KR920007427A

KR920007427A - 자기 브러쉬 현상장치

Info

Publication number: KR920007427A
Application number: KR1019910015308A
Authority: KR
Inventors: 구니히꼬 사또; 사찌오 사사끼; 아끼라 나가히루; 아라끼신; 히데아끼 이와사끼
Original assignee: 세끼자와 다다시; 후지쓰 가부시끼가이샤
Priority date: 1990-09-03
Filing date: 1991-09-03
Publication date: 1992-04-28
Also published as: EP0474409A2; KR950001827B1; EP0474409B1; EP0474409A3; DE69124120T2; EP0658826B1; DE69124120D1; DE69114089T2; DE69114089D1; EP0658826A1

Abstract

내용 없음

Description

자기 브러쉬 현상장치

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 본 발명 실시예의 프린터의 개략 측단면도.

제2도는 상기 실시예의 현상장치의 측단면도.

제3도는 상기 실시예의 현상롤러의 사시도.

Claims

현상재(4)를 함유하는 현상용기와, 이 현상용기(7) 내부에 고정적으로 설치되며 복수의 위치에 방사상으로 형성된 자극을 자석(1b)와 상기 자석(1b)의 외부를 커버하면서 설치되어 회전 구동되어 상기 현상용기(7)의 현상재를 이송하는 회전슬리브(1a)및, 상기 회전슬리브(1a)에 대향하여 설치되어 상기 회전 슬리브(1a)에 대향하여 설치되어 상기 회전 슬리브(1a)에 대향하여 설치되어 상기 회전 슬리브(1a)에 의해 이송되는 현상재(4) 양을 제한하는 현상재제한 부재(2)를 구비하는, 자기 브러쉬 현상 장치에 있어서, 상기 현상재 제한 부재(2)와 대향하는 위치(6a)및, 그의 근방(6)에, 상기 회전 슬리브(1a)변부상으로 실질상으로 균일한 수직성분을 가진 자속밀도를 갖는 균일 자속밀도부 Z가 형성돼 있는 것을 특징으로 하는 자기 브러쉬 현상장치.
제1항에 있어서, 상기 균일 자속밀도부 Z가, 상기 자석(1b)의 자화위치의 정밀도와 상기 현상용기(7)에 대한 상기 자석(1b)의 정착 정밀도 및, 상기 현상용기(7)에 대한 상기 현상재 제한부재(2)의 장착 정밀도중 어느 것의 범위보다도 넓은 범위에서 실질상 균일한 수직 성분을 가진 자속밀도 분포를 갖는 것이 특징인 자기브러쉬 현상장치.
제1항에 있어서, 상기 균일 자속밀도부 Z가 상기 균일 자속밀도부 Z와 상기 현상재 제한부재(2)의 상대적 장착위치 정밀도의 범위보다 넓은 범위에서 실질상 균일한 수직 성분을 가진 자속밀도 분포를 갖는 것이 특징인 자기브러쉬 현상장치.
제1항에 있어서, 상기 균일 자속밀도부 Z가 상기 현상재 제한부재 대향위치 (6a)의 양측에 설치되어, 상기 회전 슬리브(1a)의 회전각의 면에서 각각 10°이상의 각도로 확장하고 있는 것이 특징인 자기브러쉬 현상장치.
제1항에 있어서, 상기 균일 자속밀도부 Z가 상기 현상재 제한부재 대향위치 (6a)의 설정치에 대해 ±10%범위내의 수직 자속밀도를 갖는 것이 특징인 자기브러쉬 현상장치.
제1항에 있어서, 상기 균일 자속밀도부 Z가 상기 현상재 제한부재 대향위치 (6a)의 양측에 설치되어 상기 회전 슬리브(1a)의 회전각의 면에서 3°이상 확장하고 있고, 상기 균일 자속밀도부를 Z가, 상기 현상재 제한부재 대향위치 (6a)의 설정치에 대해 ±20%범위내의 수직 자속밀도를 갖는 것이 특징인 자기브러쉬 현상장치.
제1항에 있어서, 상기 균일 자속밀도부 Z가 상기 현상재 제한부재 대향위치 (6a)의 양측에 설치되어 상기 회전 슬리브(1a)의 회전각의 면에서 3°이상 확장하고 있고, 상기 균일 자속밀도부를 Z가, 상기 현상재 제한부재 대향위치 (6a)의 설정치에 대해 ±10%범위내의 수직 자속밀도를 갖는 것이 특징인 자기브러쉬 현상장치.
제1항에 있어서, 상기 균일 자속밀도부 Z가 상기 현상재 제한부재 대향위치 (6a)의 양측에 설치되어 상기 회전 슬리브(1a)의 회전각의 면에서 10°이상 확장하고 있고, 상기 균일 자속밀도부를 Z가, 상기 현상재 제한부재 대향위치 (6a)의 설정치에 대해 ±20%범위내의 수직 자속밀도를 갖는 것이 특징인 자기브러쉬 현상장치.
제1항에 있어서, 상기 균일 자속밀도부 Z가 상기 현상재 제한부재 대향위치 (6a)의 양측에 설치되어 상기 회전 슬리브(1a)의 회전각의 면에서 5°이상 확장하고 있고, 상기 균일 자속밀도부를 Z가, 상기 현상재 제한부재 대향위치 (6a)의 설정치에 대해 ±15%범위내의 수직 자속밀도를 갖는 것이 특징인 자기브러쉬 현상장치.
제1항에 있어서, 상기 현상재 제한부재(2)가 상기 복수의 자극중 2자극(B,C)간에 설치돼 있고, 상기 2자극(B,C)의 중심선들간의 각도(0₀)가 상기 2자극(B,C)의 평균 폭의 3배 이상이고, 상기 2자극(B,C)중 하나의 폭이 다른 하나의 폭보다 좁은 것이 특징인 자기브러쉬 현상장치.
제1항에 있어서, 상기 현상재 제한부재(2)가 상기 복수의 자극중 2자극(B,C)간에 설치돼 있고, 상기 2자극(B,C)의 중심선들간의 각도(0₀)가 상기 2자극(B,C)의 평균 폭의 3배 이상이고, 상기 2자극(B,C)중 하나의 자속밀도가 다른 하나의 자속밀도보다 작은 것이 특징인 자기브러쉬 현상장치.
제1항에 있어서, 상기 현상재 제한부재(2)가 상기 복수의 자극중 2자극(B,C)간에 설치돼 있고, 상기 2자극(B,C)의 중심선들간의 각도(0₀)가 상기 2자극(B,C)과 그 폭이 상기 자극 (B 또는 C)의 폭이 약 1/2이고 그 자화강도가 상기 자극(B 또는 C) 약 5~50%이고, 이 2자극(B,C)간의 위치에 설치된 다른 자극(C')의 평균폭의 2배 이상인 것이 특징인 자기브러쉬 현상장치.

※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.