KR910007939A - 헤테로사이클릭 화합물 및 이의 제조방법 - Google Patents
헤테로사이클릭 화합물 및 이의 제조방법 Download PDFInfo
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내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (8)
- 일반식(I)의 헤테로사이클릭 화합물 및 약리학적으로 허용되는 이의 염 :상기식에서, l은 정수 0또는 1이고, m은 정수 0, 1 또는 2이며, n은 정수 1 또는 2이며, 단 l및 n의 합은 1 또는 2이며, R1은 수소원자, 저급 알킬 그룹, 일반식의 그룹 또는 일반식 -SO2R4의 그룹이고 A는 산소원자 또는 황원자이고, R2및 R3는 각각 수소원자 또는 저급 알킬 그룹이며, R4는 일반식 -O-R7의 그룹, 니트로 그룹, 할로겐 원자, 시아노 그룹, 트리할로게노-저급 알킬 그룹, 일반식의 그룹, 일반식의 아미노 그룹, 구조식의 그룹, 저급 알킬 그룹 또는 아르알킬 그룹중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환되거나 비치환될 수 있는 아릴 그룹; 저급 알킬 그룹; 아르알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 아릴옥시 그룹; 아르알킬옥시 그룹; 일반식의 그룹; 사이클로알킬 그룹; 또는 구조식의 그룹이고, B는 O 또는 N-OH이고, R5및 R6는 동일하거나 상이할 수 있으며, 각각 수소원자, 저급 알킬 그룹, 아르알킬 그룹 또는 아릴그룹이거나, 이들은 인접한 질소원자와 함께 결합하여 피페리딘 환, 모르플린 환 또는 4위치에서 저급 알킬 또는 아르알킬 그룹에 의해 임의로 치환될 수 있는 피페라진 환을 형성하며, R7은 수소 원자; 저급 알킬 그룹; 아르알킬 그룹; 저급 알킬 그룹 및 할로겐 원자 중에서 선택된 하나 이상의 치환체를 가질 수 있는 아릴 그룹; 또는 아실그룹이고, R8는 아르알킬 그룹; 저급 알킬 그룹 및 할로겐 원자중에서 선택된 하나 이상의 치환체를 가질 수 있는 아릴 그룹; 일반식의 그룹; 하이드록실 그룹; 또는 저급 알콕시 그룹이며, R9및 R10은 동일하거나 상이할 수 있으며, 이들 중 하나는 수소원자 또는 저급 알킬 그룹이고, 다른 하나는 수소원자, 저급 알킬 그룹, 카복실 그룹, 저급 알콕시카보닐 그룹, 아릴카보닐 그룹, 아르알킬 카브닐 그룹, 구조식또는 구조식그룹이며, R11및 R12는 동일하거나 상이할 수 있고, 각각 수소원자, 저급 알킬 그룹, 아르알킬 그룹, 아릴 그룹 또는 사이클로알킬 그룹이거나, 이들은 인접한 질소원자와 함께 결합하여 피루라돈 환, 피페리딘 환, 모르플린 환, 또는 4위치에서 저급 알킬 또는 아르알킬 그룹에 의해 임의로 치환될 수 있는 피페라진 환을 형성한다.
- 하기 일반식의 헤테로사이클릭 화합물 또는 약리학적으로 허용되는 이의 염.상기식에서, l, m, n, R2, R3, B 및 R8은 제1항에서 정의한 바와 같다.
- 하기 구조식의 헤테로사이클릭 화합물 또는 약리학적으로 허용되는 이의 염.
- 하기 구조식의 헤테로사이클릭 화합물 또는 약리학적으로 허용되는 이의 염.
- 하기 구조식의 헤테로사이클릭 화합물 또는 약리학적으로 허용되는 이의 염.
- 유효량의 제1항의 헤테로사이클릭 화합물 또는 약리학적으로 허용되는 이의 염 및 약제학적으로 허용되는 담체를 함유하는 약제학적 조성물.
- 유효량의 제3항, 4항 또는 5항의 헤테로사이클릭 화합물 또는 약리학적으로 허용되는 이의 염 및 약제학적으로 허용되는 담체를 함유하는 약제학적 조성물.
- 반응 도식(1)로 표시되는 아민 합성에 대한 재배열반응, 반응 도식 (2), (3), (4), (5), (6) 또는 (7)로 표시되는 반응, 반응 도식(8)로 표시되는 알킬화 반응, 반응 도식(9)로 표시되는 커플링 반응, 반응 도식(10)으로 표시되는 알킬화 반응, 또는 반응 도식(11) 또는 (12)로 표시되는 반응을 포함하여, 일반식(I)의 헤테로사이클릭 화합물 및 이의 염을 제조하는 방법.상기식에서, l은 정수 0또는 1이고, m은 정수 0, 1 또는 2이며, n은 정수 1 또는 2이며, 단 l및 n의 합은 1 또는 2이며, R1은 수소원자, 저급 알킬 그룹, 일반식 -SO2R4의 그룹이고, A는 산소원자 또는 황원자이고, R2 및 R3는 각각 수소원자 또는 저급 알킬 그룹이며, R4는 일반식 -O-R7의 그룹, 니트로 그룹, 할로겐 원자, 시아노 그룹, 트리할로게노-저급 알킬 그룹, 일반식의 그룹, 일반식의 아미노 그룹, 구조식의 그룹, 저급 알킬 그룹 또는 아르알킬 그룹중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환되거나 비치환될 수 있는 아릴 그룹; 저급 알킬 그룹; 아르알킬 그룹; 저급 알콕시 그룹; 아릴옥시 그룹; 아르알킬옥시 그룹; 일반식의 그룹; 사이클로알킬 그룹; 또는 구조식의 그룹이고, B는 O 또는 N-OH이고, R5및 R6는 동일하거나 상이할 수 있으며, 각각 수소원자, 저급 알킬 그룹, 아르알킬 그룹 또는 아릴그룹이거나, 이들은 인접한 질소원자와 함께 결합하여 피페리딘 환, 모르플린 환 또는 4위치에서 저급 알킬 또는 아르알킬 그룹에 의해 임의로 치환될 수 있는 피페라진 환을 형성하며, R7은 수소 원자; 저급 알킬 그룹; 아르알킬 그룹; 저급 알킬 그룹 및 할로겐 원자 중에서 선택된 하나 이상의 치환체를 가질 수 있는 아릴 그룹; 또는 아실그룹이고, R8는 아르알킬 그룹; 저급 알킬 그룹 및 할로겐 원자중에서 선택된 하나 이상의 치환체를 가질 수 있는 아릴 그룹; 일반식그룹; 하이드록실 그룹; 또는 저급 알콕시 그룹이며, R9및 R10은 동일하거나 상이할 수 있으며, 이들 중 하나는 수소원자 또는 저급 알킬 그룹이고, 다른 하나는 수소원자, 저급 알킬 그룹, 카복실 그룹, 저급 알콕시카보닐 그룹, 아릴카보닐 그룹, 아르알킬 카브닐 그룹, 구조식의 그룹 또는 구조식그룹이며, R11및 R12는 동일하거나 상이할 수 있고, 각각 수소원자, 저급 알킬 그룹, 아르알킬 그룹, 아릴 그룹 또는 사이클로알킬 그룹이거나, 이들은 인접한 질소원자와 함께 결합하여 피루라돈 환, 피페리딘 환, 모르플린 환, 또는 4위치에서 저급 알킬 또는 아르알킬 그룹에 의해 임의로 치환될 수 있는 피페라진 환을 형성하고, R13및 R14각각 저급 알킬, 아릴 또는 아르아킬 그룹이고, X는 할로겐 원자이며, R15는 저급 알킬 그룹이고, R16은 R15와는 상이한 저급 알킬 그룹이고, R17은 수소원자, R15와 동일한 그룹 또는 R16과 동일한 그룹이며, Y1및 Y2는 동일하거나 상이하며, 각각 할로겐 원자 또는 유기 설폰산 잔기이고, R7'은 저급 알킬 그룹, 아르알킬 그룹, 아실 그룹이거나, 또는 저급 알킬 그룹 및 할로겐 원자로 이루어진 그룹중에서 각각 독립적으로 선택된 하나 이상의 치환체를 가질 수 있는 아릴 그룹이며, R18은 저급 알킬 그룹이고, m'은 1또는 2이다.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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