KR910009710B1 - High friquency heating apparatus - Google Patents

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KR910009710B1
KR910009710B1 KR1019880016493A KR880016493A KR910009710B1 KR 910009710 B1 KR910009710 B1 KR 910009710B1 KR 1019880016493 A KR1019880016493 A KR 1019880016493A KR 880016493 A KR880016493 A KR 880016493A KR 910009710 B1 KR910009710 B1 KR 910009710B1
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heater
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요시또 마쓰바라
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가부시끼가이샤 도시바
아오이 죠이찌
도시바 오디오 비데오 엔지니어링 가부시끼가이샤
오시마 고타로우
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    • H05B6/64Heating using microwaves
    • H05B6/6408Supports or covers specially adapted for use in microwave heating apparatus
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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    • F24CDOMESTIC STOVES OR RANGES ; DETAILS OF DOMESTIC STOVES OR RANGES, OF GENERAL APPLICATION
    • F24C7/00Stoves or ranges heated by electric energy
    • F24C7/02Stoves or ranges heated by electric energy using microwaves

Abstract

내용 없음.No content.

Description

고주파 가열장치High frequency heater

제1도 내지 제6도는 본 발명의 한 실시예를 나타내며, 제1도는 고주파 가열장치인 전자레인지의 종단면도.1 to 6 show one embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a microwave oven which is a high frequency heating apparatus.

제2도는 그 횡단 평면도.2 is a transverse plan view thereof.

제3도는 조리받침판의 사시도.3 is a perspective view of the cooking base plate.

제4도는 슬릿부의 확대 종단면도.4 is an enlarged longitudinal sectional view of the slit portion.

제5도는 마이크로 파의 방사 상태 설명도.5 is an explanatory diagram of a radiation state of microwaves.

제6도는 가열분포 측정에 사용하는 측정용 용기의 사시도.6 is a perspective view of a measuring vessel used for heating distribution measurement.

제7도는 본 발명의 다른 실시예를 나타내는 조리받침판 사시도.7 is a perspective view of the cooking plate showing another embodiment of the present invention.

제8도 및 제9도는 마이크로 파 투과상태를 서로 다른 방향에서 본 설명도.8 and 9 are explanatory views of microwave transmission states viewed from different directions.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

4 : 가열실 4c : (가열실의)측벽4: heating chamber 4c: side wall (of heating chamber)

11 : 고주파 가열기구 12 : 상부 히터11: high frequency heating mechanism 12: upper heater

13 : 하부히터 15 : 조리받침판13: lower heater 15: cooking support plate

17 : 슬릿부 6 : 여진구17: slit part 6: aftershock

본 발명은 가열실에 고주파 가열기구를 갖춤과 동시에 막대기 모양의 히터와 조리 받침판으로 이루어진 히터가열 기구를 갖추고, 고주파 가열작용인 레인지 조리와 히터가열 작용인 오븐 조리를 행할 수 있는 이른바 오븐 레인지라고 불리우는 고주파 가열장치에 관한 것으로서, 특히 레인지 조리와 오븐 조리를 연속적으로 행할 때의 가열구조의 개량에 관한 것이다.The present invention is equipped with a high-frequency heating mechanism in the heating chamber and at the same time equipped with a heater heater consisting of a stick-shaped heater and a cooking support plate, so-called oven range capable of performing microwave cooking with high-frequency heating and oven cooking with a heating function. The present invention relates to a high frequency heating apparatus, and more particularly, to an improvement in a heating structure when continuous range cooking and oven cooking are performed.

피조리물에 따라서는 고주파 가열작용의 레인지 조리뿐만이 아니라 히터 가열작용인 오븐 조리를 병용할 수 있으면 조리상태가 가장 좋은 상태로 되게 된다.According to the to-be-cooked object, when cooking can be used not only with range cooking of a high frequency heating operation but also oven cooking which is a heater heating operation, a cooking state will be in the best state.

예를들어, 그라탄 이나 햄버거 스테이크와 같이 그 표면을 조금 태우는 오븐 조리와, 그 내부까지 충분히 가열하는 레인지 요리의 병용이다.For example, it is a combination of oven cooking which burns the surface a little like gratan and hamburger steak and range cooking which heats enough to the inside.

따라서, 이와같은 복합가열의 요구를 충족시켜주는 고주파가열 장치의 전자 레인지가 제공되게 되었다.Thus, a microwave oven of a high frequency heating device that meets the needs of such complex heating has been provided.

이러한 종류의 전자 레인지는, 예를들어, 가열실의 윗면 벽에 여진구를 개구하는 도파관을 접속하고, 이 도파관에 고주파 마그네트론을 설치한다.In this type of microwave oven, for example, a waveguide that opens an excitation opening in an upper wall of a heating chamber is connected, and a high frequency magnetron is provided in the waveguide.

상기 가열실의 윗면 벽에는 교반기, 저부에는 회전접시로된 고주파 가열기구를 겸비하고 있다.The upper wall of the heating chamber has a stirrer and a high frequency heating mechanism made of a rotating plate at the bottom.

더욱이, 가열실의 상부 및 하부에 각각 막대기 모양의 히터를 설치함과 동시에, 이러한 히터 상호간의 가열실 중간부에 피조리물을 놓기 위해 금속판으로 된 조리 받침판을 설치한 히터 가열 기구를 갖추었다.Furthermore, the heater heater was provided with a bar-shaped heater at each of the upper and lower portions of the heating chamber, and at the same time, a cooking support plate made of a metal plate was installed to place the workpiece in the middle of the heating chamber between the heaters.

레인지 조리를 행할 경우에는, 회전 접시위에 피조리물을 놓고 이것을 회전구동하고, 조리 받침판은 떼어내어 고주파 가열기구를 작용시킨다.In the case of range cooking, a cooking object is placed on a rotating plate and rotated, and the cooking support plate is removed to operate a high frequency heating mechanism.

오븐조리를 행할 경우에는, 조리 받침대 위에 피조리물을 놓고, 회전 접시는 떼어내어 히터 가열기구를 작용시킨다.When oven cooking is carried out, a cooking object is placed on a cooking stand, and a rotating dish is removed to operate a heater heating mechanism.

이와같이, 별개의 피조리물에 대하여 각각 레인지 조리와 오븐조리를 행하면, 각각의 작용효과를 얻을 수 있기 때문에 각 조리시에 가열이 균일해져, 특별한 문제는 없다.In this way, when the range cooking and the oven cooking are performed on the separate to-be-processed products, respectively, the respective effect is obtained, so that heating becomes uniform during each cooking, and there is no particular problem.

그러나, 피조리물에 따라서는, 레인지 조리를 행한후에 곧 오븐요리로 전환하고, 이것을 연속적으로 행하여 조리할 경우가 있다.However, depending on the to-be-cooked object, it may switch to oven cooking soon after range cooking is performed, and it may carry out this cooking continuously.

이때에, 사용할 때 마다 조리 받침대와 회전 접시를 빼고 넣고하는 것이 불편하기 때문에, 보통 회전 접시는 떼어내어 조리 받침대위에 그 피조리물을 놓고, 예를들어, 레인지 조리를 먼저하고 그후 연속적으로 오븐 조리를 행한다.At this time, since it is inconvenient to remove and put the cooking tray and the rotating dish every time it is used, the rotating dish is usually removed, and the cooked product is placed on the cooking stand, for example, the range cooking is performed first and then the oven cooking is performed continuously. Is done.

당연히, 이러한 조리순서를 역으로 하여 행할 수도 있다.Naturally, this cooking procedure may be reversed.

이러한 연속조리에 있어서는, 본래 히터 가열을 행하기 위해 조리 받침대위에 피조리물을 놓기 때문에, 오븐조리에서의 가열상태가 균일해진다.In such continuous cooking, since an object to be cooked is originally placed on a cooking stand in order to perform heater heating, the heating state in oven cooking becomes uniform.

그러나, 레인지 조리시에는, 고주파 가열에 가장 적합한 위치에 회전 접시를 놓고 있지만 이것을 사용하지 않고 상기 조리받침대를 사용함으로써, 피조리물에 균일한 고주파 가열작용이 불가능해져 가열상태가 불균형해지는 것을 피할 수가 없었다.However, at the time of range cooking, the rotary dish is placed at the position most suitable for high frequency heating, but by using the cooking stand without using this, uniform high frequency heating action is not possible on the cooked object and the unbalanced heating state can be avoided. There was no.

또 조리 받침판을 떼어내고 전술한 회전접시에 피조리물을 놓고 연속조리를 행하는 경우에는 레인지 조리에 문제가 없지만 하부히터가 회전접시에 너무 근접하고 또 상부히터는 회전접시와 멀리 떨어지므로 오븐 조리는 사실상 불가능하다.If the cooking base is removed and the dishes are placed on the rotating plate as described above, the cooking is not a problem in the range cooking. However, since the lower heater is too close to the rotating plate and the upper heater is far from the rotating plate, the oven cooking It is virtually impossible.

이러한 점에서 레인지 조리와 오븐 조리를 연속해서 하는 조리에 있어 조리 받침판에 피조리물을 놓고 히터의 가열효율을 확보하며 또 고주파 가열효율을 어떤 장치로 향상시키는 것이 가능하면 가장 좋은 경우가 된다.In this regard, it is best if it is possible to ensure the heating efficiency of the heater and to improve the high frequency heating efficiency by using a device by placing the workpiece on the cooking support plate in the cooking of the range cooking and the oven cooking continuously.

본 발명은 전술한 고주파 가열작용과 히터의 가열작용을 하나의 조리에서 변환해서 행하는 경우 본래 히터가열용의 조리 받침판위에 피가열물을 놓고 고주파가열작용에 의해 발생되는 가열홈이 불균일하게 되는 것을 방지하며 조리 받침판에 대한 극히 간단한 가공으로 여기에 적재된 피가열물에 대한 불균일한 가열이 전혀 없는 고주파 가열작용을 가능하게 해서 균일한 가열화를 얻는 고주파 가열장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention prevents uneven heating grooves generated by high frequency heating by placing a heated object on a cooking support plate for heating the heater when the above-described high frequency heating and heating are performed in one cooking. It is an object of the present invention to provide a high frequency heating device that enables a high frequency heating operation without any non-uniform heating of the heated object loaded thereon by an extremely simple processing of the cooking support plate, thereby obtaining uniform heating.

즉 본 발명은 고주파 가열기구를 갖춘 가열실의 상하부에 각각 히터를 설치함과 동시에 이들 히터 상호간에 피가열물을 적재하는 금속판으로 된 조리 받침판을 설치해 고주파 가열작용과 히터의 가역작용을 연속적으로 변환이 가능하게 한 것에 있어서, 전술한 조리 받침판의 좌우 양측부에 한쌍의 긴 구멍으로 되는 슬릿부를 개구한 것을 특징으로 하는 고주파 가열장치이다.That is, according to the present invention, a heater is installed on the upper and lower portions of a heating chamber equipped with a high frequency heating mechanism, and a cooking support plate made of a metal plate that loads the heating targets between these heaters is installed to continuously convert the high frequency heating action and the reversible action of the heater. It is a high frequency heating apparatus which opened the slit part used as a pair of long hole in the left and right both sides of the said cooking base plate mentioned above.

또 본 발명은 고주파 가열기구를 갖춘 가열실의 상하부에 각각 히터를 설치함과 아울러 히터 상호간에 피가열물을 적재하는 금속판으로 된 조리 받침판을 배치해 고주파 가열작용과 히터의 가열작용을 연속적으로 변환이 가능하게 한 것에서 전술한 조리 받침판의 좌우 양측부에 한쌍의 긴구멍으로 되는 슬릿부를 개구하며 이 슬릿부는 전술한 고주파 가열기구를 구성하는 여진구의 길이 방향과 동일한 방향으로 길게 개구함과 아울러 그 길이 방향의 치수를 고주파 가열작용을 하는 마이크로파의 대략 1/2 파장정도로 한 것을 특징으로 하는 고주파 가열장치이다.In addition, according to the present invention, a heater is installed on the upper and lower portions of a heating chamber equipped with a high frequency heating mechanism, and a cooking support plate made of a metal plate for loading the heating targets between the heaters is disposed to continuously convert the high frequency heating operation and the heating operation of the heater. In this way, the slit part which becomes a pair of long hole is opened to the left and right both sides of the above-mentioned cooking base plate, and this slit part lengthily opens in the same direction as the longitudinal direction of the excitation hole which comprises the above-mentioned high frequency heating mechanism, and its length The dimension of the direction is about 1/2 wavelength of the microwave which performs a high frequency heating action, The high frequency heating apparatus characterized by the above-mentioned.

또 본 발명은 고주파 가열기구를 갖춘 가열실의 상하부에 각각 히터를 설치함과 아울러 이들 히터상호간에 피가열물을 적재하는 금속판으로 되는 조리 받침판을 배치해 고주파 가열작용과 히터의 가열작용을 연속적으로 변환이 가능하게 한 것에 있어 전술한 조리 받침판의 좌우 양측부에 한쌍의 긴 구멍으로 이루어지는 슬릿부를 개구하며 이 슬릿부는 전술한 고주파 가열기구를 구성하는 여진구와 길이 방향과 같은 방향으로 길게 개구함과 아울러 그 길이 방향의 치수를 고주파 가열 작용을 하는 마이크로파의 대략 1/2 파장정도로 하며 그리고 가열실 양측벽에서 각각 대략 1/4 파장정도로 격리된 위치에 설치한 것을 특징으로 하는 고주파 가열장치이다.In addition, according to the present invention, a heater is provided at the upper and lower portions of a heating chamber equipped with a high frequency heating mechanism, and a cooking support plate made of a metal plate for placing the heated object therebetween is arranged to continuously perform the high frequency heating operation and the heating operation of the heater. In order to enable the conversion, the slit part including a pair of long holes is opened in the left and right both sides of the above-described cooking base plate, and the slit part is opened in the same direction as the excitation port and the longitudinal direction constituting the aforementioned high frequency heating mechanism. The lengthwise dimension is about 1/2 wavelength of microwaves for high frequency heating, and is installed at a position separated by about 1/4 wavelength from each side wall of the heating chamber.

이같은 구성에 따르면 여진구에서 방사되는 마이크로파가 각 슬릿부로 분산되며 게다가 이 좌우의 슬릿부를 기준으로 해서 각각 동일한 수준의 전계를 발생시키므로 좌우의 균형이 이루어져 균일한 고주파 가열작용이 된다.According to such a configuration, the microwaves emitted from the aftershocks are distributed to each slit part, and the left and right slit parts generate the same level of electric field, respectively, so that the left and right are balanced to achieve uniform high frequency heating.

이하 본 발명의 한 실시예를 도면에 의거해서 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, one Example of this invention is described based on drawing.

제1도 및 제2도에서 처럼 도면중 “1”은 고주파 가열장치인 전자 레인지 장치 본체이다.As shown in Figs. 1 and 2, " 1 " in the figure is the main body of the microwave oven which is a high frequency heating device.

이 장치본체(1)의 전면쪽에는 개구부가 설치되며, 이것을 문짝체(2)가 개폐가 자유롭게 폐쇄시킨다.An opening is provided in the front side of the apparatus main body 1, and the door body 2 opens and closes freely.

문짝체(2)의 측부에는 스위치류를 갖춘 조작판(3)이 설치된다.On the side of the door 2, the operation board 3 provided with switches is provided.

전술한 장치본체(1)의 내부에는 가열실(4)이 수용된다.The heating chamber 4 is housed inside the apparatus body 1 described above.

즉 이 가열실(4)은 전술한 문짝체(2)에 의해 개폐되는 개구부를 가지며 다른 둘레면은 장치본체(1)와 소정의 간격을 갖는 내부 용기로 된다.In other words, the heating chamber 4 has an opening which is opened and closed by the door body 2 described above, and the other circumferential surface is an inner container having a predetermined distance from the apparatus body 1.

이 가열실(4)의 윗면벽(4a)상에서 또 뒷부분쪽에는 도파관(5)의 한단부가 적재되며 윗면벽(4a)에 여진구(6)가 개구된다.One end of the waveguide 5 is mounted on the top wall 4a of the heating chamber 4 and on the rear side thereof, and the excitation opening 6 is opened on the top wall 4a.

도파관(5)의 다른 단부는 장치본체(1)의 측벽쪽으로 뻗어나오며 여기에 고주파 발생기인 마그네트론(7)이 부착된다.The other end of the waveguide 5 extends toward the side wall of the apparatus body 1, to which a magnetron 7, which is a high frequency generator, is attached.

그리고 전술한 여진구(6)는 마이크로파가 투과하는 재료로 구성되는 여진커버(8)에 의해 폐쇄된다.The above described excitation opening 6 is closed by an aftershock cover 8 made of a material through which microwaves are transmitted.

그리고 저부에는 모터(9)가 부착되며 이 회전축(9a)은 가열실(4)의 저면벽(4b)을 관통해서 내부의 저부방향으로 돌출한다.A motor 9 is attached to the bottom, and the rotary shaft 9a penetrates the bottom wall 4b of the heating chamber 4 to protrude in the bottom direction therein.

그리고 회전축(9a)에는 회전접시(10)가 탈착이 자유롭게 삽입되어 부착된다.And the rotation plate 10 is detachably inserted and attached to the rotating shaft (9a).

이러한 것으로 고주파 가열기구(11)를 구성한다.This constitutes the high frequency heating mechanism 11.

한편 가열실(4)의 상부쪽에서 그 전후방향의 중심보다도 약간 앞쪽에는 상부 히터(12)가 가열실(4)의 좌우의 측벽(4c)사이에 걸쳐 설치된다.On the other hand, an upper heater 12 is provided between the left and right side walls 4c of the heating chamber 4 slightly above the center in the front-back direction from the upper side of the heating chamber 4.

똑같이 가열실(4)의 하부측에서 그 전후 방향의 중심보다도 약간 앞쪽에는 하부히터(13)가 좌우의 측벽(4c)사이에 걸쳐 설치된다.Similarly, at the lower side of the lower side of the heating chamber 4, slightly lower than the center of the front-back direction, the lower heater 13 is provided over the left-right side wall 4c.

즉 상부 히터(12)는 전술한 여진구와는 떨어진 위치에 있으며 또 하부히터(13)는 모터(9)의 회전축(9a)과 접촉하지 않는 곳에서 그리고 전술한 회전접시와 가열실(4)의 저면벽(4b)과의 사이에 위치하게 된다.That is, the upper heater 12 is located at a position away from the above-described excitation port, and the lower heater 13 is not in contact with the rotating shaft 9a of the motor 9 and the above-described rotary plate and the heating chamber 4 It is located between the bottom wall 4b.

가열실(4)의 양측벽(4c)은 상하방향의 대략 중간부에 각각 안쪽으로 돌출하며 그 윗면이 수평이 되도록 지지돌출부(14)가 일체적으로 꺽여진다.Both side walls 4c of the heating chamber 4 respectively protrude inwardly in the middle part of the vertical direction, and the support protrusions 14 are integrally bent so that the upper surface thereof is horizontal.

즉 이러한 지지돌출부(14)는 전후방향을 따라 설치되어지며 이러한 것의 윗면에 조리받침판(15)을 출입이 자유롭게 지지될 수 있도록 되어 있다.In other words, the support protrusion 14 is installed along the front and rear directions, and the cooking support plate 15 can be freely supported in and out of the upper surface of the support protrusion 14.

전술한 조리받침판(15)은 금속판의 주위단부를 꺽어 직사각형 쟁반모양으로 함과 아울러 표면을 말끔하게 처리한 것으로 그 좌우양쪽단부에는 지지부(16)가 일체로 설치되어 전술한 지지돌출부(14)상에 직접적재되도록 되어 있다.The above-described cooking support plate 15 is a rectangular tray shape by bending the peripheral end of the metal plate, and the surface is neatly processed. Support portions 16 are integrally installed at both left and right ends thereof to support the above-described support protrusion 14. It is intended to be loaded directly into.

그리고 조절받침판(15)의 좌우 양측부에는 후술하는 슬릿부(17)가 설치된다.And the left and right both sides of the adjustment support plate 15 is provided with a slit 17 to be described later.

이러한 것으로 히터가열기구(18)가 구성된다. 다음에 전술한 슬릿부(17)에 대해 설명한다.This constitutes the heater heating mechanism 18. Next, the slit part 17 mentioned above is demonstrated.

제3도 및 제4도에서처럼 약간 윗쪽으로 돌출하는 돌출부(17a)의 안쪽에 설치되며 아래쪽으로 돌출하는 돌출조각(17b)에 의해 형성되는 쪽이 좁은 긴구멍이다.As shown in FIG. 3 and FIG. 4, a narrow long hole is provided inside the protrusion 17a which protrudes slightly upward and is formed by the protrusion fragment 17b which protrudes downward.

다시 제2도에서처럼 슬릿부(17)는 전술한 여진커버(8)의 길이 방향과 동일한 방향, 여기에서는 전후 방향을 따라 설치되며 그 길이방향의 치수는 마이크로파의 파장(λ)의 대략 반(1/2λ)이다.Again, as shown in FIG. 2, the slit portion 17 is provided along the same direction as the longitudinal direction of the excitation cover 8 described above, in the front-rear direction, and the longitudinal dimension thereof is approximately half (1) of the wavelength λ of the microwaves. / 2λ).

이러한 종류의 마이크로파의 고주파는 2.450MH2가 사용되며 파장의 길이는 약 120mm이다.The high frequency of this kind of microwave is 2.450MH 2 and the wavelength is about 120mm.

따라서 1/2파장은 약 60mm이지만 한 실시예로 이것보다는 약간 긴 70mm로 설정한다.Therefore, 1/2 wavelength is about 60 mm, but in one embodiment it is set to 70 mm slightly longer than this.

또 각 슬릿부(17)는 가열실(4)의 각 측벽(4c)에서 1/4파장(1/4λ)정도 떨어진 거리에 설치한다.In addition, each slit 17 is provided at a distance of about 1/4 wavelength (1/4 lambda) from each side wall 4c of the heating chamber 4.

약 30mm정도 떨어지게 된다.It is about 30mm away.

그리고 처음 고주파 가열기구(11)를 동작해서 소위 레인지조리를 하고 이어서 히터가열기구(18)를 작동해서 이른바 레인지조리를 하거나 그와 반대의 연속조리의 경우에는 회전접시(10)는 떼어내고 조리받침판(15)을 부착해 여기에 피가열물인 피조리물(R)을 적재한다.Then, the first high-frequency heating mechanism 11 is operated to cook the so-called range, and then the heater heating mechanism 18 is operated to cook the so-called range, or in the case of continuous cooking to the contrary, the rotary dish 10 is removed and the cooking support plate is removed. Attach (15) and load the cooked material (R) to be heated.

이러한 상태로 레인지조리를 하면 마그네트론(7)에서 발진되는 마이크로파가 도파관(5)을 통해 여진커버(8)로부터 가열실(4)내부로 방사된다.When range cooking is performed in such a state, microwaves oscillated in the magnetron 7 are radiated from the excitation cover 8 into the heating chamber 4 through the waveguide 5.

그리고 마이크로파의 방사상태를 제5도에서 상세히 설명한다.And the radiation state of the microwave will be described in detail in FIG.

도면에서 가열실(4)의 오른쪽상부에 개구하는 전술한 여진구(6)로부터 가열실(4)내부로 발진되는 마이크로파의 주방사파(M0)는 도면중 실선의 화살표가 나타내듯이 조리받침판(15)의 도면에서 좌측부쪽으로 비스듬하게 향한다.In the drawing, the microwave kitchen wave M 0 oscillated into the heating chamber 4 from the above-mentioned excitation opening 6 opening on the upper right side of the heating chamber 4 is indicated by the arrow of the solid line in the drawing. Is obliquely directed to the left in the drawing.

이것은 제6도에서와 같이 복수의 수용실(A-F)로 나누어진 측정용 용기의 각실(A-F)에 예를들면 동일한 양의 물일 넣고 전술한 슬릿부(17)가 설치되어있지않는 조리받침판(15)에 적재해 전술한 고주파 가열기구(11)를 작용해 이것을 가열한다.This is, for example, in each chamber AF of the measuring container divided into a plurality of storage chambers AF as shown in FIG. 6, for example, in the same amount of water, and the cooking support plate 15 without the above-described slit portion 17 installed. ), And the above-described high frequency heating mechanism 11 is operated to heat this.

소정시간 가열한 뒤 각실(A-F)에서는 후술의 표 1과 같은 온도상승이 보여지는 점에서 단정할 수 있다.After heating for a predetermined time, each room A-F can be determined in that temperature rise shown in Table 1 will be described later.

[표 1]TABLE 1

Figure kpo00001
Figure kpo00001

즉 특별히 좌측의 A실 및 D실의 온도상승이 가장 크며 우측의 C실, F실이 다음이고 중앙부의 B실, E실이 최저이다.In other words, the temperature rise of room A and D on the left is the highest, and room C and F on the right are next, and room B and room E on the center are the lowest.

따라서 이 슬릿부가 없는 조리 받침판을 사용하면 좌측만 세게 가열되는 가열상의 결함이 발생한다.Therefore, the use of the cooking support plate without the slit portion causes a heating defect in which only the left side is heated hard.

이에 대해 전술한 슬릿부(17)를 설치한 조리받침판(15)을 사용해 같은 실험을 행하면 표 2와 같은 결과가 얻어진다.On the other hand, when the same experiment is performed using the cooking support plate 15 provided with the slit part 17 mentioned above, the result shown in Table 2 is obtained.

[표 2]TABLE 2

Figure kpo00002
Figure kpo00002

즉 각실(A-F)에 있어서의 최고온도와 최저온도의 차가 적어져 가열효과가 균일화되는 것을 알 수 있다.That is, it turns out that the difference of the highest temperature and the minimum temperature in each room A-F becomes small, and the heating effect becomes uniform.

이것은 전술한 슬릿부(17)를 설치함에 의해 여기를 마이크로파(M3)(M6)가 투과하며 부하가 걸리기 경우의 주방사파의 방향은 전술한 “M0”으로부터 일점쇄선으로 표시되는 M1및 M4의 화살표의 가까운 방향으로 외견상 분산되는 것으로 풀이된다.This is because by installing the above-mentioned slit part 17, microwave M 3 (M 6 ) is transmitted through it, and the direction of the kitchen wave when a load is applied is indicated by M 1 indicated by a dashed line from “M 0 ” described above. And apparently dispersed in a direction close to the arrow of M 4 .

게다가 슬릿부(17)의 길이치수도 가장 마이크로파가 공진하기 쉬운 대략

Figure kpo00003
로 했으므로 전술한 여진구(6)로부터 방사된 마이크로파가 이들 슬릿부(17)로 유도되어져 분산되며 이들을 기준으로 각각 같은 정도의 강한 전계를 발생시킨다.In addition, the length dimension of the slit portion 17 is also approximately the microwave is most likely to resonate
Figure kpo00003
Since the microwaves radiated from the above-mentioned excitation opening 6 are guided to these slit portions 17, they are dispersed and generate strong electric fields of the same degree on the basis of these.

이 강한 전계는 마이크로파에 대한 안테나 작용을 하고 그 주위에 방사시키며, 슬릿부(17)은 좌우에 설치된 곳으로부터, 좌우의 전계의 균형이 잡혀져, 균일한 가열을 할 수 있게 된다.This strong electric field acts as an antenna for the microwaves and radiates around it, and the slit 17 is balanced from the left and right to the electric field on the left and right, thereby enabling uniform heating.

또 가열실(4)내에서는, 그 측면벽(4c)에서부터 약

Figure kpo00004
정도 떨어진 위치가 가장 전계가 강하다는 것은 종래로부터 알려져 있으며, 여기어 상기 슬릿부(17)를 설치하는 것으로되며, 더욱 강한 전계가 얻어진다.Moreover, in the heating chamber 4, about from the side wall 4c.
Figure kpo00004
It is known from the past that an electric field is the strongest in a position far apart, and it is assumed here that the said slit part 17 is provided, and a stronger electric field is obtained.

또한 상기 실시예에 있어서는, 슬릿부(17)의 길이방향의 치수를 마이크로파의 1/2파장보다도 길게 하였지만, 이에 한정되는 것은 아니며, 이 길이방향의 치수를 마이크로파의 1/2파장보다도 조금 작은 치수로 하여도 좋다.In the above embodiment, the length of the slit portion 17 in the longitudinal direction is longer than half the wavelength of the microwave, but the present invention is not limited thereto. The length of the slit portion 17 is slightly smaller than the half wavelength of the microwave. You may make it.

상술한 바와같이 1/2파장은 약 60mm이며, 이것보다도 짧은 50mm정도로 설정한다.As mentioned above, 1/2 wavelength is about 60 mm, and it sets to about 50 mm shorter than this.

그리고 제7도에서 나타나듯이, 조리받침판(15)에 설치한 1/2파장보다도 짧은 슬릿부(17A)를 그 중심이 조리받침판(15)의 중심과 일치할 경우의, 상기 측정용기에 의한 실험결과를 아래의 표 3으로 나타낸다.And as shown in FIG. 7, the experiment by the said measuring container when the center of the slit part 17A shorter than the half wavelength provided in the cooking base plate 15 coincides with the center of the cooking base plate 15, as shown in FIG. The results are shown in Table 3 below.

[표 3]TABLE 3

Figure kpo00005
Figure kpo00005

이 경우, 무부하 상태에서 동작하면, 상기 슬릿부(17A)에서 어느 정도의 전계 집중이 발생하고 마이크로파는 열에너지로 되어 조리받침판(15)을 가열한다.In this case, when operating under no load, some degree of electric field concentration occurs in the slit portion 17A, and microwaves become thermal energy to heat the cooking base 15.

가열되는 것만큼 조리받침판(15)의 하부로 투과하는 마이크로파는 감소하여 전계가 약해지며, 조리받침판(15)에 설치된 지지부(16)와 가열실(4)의 측면벽(4c)과의 접촉부분에 집중하는 전계도 약해진다.The microwaves transmitted to the lower portion of the cooking plate 15 decrease as much as they are heated, and the electric field is weakened, and the contact portion between the support part 16 installed on the cooking plate 15 and the side wall 4c of the heating chamber 4 is reduced. The electric field to concentrate on also weakens.

그러나, 이때의 가열분포 특성을 마이크로파가 슬릿부(17A)를 투과하는 양이 감소하고 있기 때문에, 원래의 주방사파(M0)가 상기 M1방향이나 M2방향으로 분산하기가 어려워지며, 좌측이 강하다는 결과가 된다.However, since the amount of microwaves passing through the slit portion 17A is reduced in the heating distribution characteristic at this time, it becomes difficult for the original kitchen wave M 0 to be dispersed in the M 1 direction or the M 2 direction, This is the result of being strong.

더욱이, 슬릿부(17A)의 길이를 바꾸지 않고 이 중심을 조리받침판(15)의 중심에서부터 20mm(b)정도 위치가 떨어져 있는 곳에 설치한 경우의 상기 측정용 용기에 의한 실험결과를, 아래의 표 4로 나타낸다.Moreover, the test results by the said measuring container when this center is installed in the position about 20 mm (b) away from the center of the cooking base 15 without changing the length of the slit part 17A are shown in the following table. It is represented by 4.

[표 4]TABLE 4

Figure kpo00006
Figure kpo00006

이때에 제8도에 나타나듯이, 조리받침판(15)을 우측면에서 본 경우, 주방사파의 방향이 앞의 M5으로부터 지금의 M6으로 방향변화하고, 마이크로파가 부하(R)를 투과하는 거리가 ℓ1에서 ℓ2로 길어지며, 부하(R)의 온도가 높아진다.At this time, as shown in FIG. 8, when the cooking base plate 15 is viewed from the right side, the direction of the kitchen wave changes from the previous M 5 to the present M 6 , and the distance at which the microwave passes the load R It becomes longer in ℓ 1 to ℓ 2, the higher the temperature of the load (R).

제9도에 나타나듯이, 조리받침판(15)을 좌측에서 본 상태에서는, 주방사파의 방향이 앞의 M7에서부터 지금의 M8으로 방향 변화하여 마이크로파가 부하(R)를 투과하는 거리가 ℓ3에서 ℓ4로 짧아지며, 부하(R)의 온도가 낮아진다.As shown in FIG. 9, in the state where the cooking base 15 is viewed from the left side, the direction of the kitchen wave changes from the previous M 7 to the current M 8 so that the distance at which the microwave passes the load R is 3 At ℓ 4 , the temperature of the load R is lowered.

그리고 각 슬릿부(17A)의 길이를 마이크로파의 1/2파장보다도 조금 작게 했기 때문에, 조리받침판(15) 하부인 지지부(16)와 지지돌출부(14)와의 굴곡부분에 집중하는 전계가 약해지며, 과열이나 스파크의 발생이 없다.And since the length of each slit part 17A was made slightly smaller than 1/2 wavelength of a microwave, the electric field which concentrates on the bending part of the support part 16 and the support protrusion part 14 which are lower part of the support base 15 weakens, There is no overheating or sparking.

Claims (3)

가열실(4)의 상부 및 하부에 각각 배치된 상부 및 하부히터(12,13)와 이들의 상부 및 하부히터 사이에 배치되어 피가열물을 놓는 금속으로된 조리받침판(15)과 전술한 가열실에 마이크로파를 공급하는 고주파 발생부(11)를 갖추며, 고주파 가열작용과 히터 가열작용을 바꿔사용할 수 있도록한 고주파 가열장치에 있어서, 전술한 조리받침판(15)과 대향하는 좌우 양측부에 한쌍의 긴구멍으로 구성되는 슬릿부(17)를 설치한 것을 특징으로 하는 고주파 가열장치.The above-described heating plate 15 made of metal disposed between the upper and lower heaters 12 and 13 and upper and lower heaters disposed above and below the heating chamber 4, respectively, to place the object to be heated. A high frequency heating device having a high frequency generating unit 11 for supplying microwaves to a chamber, and having a high frequency heating action and a heater heating action for use, wherein a pair of pairs are provided on both left and right sides opposite to the cooking support plate 15 described above. A high frequency heating apparatus characterized by providing a slit portion (17) composed of a long hole. 제1항에 있어서, 전술한 가열실(4)은 고주파 발생부(11)로부터 공급되는 마이크로파를 도입하는 여진구(6)를 갖고 있으며, 전술한 슬릿부(17)는 가열실 좌우 양측벽으로부터 각각 전술한 마이크로파의 약 1/4파장 정도 떨어진 위치에서 여진구의 길이방향을 따라 개구되어 있는 것을 특징으로 하는 고주파 가열장치.The heating chamber (4) according to claim 1, wherein the heating chamber (4) has an excitation opening (6) for introducing microwaves supplied from the high frequency generating section (11), and the aforementioned slit portions (17) are respectively formed from the left and right side walls of the heating chamber. A high frequency heating device, characterized in that it is opened along the longitudinal direction of the excitation port at a position about 1/4 wavelength away from the microwave. 제1항 또는 제2항에 있어서, 전술한 가열실(4)는 고주파 발생부(11)로부터 공급되는 마이크로파를 도입하는 여진구(6)를 갖고 있으며, 전술한 슬릿부(17)는 이 여진구의 길이방향을 따라 전술한 마이크로파의 약 1/2파장의 치수로 개구되어 있는 것을 특징으로 하는 고주파 가열장치.The heating chamber (4) according to claim 1 or 2, wherein the heating chamber (4) has an excitation opening (6) for introducing microwaves supplied from the high frequency generating section (11), and the aforementioned slit section (17) has a A high frequency heating device, characterized in that it is opened in the length direction of about 1/2 wavelength of the above-mentioned microwave.
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