 및 그의 혼합물들로 구성되는 군으로부터 선택되는 수지 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 인 함량이 수지 조성물의 중량 기준으로 0.01-5중량%범위로 제공되는 양으로, 디히드록시메틸 포스핀 옥사이드가 존재하는 수지 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 인 함량이 수지 조성물의 중량 기준으로 0.05-2중량%범위로 제공되는 양으로, 디히드록 시메틸 포스핀 옥사이드가 존재하는 수지 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 수지 조성물의 중량기준으로 브롬 약 1.0-약 30중량%를 포함함을 특징으로 하는 수지 조성물.
  7. 제6항에 있어서, 수지 조성물의 중량 기준으로 브롬 약 2-약 11중량%를 포함함을 특징으로 하는 수지 조성물.
  8. 에폭시 수지, 경화제 및 하기 일반식을 갖는 적어도 하나의 디히드록시메틸 포스핀 옥사이드 유효량을 반응시키는 것으로 구성되는 난연성을 가진 에폭시 수지 조성물의 생성방법：
    (상기식에서, R은 C1-약 C8인 알킬기 또는, R'가 C2-약 C8인 알킬렌기를 나타내는 R'OH기를 나타낸다)
  9. 제8항에 있어서, R은 C1-약 C4인 알킬기이고, R'는 C2-약 C4인 알킬렌기인 방법.
  10. 제9항에 있어서, 디히드록시메틸 포스핀 옥사이드가, 이소부틸-비스(히드록시메틸)포스핀 옥사이드, t-부틸-비스(히드록시메틸)포스핀 옥사이드, 메틸-비스(히드록시메틸)포스핀 옥사이드 및 그의 혼합물들로 구성되는 군으로부터 선택되는 방법.
  11. 제8항에 있어서, 인 함량이 수지 조성물의 중량 기준으로 0.01-5중량% 범위로 제공되는 양으로, 디히드록시메틸 포스핀 옥사이드가 존재하는 방법.
  12. 제11항에 있어서, 인 함량이 수지 조성물의 중량 기준으로 0.05-2중량% 범위로 제공되는 양으로 디히드록시메틸 포스핀 옥사이드가 존재하는 방법.
  13. 제8항에 있어서, 수지 조성물의 중량 기준으로 브롬 약1.0-약 30중량%를 포함함을 특징으로 하는 방법.
  14. 제13항에 있어서, 수지 조성물의 중량기준으로 브롬 약 2-약 11중량%를 포함함을 특징으로 하는 방법.
  15. 제8항의 방법에 의해 생성된 생성물.
    ※ 참고사항 ： 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019910022028A 1990-12-12 1991-12-03 특이 디히드록시메틸 포스핀 옥사이드 유효량을 갖는 난연성 에폭시 수지 조성물 및 그의 생성방법 KR920012263A (ko)

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