KR910005189Y1 - Electron gun of crt - Google Patents
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Abstract
내용 없음.No content.
Description
제 1 도는 종래의 전자총을 개략적으로 나타낸 일부 절제 측면도.1 is a partial ablation side view schematically showing a conventional electron gun.
제 2 도는 본 고안에 따른 음극선관용 전자총을 개략적으로 나타낸 일부절제 측면도.2 is a partial ablation side view schematically showing an electron gun for a cathode ray tube according to the present invention.
제 3 도는 제 2 도에 도시된 음극선관용 전자총의 집속전극과 애노드전극의 렌즈형성공 및 전극간의 간격에 의한 빔스포트 경의 크기를 나타낸 것이다.FIG. 3 shows the size of the beam spot diameter due to the distance between the lens forming hole and the electrode of the focusing electrode and the anode of the cathode ray tube electron gun shown in FIG.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
K : 캐소오드 G3: 집속전극K: cathode G 3 : focusing electrode
G4: 포커스전극 G5: 애노드전극G 4 : Focus electrode G 5 : Anode electrode
D3,D5: 렌즈형성공D 3 , D 5 : Lens forming hole
본 고안은 음극선관용 전자총에 관한 것으로서, 상세하게는 유니포텐셜형 전자총을 구성하는 전극간의 간격을 적절하게 조정하여 빔의 구면수차를 개선하는 한편 폭넓은 사용 전류 영역에서 일정한 포커스전압에 의해 형광면상에 랜딩되는 빔스포트를 작게하여 형광면의 해상도를 향상시킬 수 있도록 한 것에 관한 것이다.The present invention relates to an electron gun for a cathode ray tube. Specifically, the spherical aberration of the beam is improved by appropriately adjusting the spacing between the electrodes constituting the unpotential electron gun, and on the fluorescent surface by a constant focus voltage in a wide range of current ranges. The present invention relates to reducing the spot of the landing beam to improve the resolution of the fluorescent surface.
일반적으로 전자총에 있어서, 형광면에 랜딩되는 빔스포트의 크기를 결정하는 요인으로서는 빔 크로스오버상의 크기, 전자렌즈의 수차, 공간전하의 상호 반발효과등을 들 수 있다.In general, in the electron gun, factors for determining the size of the beam spot landing on the fluorescent surface include the size of the beam crossover image, the aberration of the electron lens, and the mutual repulsion effect of the space charge.
상기의 요인들은 주로 렌즈의 배율 및 전극에 인가하는 전압에 의하여 결정되게 되는데 상기 빔스포트의 크기는 화면의 해상도와 밀접한 관계가 있으므로 보다 적은 빔스포트를 얻기 위하여 많은 개선안이 제시되고 있다.The above factors are mainly determined by the magnification of the lens and the voltage applied to the electrode. Since the size of the beam spot is closely related to the resolution of the screen, many improvements have been proposed to obtain a smaller beam spot.
이에 따른 종래의 유니포텐셜형 전자총은 제 1 도에 도시된 바와 같이 전치 삼극관부를 이루는 캐소오드 및 원통형의 G1전극, G2전극과 보조렌즈 및 주렌즈를 이루는 G3전극, G4전극 및 G5전극을 각각 일정한 간격으로 동일 축상에 순서대로 정열하고 각 전극에는 소정의 전압을 인가하되 상기 G3전극과 G5전극에는 양극전압(VB)을 인가하는 한편 상기 G4전극에는 포커스 전압(Vf)를 인가한 것이다.Accordingly, the conventional unpotential electron gun has a cathode and a cylindrical G 1 electrode constituting the front triode, a G 3 electrode constituting a G 2 electrode and an auxiliary lens and a main lens, a G 4 electrode, and a G as shown in FIG. The electrodes are arranged in order on the same axis at regular intervals, and a predetermined voltage is applied to each electrode, while a positive voltage VB is applied to the G 3 and G 5 electrodes while a focus voltage Vf is applied to the G 4 electrodes. ).
여기에서 상기 포커스 전압(Vf)은 전자총의 포커스 특성에 매우 큰 영향을 미친다. 즉 빔스포트 경은 빔전류 및 포커스 전압에 따라 변화하게 되는데 빈 전류가 증가하게 되면 빔스포트 경은 커지는 반면에 빔 전류가 일정하면 빔스포트경은 포커스 전압(Vf)에 따라 변화하게 되고 소정의 포커스 전압(Vf)에서 최소가 된다. 이 때의 전압을 최적 포커스 전압이라 한다. 여기에서 G4전극(포커스 전극)에 가해지는 전압이 상기 최적 포커스전압보다 크거나 작으면 빔스포트 경은 커지거나 상퍼짐(Halo)이 발생하게 되는 것이다. 그리고 상기 G4전극에 최적의 포커스 전압(Vf)을 인가하여도 주렌즈를 이루는 G3전극의 출사측과 G5전극의 입사측과의 간격(1)이 적당하지 않으면 빔의 구면수차가 커지게 되어 빔 스포트의 크기가 사용 전류 영역에서 최소화되지 않아 고해상도를 실현할 수 없게 되는 것이다.Here, the focus voltage Vf greatly affects the focus characteristic of the electron gun. That is, the beam spot diameter changes according to the beam current and the focus voltage. When the empty current increases, the beam spot diameter increases, while if the beam current is constant, the beam spot diameter changes according to the focus voltage Vf and the predetermined focus voltage Vf. ) Is the minimum. The voltage at this time is called an optimum focus voltage. In this case, when the voltage applied to the G 4 electrode (focus electrode) is larger or smaller than the optimum focus voltage, the beam spot diameter becomes large or a halo occurs. Even if the optimal focus voltage Vf is applied to the G 4 electrode, the spherical aberration of the beam becomes large if the distance 1 between the exit side of the G 3 electrode constituting the main lens and the incidence side of the G 5 electrode is not appropriate. As a result, the size of the beam spot is not minimized in the use current region, so that high resolution cannot be realized.
따라서 본 고안은 전자총을 구성하는 전극들에 의하여 형성된 전자렌즈를 통과하는 빔의 구면수차를 감소시키고 사용전류영역에서 형광면상에 랜딩되는 빔 스포트경을 매우 적게 형성할 수 있도록 된 음극선관용 전자총을 제공함에 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention provides an electron gun for cathode ray tube which can reduce the spherical aberration of the beam passing through the electron lens formed by the electrodes constituting the electron gun and form a very small beam spot mirror landing on the fluorescent surface in the use current region. Has its purpose.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 고안은 전치삼극관부를 이루는 캐소오드, G1전극, G2전극과 보조렌즈 및 주렌즈를 이루는 집속전극, 포커스전극 및 애노드 전극을 포함하는 한편, 상기 집속전극과 애노드 전극에는 등전위의 전압을 인가하고 상기 포커스 전극에는 상기 등전위 전압보다 낮은 포커스 전압을 인가함과 아울러 상기의 각 전극에는 렌즈 형성공이 형성된 전자총에 있어서, 상기 집속 전극의 입사측면과 애노드전극의 입사측면에 형성되는 렌즈형성공의 직경을 각각 D3,D5라 하고 상기 전극간의 간격을 L35라 할 때, In order to achieve the above object, the present invention includes a cathode, a G 1 electrode, a G 2 electrode, an auxiliary lens, and a focusing electrode, a focus electrode, and an anode electrode forming a main lens, and the focusing electrode and the anode. In an electron gun in which an equipotential voltage is applied to an electrode, a focus voltage lower than the equipotential voltage is applied to the focus electrode, and a lens forming hole is formed in each of the electrodes, the incident side of the focusing electrode and the incident side of the anode electrode. When the diameter of the lens forming hole formed in the D 3 , D 5 and the spacing between the electrodes is L 35 ,
*1.2≤χ≤2.0으로 표현되는 식을 만족하도록 하는 점에 그 특징이 있다.Its characteristic is that it satisfies the expression represented by * 1.2≤χ≤2.0.
이하 첨부된 도면에 의하여 본 고안을 더욱 상세하게 설명하면 다음과 같다. 제 2 도에는 본 고안에 따른 음극선관용 전자총이 도시되어 있는 바, 이는 유니 포텐셜 포커스 방식으로 전치 삼극관부를 이루는 캐소오드, G1전극, G2전극 및 전자빔을 집속 및 가속하는 원통형의 집속전극(G3), 포커스전극(G4) 및 애노드 전극(G5)이 순서대로 정열되는 한편 상기의 각 전극에는 렌즈 형성공이 형성되되, 집속전극(G3)의 입사측면과 애노드 전극(G5)의 입사측면에는 각각 원형의 렌즈 형성공의 직경(D3),(D5)이 형성된 것이다. 그리고 집속전극(G3)의 출사측과 애노드전극(G5)의 입사측은 일정한 간격(l35)을 유지하되, 결정하는 식 χ=l35/[(D3+D5)/2]으로 표현되는 식에서 값 χ는 1.2∼2.0범위내에 있도록 하여야 한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. 2 shows a cathode gun for a cathode ray tube according to the present invention, which comprises a cathode, a G 1 electrode, a G 2 electrode, and a cylindrical focusing electrode for focusing and accelerating an electron beam in a unipotential focusing manner. 3 ), the focus electrode G 4 and the anode electrode G 5 are arranged in order, and lens forming holes are formed in each of the electrodes, and the incident side of the focusing electrode G 3 and the anode electrode G 5 are arranged. On the incidence side surface of each of the diameters (D 3 ), (D 5 ) of the circular lens forming holes are formed. The exit side of the focusing electrode G 3 and the incidence side of the anode electrode G 5 are maintained at a constant distance (l 35 ), and are determined by the equation χ = l 35 / [(D 3 + D 5 ) / 2]. In the equation expressed, the value χ should be in the range 1.2 to 2.0.
이는 집속전극(G3)와 애노드전극(G5)에 형성된 렌즈 형성공(D3),(D5)과 이들 전극의 간격(l35)을 적절하게 조절함으로써 빔의 구면수차를 감소시켜 빔스포트의 경을 극소화할 수 있게 하는 것이다.This reduces the spherical aberration of the beam by appropriately adjusting the lens forming holes (D 3 ), (D 5 ) formed in the focusing electrode (G 3 ) and the anode electrode (G 5 ) and the spacing (l 35 ) of these electrodes. It is to minimize the scene of the spot.
상기한 일반식은 본 고안자의 반복실험에 의해 제 3 도에 도시된 선도를 얻은 것으로서 예를 들어, 집속전극(G3)의 구멍경(D3)=3.4mmψ 집속전극(G3)과 애노드 전극사이의 간격(l35)=5.89mm 애노드전극(G5)의 구멍경(D5)=4.0mmψ빔포스트 경을 결정하는 렌즈형성공의 크기와 전극간의 간격이 상기와 같은 값을 가질 때에 상기식에 대입하면, Wherein the general formula For example, the hole diameter of the focusing electrode (G 3) (D 3) = 3.4mmψ focusing electrode (G 3) and the anode electrode as by repeated experiments of the present inventor obtained the diagram illustrated in FIG. 3 the time interval (l 35) = 5.89mm anode hole diameter (D 5) = 4.0mmψ distance between the electrode and the size of the lenticular success in determining the beam diameter of the post (G 5) has a value between the same and the Substituting in an expression,
1.59의 값을 얻을 수 있다. 이는 제 3 도에 도시된 선도에서 알 수 있듯이, 빔스포트를 결정하는 l35/[(D3+D5)/2]의 값 즉, χ가 1.5∼1.6의 범위에서 양질의 빔스포트를 얻을 수 있으며 1.2 이하에서는 주렌즈를 통과하는 빔단면을 크게하여 형광면에 랜딩되는 빔스포트가 크게 된다. 반대로 2.0이상에서는 빔의 구면수차가 커져 이에 따른 비집속 현상으로 빔스포트가 확산하게 된다.You get a value of 1.59. As can be seen from the diagram shown in FIG. 3, it is possible to obtain a good beam spot in the range of l 35 / [(D 3 + D 5 ) / 2] that determines the beam spot, that is, χ in the range of 1.5 to 1.6. In 1.2 or less, the beam cross section passing through the main lens is enlarged to increase the beam spot landing on the fluorescent surface. On the contrary, the spherical aberration of the beam becomes larger than 2.0, and the beam spot diffuses due to the non-focusing phenomenon.
상기와 같은 본 고안은 음극선관용 전자총을 이루는 집속전극과 애노드전극의 간격 및 렌즈형성공의 크기를 적절하게 조절하여 전자렌즈를 통과하는 빔의 구면수차 및 형광면에 랜딩되는 빔스포트를 최상의 상태를 유지할 수 있도록 함으로써 선명한 화질의 음극선관을 실현할 수 있게 한다.The present invention as described above maintains the best state of the spherical aberration of the beam passing through the electron lens and the beam spot landing on the fluorescent surface by appropriately adjusting the distance between the focusing electrode and the anode electrode and the size of the lens forming hole forming the electron gun for cathode ray tube By making it possible, a cathode ray tube of vivid image quality can be realized.
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