KR920003631A - 전기 동조된 초고주파/극초단파(vhf/uhf)매칭 네트워크 - Google Patents

전기 동조된 초고주파/극초단파(vhf/uhf)매칭 네트워크 Download PDF

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KR920003631A
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에스. 콜린즈 케니쓰
에이.로데릭 크라이그
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제임스 조셉 드롱
어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
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Abstract

내용 없음

Description

전기 동조된 초고주파/극초단파(VHF/UHF)매칭 네트워크
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전기 동조된 VHF/UHF매칭 네트워크를 도시한 도면,
제2도는 본 발명의 바람직한 실시예에 다른 플라즈마 공정에 전력을 공급하는 시스템에 사용되는 제1도에 도시한 것과 같은 전기 동조된 매칭 네트워크를 도시한 도면,
제3도는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 제2도에 도시한 것과 같은 전기 동조된 매팅 네트워크의 설계를 도시한 단면도.

Claims (24)

  1. 매칭 네트워크의 전송 선로 스터브에 있어서, a) 제1전송 선로 콘덕터; b) 상기 제1전송 선로 콘덕터에 평행하게 위치하는 제2전송 선로 콘덕터; c) 상기 제1전송 선로 콘덕터와 제2선로 콘덕터 사이의 페라이트 유전체; 및 d) 상기 페라이트 유전체의 비투과율을 변화시키기 위한 변화 수단을 포함함을 특징으로 하는 전송 선로 스터브.
  2. 제1항에 있어서, 자장 발전기를 포함하는 상기 변화 수단이 a) 제1전송 선로 콘덕터, 제2전송 선로 콘덕터와 페라이트 유전체 주위에 감긴 와이어; 및 b) 상기 와이어를 통해 전류를 발생시키기 위한 전류 발생수단으로 구성됨을 특징으로 하는 전송 선로 스터브.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1전송 선로 콘덕터와 제2전송 선로 콘덕터가 쌍 리이드임을 특징으로 하는 전송선로 스터브.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제1전송 콘덕터와 제2전송 선로 콘덕터가 등축임을 특징으로 하는 전송 선로 스터브.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제1전송 선로 콘덕터가 제1전기 전도성관이고 제2전송 선로 콘덕터가 제1전기 전도성관 내부의 제2전기 전도성관임을 특징으로 하는 전송 선로 스터브.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제2전기 전도성관내로 흐르는 유체를 포함함을 특징으로 하는 전송 선로 스터브.
  7. 제5항에 있어서, 자장 발전기를 포함하는 상기 변화 수단이 상기 a) 제1전기 전도성관 주위에 감긴 와이어; 및 b) 상기 와이어를 통해 전류를 발생시키기 위한 전류 발생수단으로 구성됨을 특징으로 하는 전송 선로 스터브.
  8. 제7항에 있어서, 상기 와이어와 제1전기 전도성관 사이에 유체를 흘리기 위한 흐름수단을 포함함을 특징으로 하는 전송 선로 스터브.
  9. 다수의 전송 선로 스터브를 가진 매칭 네트워크에 있어서, 각 전송 선로 스터브가 a) 제1전송 선로 콘덕터; b) 상기 제1전송 선로 콘덕터에 평행하게 위치하는 제2전송 선로 콘덕터; c) 상기 제1전송 선로 콘덕터와 제2전송선로 콘덕터 사이의 페라이트 유전체; 및 d) 페라이트 유전체의 비투과율을 변화시키기 위한 변화수단을 포함함을 특징으로 하는 매칭 네트워크.
  10. 제9항에 있어서, 자장 발전기를 포함하는 상기 변화 수단이 a) 제1전송 선로 콘덕터, 제2전송 선로 콘덕터와 페라이트 유전체 주위에 감긴 와이어; 및 b) 상기 와이어를 통해 전류를 발생시키기 위한 전류 발생수단으로 구성됨을 특징으로 하는 매칭 네트워크.
  11. 제9항에 있어서, 상기 매칭 네트워크가 공급원과 부하 사이에 연결되고, 상기 다수의 전송 선로 스터브로부터의 제1전송 선로 스터브를 상기 공급원과 부하 사이에 연결시키고, 다수의 전송 선로 스터브로부터의 제2전송선로 스터브의 제1단부를 공급원에 연결시키고 제2전송 선로 스터브의 제2단부를 터미네이터에 연결시킴을 특징으로 하는 매칭 네트워크.
  12. 제11항에 있어서, 상기 터미네이터가 제2전송 선로 스터브의 제1전송 선로 콘덕터를 제2전송 선로 스터브의 제2전송 선로콘덕터에 전기 연결시키는 단락회로임을 특징으로 하는 매칭 네트워크.
  13. 제11항에 있어서, 상기 공급원이 전력공급원 및 부하가 플라즈마 공정에 사용된 전극을 포함함을 특징으로 하는 매칭 네트워크.
  14. 제9항에 있어서, 상기 매칭 네트워크가 공급원과 부하 사이에 연결되고, 상기 다수의 전송 선로 스터브로부터의 제1전송 선로 스터브와 다수의 전송 선로 스터브로부터의 제2전송 선로 스터브가 상기 공급원과 부하 사이에 일련으로 연결됨을 특징으로 하는 매칭 네트워크.
  15. 제9항에 있어서, 상기 매칭 네트워크가 공급원과 부하 사이에 연결되고, 상기 다수의 전송 선로 스터브중 제1전송 선로 스터브의 제1단부가 상기 공급원을 연결시키는 연결 전송 라인과 상기 부하에 연결되고, 및 상기 다수의 전송 선로 스터브중 제2전송 선로 스터브의 제1단부가 상기 연결 전송 선로에 연결되고 상기 제2전송 선로 스터브의 제2단부가 제2터미테이터에 연결됨을 특징으로 하는 매칭 네트워크.
  16. 제9항에 있어서, 상기 매칭 네트워크가 전력 공급원과 플라즈마 공정에 사용된 전극 사이에 연결됨을 특징으로 하는 매칭 네트워크.
  17. 각각 2개의 전송 선로 컨덕터를 포함하는 다수의 전송 선로 스터브를 포함하는 매칭 네트워크의 어드미턴스를 변화시키기 위한 방법에 있어서, (a) 각 전송 선로 스터브의 2개의 전송 선로 콘덕터 사이에 페라이트 유전체를 위치시키는 단계; 및 (b) 상기 페라이트 유전체의 투과율을 변화시키는 단계를 포함함을 특징으로 하는 방법.
  18. 제17항에 있어서, 상기 단계(b)각각 전송 선로 스터브 주위에 위치한 자장을 변화시킴으로써 행해짐을 특징으로 하는 방법.
  19. 제17항에 있어서, 상기 다수의 전송 선로 스터브의 각 스터브의 전송 선로 콘덕터들이 등축임을 특징으로 하는 방법.
  20. 제19항에 있어서, 제1전송 선로 콘덕터가 제1전기전도성관이고, 제2전송 선로 콘덕터가 제1전기전도성관내의 제2전기 전도성관임을 특징으로 하는 방법.
  21. 제20항에 있어서, (c) 냉각을 위해 유체를 제2전기 전도성관을 통해 흘리는 단계를 더 포함함을 특징으로 하는 방법.
  22. 제21항에 있어서, 상기 유체가 이온화수임을 특징으로 하는 방법.
  23. 제20항에 있어서, (d) 냉각을 위해 유체를 전기전도성관 위로 흘리는 단계를 더 포함함을 특징으로 하는 방법.
  24. 제23항에 있어서, 상기 유체가 공기임을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019910012748A 1990-07-26 1991-07-25 전기 동조된 초고주파/극초단파(vhf/uhf)매칭 네트워크 KR920003631A (ko)

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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5392018A (en) * 1991-06-27 1995-02-21 Applied Materials, Inc. Electronically tuned matching networks using adjustable inductance elements and resonant tank circuits
DE4122290C1 (ko) * 1991-07-05 1992-11-19 Ant Nachrichtentechnik Gmbh, 7150 Backnang, De
US5585766A (en) * 1994-10-27 1996-12-17 Applied Materials, Inc. Electrically tuned matching networks using adjustable inductance elements
US5629653A (en) * 1995-07-07 1997-05-13 Applied Materials, Inc. RF match detector circuit with dual directional coupler
US5770982A (en) * 1996-10-29 1998-06-23 Sematech, Inc. Self isolating high frequency saturable reactor
GB9708268D0 (en) 1997-04-24 1997-06-18 Gyrus Medical Ltd An electrosurgical instrument
US7202734B1 (en) 1999-07-06 2007-04-10 Frederick Herbert Raab Electronically tuned power amplifier
US20040149219A1 (en) * 2002-10-02 2004-08-05 Tomohiro Okumura Plasma doping method and plasma doping apparatus
US7431857B2 (en) * 2003-08-15 2008-10-07 Applied Materials, Inc. Plasma generation and control using a dual frequency RF source
US20050106873A1 (en) * 2003-08-15 2005-05-19 Hoffman Daniel J. Plasma chamber having multiple RF source frequencies
US7510665B2 (en) * 2003-08-15 2009-03-31 Applied Materials, Inc. Plasma generation and control using dual frequency RF signals
US7838430B2 (en) * 2003-10-28 2010-11-23 Applied Materials, Inc. Plasma control using dual cathode frequency mixing
US20060027329A1 (en) * 2004-08-09 2006-02-09 Sinha Ashok K Multi-frequency plasma enhanced process chamber having a torroidal plasma source
JP4989992B2 (ja) * 2006-11-30 2012-08-01 京セラ株式会社 整合回路、送信器、受信器、送受信器およびレーダ装置
JP4111401B1 (ja) 2007-11-19 2008-07-02 日本高周波株式会社 フェライト移相器及び自動整合装置
US7736914B2 (en) * 2007-11-29 2010-06-15 Applied Materials, Inc. Plasma control using dual cathode frequency mixing and controlling the level of polymer formation
EP3540940A1 (en) * 2018-03-13 2019-09-18 BAE SYSTEMS plc Improvements in and relating to impedance matching
WO2019175544A1 (en) * 2018-03-13 2019-09-19 Bae Systems Plc Improvements in and relating to impedance matching

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB882121A (en) * 1957-12-09 1961-11-15 Western Electric Co Electromagnetic wave transmission devices
FR1214333A (fr) * 1957-12-09 1960-04-07 Western Electric Co Organes de transmission et de retard variables
US3384841A (en) * 1966-03-10 1968-05-21 Bell Telephone Labor Inc Ferrite phase shifter having longitudinal and circular magnetic fields applied to the ferrite
JPS6416102A (en) * 1987-07-10 1989-01-19 Hitachi Ltd Stab tuner
JPH01186793A (ja) * 1988-01-14 1989-07-26 Japan Atom Energy Res Inst プラズマ加熱装置
JP2727607B2 (ja) * 1988-11-22 1998-03-11 株式会社ダイヘン プラズマ装置のインピーダンス整合方法

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Publication number Publication date
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JP2571882B2 (ja) 1997-01-16
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US5065118A (en) 1991-11-12
EP0468509A2 (en) 1992-01-29

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