KR910002229B1 - 레이저 장치 - Google Patents

레이저 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR910002229B1
KR910002229B1 KR1019870013766A KR870013766A KR910002229B1 KR 910002229 B1 KR910002229 B1 KR 910002229B1 KR 1019870013766 A KR1019870013766 A KR 1019870013766A KR 870013766 A KR870013766 A KR 870013766A KR 910002229 B1 KR910002229 B1 KR 910002229B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mirror
laser device
laser beam
magnifying
film
Prior art date
Application number
KR1019870013766A
Other languages
English (en)
Other versions
KR880008477A (ko
Inventor
고지 야스이
마사야끼 다나까
시게노리 야기
마사끼 구스모또
Original Assignee
미쯔비시덴끼 가부시끼가이샤
시기 모리야
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP62100782A external-priority patent/JP2660335B2/ja
Priority claimed from JP62220772A external-priority patent/JPS6464278A/ja
Priority claimed from JP62230715A external-priority patent/JPS6473686A/ja
Application filed by 미쯔비시덴끼 가부시끼가이샤, 시기 모리야 filed Critical 미쯔비시덴끼 가부시끼가이샤
Publication of KR880008477A publication Critical patent/KR880008477A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR910002229B1 publication Critical patent/KR910002229B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

내용 없음.

Description

레이저 장치
제1도는 본 발명의 1실시예에 따른 레이저 장치의 단면도.
제2도 a 및 제2도 b는 종래의 레이저 장치와 본 발명의 제1도에 도시한 실시예의 집광 특성도.
제3도는 스포트 직경과 위상차, 파워 집중도와 위상차의 관계도.
제4도 내지 제8도는 본 발명의 각각의 다른 실시예에 따른 레이저 장치의 단면도.
제9도는 위상차와 부분 반사막의 두께 사이의 관계와 부분 반사막의 두께와 확대 미러의 중앙 부분의 투과율사이의 관계도.
제10도 내지 제23도는 본 발명의 각각의 또 다른 실시예에 따른 레이저 장치의 단면도.
제24도는 종래의 레이저 장치의 단면도.
본 발명은 레이저 장치, 특히 큰 출력 레이저 장치에 있어서 레이저 빔의 품질의 개량에 관한 것이다.
제24도는 레이저 핸드 북(1979, North-Holland Publishing Company)에 기재된 종래의 불안정형 공명기를 갖는 레이저 장치의 단면도이다. 제24도에서는 오목 미러인 조준 미러(1)과 조준 미러(1)에 대향하여 배열된 볼록 미러인 확대 미러(2)로 구성된 전반사 미러 시스템이 배열되어 있다. (3)은 레이저 매질로서, CO2레이저등의 가스 레이저를 예를 들면 방전등에 의해 여기된 가스 매질이나 레이저가 YAG레이저등의 고체 상태의 레이저일 때 플래시 램프등에 의해 여기되어야 할 가스 매질이어도 좋다. (4)는 무반사 코팅(5)를 갖는 볼록윈도우 미러, (6)은 전반사 미러를 덮어 씌운 상자, (7)은 출력빔으로서 확대 미러(2) 주위의 윈도우 미러(4)를 통해 광공명기내에 발생된 레이저 빔이다.
다음에 동작에 대하여 설명한다. 미러(1)과 (2)는 불안정형 공명기를 구성하고, 확대 미러(2)에 의해 반사확대된 레이저 빔은 레이저 매질(3)에 의해 증폭되고 조준 미러(1)에 의해 평행빔으로 조준되어 확대 미러(2) 및 미러 주변부위에 반사되어 링형상의 빔(8)로써 윈도우 미러(4)의 외부로 유도된다. 출력빔(8)은 실질적으로 코히어런트(Coherent)이므로, 렌즈에 의해 집광된 중앙 부분에서 가장 높은 빔 에너지 밀도를 갖게 되므로 철판 등의 절삭 또는 용접에 효율좋게 사용할 수가 있다.
집광의 정도는 링 형상의 레이저 빔의 내측 직경과 우측 직경의 비율, 즉 배율(이하 M값이라 한다.)에 의존하고, M값이 클수록, 즉 집광된 빔의 중앙부분의 에너지 밀도가 높을수록 보다 좋은 집광이 되는 것이다. 그러나, M값이 너무 크면 발진 효율이 현저하게 저하되므로, M값의 상한은 실질적으로 2정도이다. 따라서, M값의 최대 값이 한정되어 있으므로, 최대의 집광을 얻는 것은 불가능하였다. 또, 윈도우 미러(4)는 링 형상을 갖는 출력 레이저 빔에 의해 불균일하게 가열되므로, 불균일한 내부 응력이 윈도우 미러(4)내에 발생하여 통과하는 레이저 빔의 위상분포를 변화시켜서 집광 성능을 저하시키는 등의 문제점이 있었다.
본 발명의 목적은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로 발진 효율의 저하를 초래하지 않고 무한대에 가까운 M값을 갖는 고품질의 레이저 빔을 유도할 수 있는 레이저 장치를 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 레이저 장치는 확대 미러에 부분 투과성을 갖게 하고, 확대 미러와 미러 주변부로 반사된 2개의 빔부분을 서로의 위상차를 상쇄시켜서 외부로 유도하는 것이다.
본 발명에서 사용된 확대 미러는 레이저 빔의 일부를 투과시키는 것에 의해 그 빔 형상을 종래의 링 형상에서 중심으로 집광시킨 형상의 레이저 빔으로서 유도할 수가 있다.
이하, 본 발명의 실시예를 도면에 따라서 설명한다.
제1도에서, (4)는 윈도우 미러의 기능을 갖는 볼록 미러이다. 볼록 미러(4)는 조준 미러(1)에 대향하는면의 중앙부에 부분 반사율을 갖는 부분 반사막(20)이 마련되어 윈도우 미러의 중앙부는 확대 미러로서 작용한다.
볼록 미러(4)의 면의 중앙부이외의 다른 부분 및 양쪽면은 두 반사막(5)로 코팅되어 있다.
다음에 동작에 대하여 설명한다. 조준 미러(1)과 볼록 미러(4)의 반사막(20)은 불안정형 공명기를 구성하고, 볼록 미러(4)의 반사막(20)에 의해 반사되어 확대된 레이저 빔(7)은 레이저 매질(3)에 의해 증폭되어 조준 미러(1)에 의해 평행으로 조준되고, 볼록 미러(4)를 통해서 출력 레이저 빔(8)로서 출력된다. 출력레이저 빔(8)은 부분 반사막(20)을 통과하는 부분과 무반사막(5)를 통과하는 부분으로 되어 있다. 부분 반사막(20)을 통과하는 부분은 부분 투과성을 가지므로, 출력레이저 빔(8)의 단면패턴은 링 형상이 아니고, 종래의 불안정 공명기에서 정의된 M값에 대응하는 환형상으로 된다.
제2도 a 및 제2도 b는 각각 CO2레이저에서 종래의 기술과 본 발명의 불안정 공명기를 사용하여 발생된 레이저 빔을 렌즈로 집광시킨 경우의 패턴 형상을 그래프로 나타낸 특성도로써, 가로축은 광축에서의 거리, 세로축은 빔 강도를 각각 나타낸다.
제2도 a 및 제2도 b에서, 본 발명의 공명기와 종래의 공명기의 발진 특성을 대략 동일하게 하기 위하여 반사막의 반사율을 50%로서 선택하고, 반사막(20)의 직경과 빔의 바깥직경의 비를 1.5로 선택하였다. 즉 본 발명의 불안정 공명기는 확대 미러(2)의 투과율이 50%인 것을 제외하고 M값이 2인 종래의 공명기와 같다.
볼록 미러(4)의 양면의 곡률 반경은 일정한 두께로 형성하는 것에 의해 동일하게 되며, 레이저 빔(8)이 볼록 미러(4)를 통과한 후에도 평행하게 되도록 한다. 제2도 a 및 제2도 b에 도시한 집광 성능을 비교하면, 제2도 b에 도시한 바와 같이 본 발명에서는 중앙부분에서 빔 강도가 높고 광축 상에 집중한다는 것을 알 수 있다.
중앙 부분에서 주 로브가 전체 레이저 파워의 80%를 포함한다는 것을 확인하였으며, 이는 종래의 불안정공명기에서의 M값이 무한대에서의 이론치인 80%에 대략 대응하는 값이다. 따라서, 본 발명에 의하면 이론한계에 가까운 집광성이 얻어진다는 것을 알 수 있다.
본 실시예에서는 무반사 코팅 막(5)를 통과하는 레이저 빔과 부분 반사막(20)을 통과하는 레이저 빔 사이의 위상변동의 차가 작으므로, 집광성이 좋고 위상이 대략 일정한 출력레이저 빔(8)을 얻을 수가 있다. 그러나, 부분반사막(20)의 굴절율을 증가시키고 부분반사막의 두께를 크게하는 경우에는 양자의 사이에서 발생하는 위상차에 의해 집광 성능이 악화된다.
제3도는 집광 점에서의 광축상의 빔 강도가 1/2e2배로 되는 점의 레이저 빔 직경 즉 집광된 광의 스포트 직경 및 그 직경내에 포함된 레이저 파워의 전체에 대한 비율, 즉 파워 집중도와 위상차의 관계를 도시한 그래프이며, 가로축은 위상차(degree), 세로축은 집광 스포트 직경(μm)과 파워 집중도(%)를 나타낸다. 제3도에서, 곡선 A는 집광 스포트 직경과 위상차의 관계를 나타내고, 곡선 B는 파워 집중도와 위상차의 관계를 나타내며, M값은 1.5이고, 확대 미러의 부분 투과성은 50%이다.
곡선 A와 B는 공명기에서 발생된 레이저 빔의 파동 계산과 집광점에서의 강도 분포의 계산에 따라 얻어진다. 일반적으로 스포트 직경이 작고 파워 집중도가 큰 것을 집광성이 양호하다고 판정한다. 제3도에서, 위상차가 0°에서 약 45°범위내의 값으로 감소할 경우, 파워집중도와 스포트 직경도 양호한 결과가 얻어진다. 그러나, 위상차가 100°이상인 경우, 스포트 직경이 현저하게 악화되고, 집광성능이 악화된다. 이와 같은 경우, 제4도 b에 도시한 바와 같이 조준 미러(1)의 중앙 부분의 반사막(20)과 동일 직경의 부분에, 또는 제4도 a에 도시한 바와 같이 조준 미러(1)의 중앙부분이외의 부분에 금속 반사막(10)을 마련하여 그 두께가 위상차를 상쇄하도록 구성하면 좋다. 예를 들면, 레이저 빔의 위상이 반사막(20)을 통과하는 경우에 코팅막(5)를 통과하는 경우보다 위상이 0°앞선 경우에, 금속막(10)의 두께 d는
Figure kpo00001
로 계산되며, λ는 레이저 빔의 파장이다.
또한, 조준 미러(1)의 중앙 부분의 반사막(20)과 동일직경의 오목부(제5도 a)나 볼록부(제5도 b)의 단차부(11)을 마련하거나, 제6도 a 및 제6도 b에 도시한 바와 같이 볼록 미러(4)에 단차부(40)을 마련하는 것에 의해 동일 효과를 얻을 수가 있다. 제6도 c 및 제6도 d는 볼록 미러(4)의 중앙 부분과 볼록 미러(4)의 중앙 부분의 바깥측에 각각 박막(44)를 형성하는 것에 의해 단차부(40)이 형성된 실시예를 도시한 것이다. 단차부의 높이나 깊이는 식(1)에 따라 결정된다.
또, 제7도에 도시한 바와 같이 중앙 부분에 반사막(20)을 갖는 오목 미러(41)을 사용하는 것에 의해 환상 패턴을 얻을 수가 있다. 제7도에서, 레이저 빔은 조준 미러(1)과 오목 미러(41)로 구성된 공명기내에서 집광된 후 반사막(20)에 의해 주어지는 부분 투과율을 갖는 확대 미러로서 확대된다.
제4도 내지 제7도에서, 공명기는 설명의 간략화를 위해 주변을 덮은 상자를 생략하고 도시하였다. 또, 이 실시예에서는 확대 미러와 윈도우 미러를 일체로해서 도시하였으며, 종래의 공명기와 같이 오목 또는 볼록 윈도우 미러상에 부분투과율을 갖는 확대 미러를 마련하는 것도 가능하다.
제8도는 확대 미러의 다른 실시예를 도시한 것으로, (4)는 볼록 윈도우 미러이다. 볼록 미러(4)는 양면이 무반사 코팅막(5)로 코팅되어 있으며, 볼록 미러(4)의 내측 면의 코팅막(5)의 중앙 부분에는 조준 미러(1)에 대향해서 높은 굴절 막 유전체막(520)이 코팅되어 있다. 즉, 중앙 부분은 부분 반사율을 갖는 확대 미러로서 되어 있다.
CO2레이저의 경우, 볼록 미러(4)는 ZnSe(굴절률 2.4), 무반사 코팅막(5)는 낮은 굴절 재료로서 PbF2(굴절률 1.55), 막(520)은 ZnSe(굴절률 2.4)로 이루어져 있다.
확대 미러의 중앙 부분을 형성하는 것은 제8도에 도시한 바와 같이, 산업적인 방법으로 미러의 양면을 무반사 재료로 코팅하고, 내측 면의 중앙 부분을 유전체 막(520)으로 코팅하면 상대적으로 쉽게 실현할 수 있다. 이러한 경우에, 유전체막(520)의 두께는 굴절과 확대 미러 및 다음의 바깥측 부분을 통과하는 레이저 빔 사이의 위상차에 의해 결정된다.
제9도는 위상차와 무반사막상의 유전체막의 두께 사이의 관계와 무반사 막 상의 유전체 막의 두께와 1.7μm두께의 무반사막(PbF2)의 중앙 부분상의 높은 굴절 막(ZnSe)에 의해 형성되며, 높은 굴절 막과 동일재료로 기판의 내측면 위에 형성된 확대 미러의 중앙 부분의 투과율 사이의 관계를 도시한 것이다. 제9도에서, 예를 들면 제2도에 도시한 특성을 얻기 위해 투과율을 50%, 위상차를 45°이하로 하였으므로, 높은 굴절막의 두께는 약 7.5μm로 해야 한다는 것을 알 수 있다.
제8도에서 무반사 코팅을 단일층으로 형성하였지만, 다층 코팅으로 형성하여도 좋다. 제10도는 두개의 층(51) 및 (52)로 구성된 다층 코팅을 도시한 것이다. 층의 수는 임의로 한다. 또, 제11도에서 (5201)과 (5202)로 나타낸 바와 같이 여러개의 막을 중앙 부분에 형성할 수도 있다. 그러나, 고출력 레이저의 경우에, 층중의 적어도 하나를 흡수율이 최소인 미러(4)의 기판과 동일재료로 형성하는 것이 바람직하다.
제12도에 도시한 바와 같이, 확대 미러는 볼록 미러(4) 대신에 오목 미러(41)로 형성할 수도 있다.
다음에, 제13도에 도시한 바와 같이 확대 미러를 윈도우 미러(볼록 미러)(4)의 내측면의 중앙 부분에 코팅하지 않은 영역(620)을 마련하는 것에 의해 형성하여도 좋다. 더욱 상세히 설명하면, 미러에 의해 흡수된 레이저 빔의 실질적인 부분이 코팅막에 의해 흡수되는 것은 흡수율이 실질적으로 기판 재료보다 큰 미세 입자의 결합체로서 증기에 의해 형성되기 때문이다.
따라서, 제13도에 도시한 바와 같이, 레이저 빔의 실질적인 부분이 코팅되지 않은 부분을 통하여 유도될때, 미러(4)에 의한 레이저 빔의 흡수는 최소화되고 미러의 왜곡이 최소화되는 것에 의해 고출력 레이저 빔을 안전하게 유도할 수 있다.
잘 알려진 바와 같이, 코팅막(5)와 코팅되지 않은 부분(620)을 통과하는 레이저 빔의 사이의 위상차가 있을 때, 좁은 영역에서 출력 레이저 빔을 조준하는 것은 불가능하다. 그러나, 본 발명에 의하면, 양쪽 빔이 결합되어 그러한 위상차가 일반적으로 매우 작다. 예를 들면, 한쪽이 ZnSe이고, 다른쪽이 ThF4(굴절률 1.35)인 2개층으로 구성된 무반사 코팅(5)와 ZnSe으로 구성된 윈도우 미러를 갖는 CO2레이저에서, 중앙부분(620)보다 코팅막(5)를 통과한 빔 부분의 위상이 17°앞선다. 제3도에 따르면, 17°보다 작은 위상차는 실질적으로 접속을 실행하는데 영향이 없다.
상술한 실시예에서는 확대 미러로서 볼록 미러를 사용하였지만, 제14도에 도시한 바와 같이 확대 미러로서 오목 미러를 사용할 수도 있다.
제15도는 확대 미러를 통과하는 레이저 빔과 확대 미러의 바깥측 영역사이의 위상차를 상쇄하기 위한 다른 수단을 도시한 것이다. 제15도에서, (4)는 윈도우 미러를 겸한 볼록 미러이고, 조준 미러(1)에 대향하는 그의 면의 중앙부분에 부분 반사율을 갖는 부분 반사막(20)이 확대 미러로서 형성되어 있다. 또, 부분 반사막(20)의 다른 면과 그의 한쪽면의 중앙부분을 둘러싸는 링형상부분에 무반사 코팅막(5)가 마련되어 있다. 무반사막(5)에 의해 코팅된 양면과 중앙 단차부(200)을 갖는 위상 보상 미러(400)은 볼록 미러(4)와 조준 미러(1)사이에 배치되어 있다.
레이저 빔(7)의 빔 부분(70) 및 (71)은 각각 반사막(20)과 윈도우 미러(볼록 미러)(4)의 무반사막(5)를 통하여 유도된다. 레이저 빔의 위상 변동은 그것이 통과하는 여러개의 코팅막에 의존하므로, 공명기내에서 레이저 빔(7)은 위상 보상 미러(400)없이 공간 위상 분포를 갖는 레이저 빔으로서 유도된다.
위상 보상 미러(400)은 이러한 위상차를 제거한다. 제15도의 실시예에서, 레이저 빔 부분(70) 및 (71)이 통과하는 영역 사이의 보드선(700)에 대응하는 위상 보상 미러(400)의 일부분은 영역 사이의 위상 보상 미러의 두께 차이를 마련하도록 단차부(200)을 형성하기 위하여 단차를 나타내었다. 예를 들면, 윈도우 미러(4)의 내측면 위의 부분 반사막을 통과하는 레이저 빔 부분에 부여된 위상이 반사막(5)를 통과하는 레이저 빔의 부분보다 δ(degree)앞선다고 가정한다.
이러한 위상차를 보상하기 위해 위상 보상 미러(400)의 단차부(200)의 깊이 d는 다음식에 의해 구해진다.
Figure kpo00002
여기서, n은 위상 보상 미러(400)의 재료의 굴절률, λ는 레이저 빔의 파장이다.
상기 실시예에서는 위상 보상 미러로서 투과형 미러를 사용했지만, 반사형 미러를 사용하여도 좋다.
제16도는 위상 보상 미러로서 반사형 미러(500)을 사용한 실시예를 도시한 것이다. 이 경우에서는 레이저 빔을 직선으로 편향되게 발생시킬 수 있으며, 고정밀 가공등과 같이 레이저 장치외부에서 직선으로 편향된 빔을 원형으로 편향된 빔으로 변환하여 사용할 수 있다.
위상 보상 미러의 위치는 공명기내에 한정되지 않는다.
제17도 및 제18도는 공명기의 외부에 위치한 위상 보상 미러의 다른 배열을 도시한 것이다.
상술한 실시예에서 위상은 위상 보상 미러의 단차부에 의해 변환된다. 따라서, 그러한 위상 변화는 제19도에 도시한 바와 같이 다른 특성을 갖는 무반사막(5) 및 (55)를 사용하여 마련할 수 있다. 예를 들면 CO2레이저 용의 미러를 예로하면, ZnSe기판위에 단일 PbF2층이나 ZnSe층과 ThF4층의 이중 층의 구조를 사용하여 무반사 코팅막을 마련할 수 있으며, 이 경우에 위상차는 20°이상이다.
어떤 경우이든 확대 미러의 중앙 부분과 그 주변부를 통과하는 빔 사이의 위상차를 적절하게 보상하도록 위상차가 생기도록 구성하면 좋다.
본 실시예에서는 확대 미러로써 제20도에 도시한 바와 같은 오목 미러를 사용하여도 좋다. 또, 윈도우 미러(4)의 외측 구성을 변형하여 그러한 위상차를 보정할 수도 있다. 이에 대하여 제21도를 참조하여 설명한다.
제21도에서, 볼록 윈도우 미러(4)는 조준 미러(1)에 대향하는 그의 면의 중앙부분에 부분 반사율을 갖는 부분 반사막(20)을 형성하여 확대 미러를 마련한다.
부분 반사막(20)에 대향하는 윈도우 미러(4)의 바깥면에, 단차부(200)이 형성되고, 윈도우 미러의 다른면과 중앙 부분이외의 주변부에 무반사막(5)가 형성되어 있다.
단차부(200)은 볼록 미러(4)의 바깥면의 중앙 부분의 두께를 감소시켜 형성하였다. 두께의 감소는 (2)식에 따라 실행된다.
또한, 볼록 미러 부분의 두께를 증가시켜서 단차부를 형성할 수 있으며, 제22도에 이러한 예를 도시한다.
제23도는 제19도에 도시한 바와 같이 무반사막(5)와 볼록 미러의 바깥면의 차이를 이용하여 단차부를 형성한 예를 도시한 것이다.
본 발명에 의하면, 공명기의 확대 미러는 부분 투과율을 갖으므로, 레이저 장치의 발진 효율을 저하시키지 않고 중심에 모이는 집광특성이 우수한 레이저 빔의 출력을 얻을 수 있다. 따라서, 고속에서 효율좋은 고정밀의 레이저 가공을 실현할 수가 있게 된다.
또, 레이저 빔은 윈도우 미러를 일정하게 가열하므로, 미러의 열응력이 발생하지 않아 레이저 빔 출력을 장시간 안정하게 유도할 수 있다.

Claims (26)

  1. 오목 또는 볼록 윈도우 미러(4, 41)의 중앙부분에 형성되어 부분투과율을 갖는 확대 미러(20)과 상기 확대 미러(20)과 대향관계로 배치되어 상기 확대 미러(20)에 의해 반사확대된 레이저 빔(7)을 상기 확대 미러(20)과 상기 확대 미러를 둘러싸는 상기 윈도우 미러의 링형상 영역으로 반사시키는 조준 미러(1)로 구성된 불안정형 공명기와 상기 확대 미러(20)과 상기 링형상영역을 거쳐서 상기 레이저 빔(7)의 레이저 빔부분(70, 71)을 이들 사이의 위상차를 상쇄해서 유도하는 수단(400)을 포함하는 레이저 장치.
  2. 특허청구의 범위 제1항에 있어서, 상기 확대 미러는 상기 오목 또는 볼록 미러(4, 41)의 중앙부분에 부분 반사율을 갖는 반사막(20)을 형성하는 것에 의해 형성되는 레이저 장치.
  3. 오목 또는 볼록 윈도우 미러(4, 41)의 중앙 부분에 형성되어 부분투과율을 가지며, 무반사막(5)에 의해 코팅된 양면을 갖는 상기 윈도우 미러의 내측중앙부분에 부분반사막(20)을 형성하는 것에 의해 형성되는 확대 미러(20)과 상기 확대 미러(20)과 대향관계로 배치되어 상기 확대 미러(20)에 의해 반사 확대된 레이저 빔(7)을 상기 확대 미러(20)과 상기 확대 미러를 둘러싸는 상기 윈도우 미러의 링형상 영역으로 반사시키는 조준 미러(1)로 구성된 불안정형 공명기를 포함하는 레이저 장치.
  4. 특허청구의 범위 제3항에 있어서 또, 상기 레이저 빔(7)의 상기 레이저 빔부분(70, 71)사이의 위상차를 상쇄하여 상기 확대 미러(20)과 상기 링형상 영역을 거쳐서 상기 레이저 빔의 부분(70, 71)을 유도하기 위한 수단(400)을 포함하는 레이저 장치.
  5. 오목 또는 볼록 윈도우 미러(4, 41)의 중앙부분에 형성되어 부분투과율을 가지며, 무반사막(5)에 의해 코팅된 양면을 갖는 상기 윈도우 미러의 내측 중앙부분의 상기 무반사막(5)를 제거하는 것에 의해 형성되는 확대 미러(20)과 상기 확대 미러(20)과 대향관계로 배치되어 상기 확대 미러(20)에 의해 반사 확대된 레이저 빔(7)을 상기 확대 미러(20)과 상기 확대 미러를 둘러싸는 상기 윈도우 미러의 링형상영역으로 반사시키는 조준 미러(1)로 구성된 불안정형 공명기를 포함하는 레이저 장치.
  6. 특허청구의 범위 제5항에 있어서 또, 상기 레이저 빔의 부분(70, 71)사이의 위상차를 상쇄하여 상기 확대 미러(20)과 상기 링 형상 영역을 거쳐서 상기 레이저 빔의 부분(70, 71)을 유도하는 수단(400)을 포함하는 레이저 장치.
  7. 특허청구의 범위 제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 있어서, 상기 확대 미러(20)의 대향하는 면의 곡률 반경은 동일한 레이저 장치.
  8. 특허청구의 범위 제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 있어서, 상기 확대 미러의 상기 부분 투과율은 그 표면을 통과하여 일정하게 되는 레이저 장치.
  9. 특허청구의 범위 제2항 내지 제4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 부분 반사막(20)은 단일층으로 구성된 레이저 장치.
  10. 특허청구의 범위 제9항에 있어서, 상기 부분반사막(20)은 상기 확대 미러의 기판과 동일 재료로 구성된 레이저 장치.
  11. 특허청구의 범위 제1항 내지 제6항중 어느 한항에 있어서, 상기 확대 미러(20)과 동일 직경을 가지며, 상기 확대 미러에 대향하고 있는 반사막(10)이 상기 조준 미러(1)의 중앙 부분에 마련되어 있는 레이저 장치.
  12. 특허청구의 범위 제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 있어서, 상기 조준 미러(1)은 그 중앙부분을 제외하고 반사막(10)으로 코팅되어 있고, 상기 반사막(10)은 상기 확대 미러(20)에 대향해서 상기 확대 미러(20)과 동일 직경을 갖는 레이저 장치.
  13. 특허청구의 범위 제11항에 있어서, 상기 반사막(10)의 두께 d는,
    Figure kpo00003
    (단, λ : 레이저 빔의 파장, θ : 상기 확대 미러와 상기 윈도우 미러의 상기 링형상 영역을 통과하는 상기 레이저 빔의 부분사이의 위상차)로 결정되는 레이저 장치.
  14. 특허청구의 범위 제12항에 있어서, 상기 반사막(10)의 두께 d는,
    Figure kpo00004
    (단, λ : 레이저 빔의 파장, θ : 상기 확대 미러와 상기 윈도우 미러의 상기 링형상영역을 통과하는 상기 레이저 빔의 부분사이의 위상차)로 결정되는 레이저 장치.
  15. 특허청구의 범위 제1항 내지 제6항중 어느 한항에 있어서, 상기 확대 미러(20)에 대향하는 상기 조준 미러(1)의 중앙부분은 상기 확대 미러(20)과 동일 직경을 갖는 단차부(11)을 포함하는 레이저 장치.
  16. 특허청구의 범위 제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 있어서, 상기 확대 미러(20)은 상기 링 형상의 영역에 대해서 단차부(40)을 갖는 레이저 장치.
  17. 특허청구의 범위 제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 있어서, 상기 수단은 위상 보상 미러(400)을 포함하는 레이저 장치.
  18. 특허청구의 범위 제17항에 있어서, 상기 위상 보상 미러(400)은 상기 링 형상의 영역에 대응하는 레이저 빔 부분이 통과하는 제1의 부분과 상기 확대 미러에 대응하는 레이저 빔 부분이 통과하는 제2의 부분을 갖고, 상기 위상 보상 미러(400)의 제1 및 제2의 부분은 서로 다른 구성으로된 레이저 장치.
  19. 특허청구의 범위 제18항에 있어서, 상기 위상 보상 미러(400)의 상기 제1 및 제2의 부분 사이의 구성의 차이는 상기 제1 및 제2의 부분 사이에 형성된 단차부(200)에 의해 마련되는 레이저 장치.
  20. 특허청구의 범위 제18항에 있어서, 상기 위상 보상 미러(400)의 상기 제1 및 제2의 부분 사이의 구성의 차이는 상기 위상 보상 미러(400)의 상기 제1 및 제2의 부분에 형성된 막(5, 20)사이의 구성의 차이에 의해 마련되는 레이저 장치.
  21. 특허청구의 범위 제19항에 있어서, 상기 위상 보상 미러(400)은 반사 미러(500)을 포함하고, 상기 단차부(200)은 상기 반사 미러상에 금속막을 형성하는 것에 의해 마련되는 레이저 장치.
  22. 특허청구의 범위 제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 있어서, 상기 수단은 상기 확대 미러(20)과 상기 링 형상 영역 사이의 외측면 구성의 차이를 포함하는 레이저 장치.
  23. 특허청구의 범위 제22항에 있어서, 상기 차이는 상기 확대 미러(20)과 상기 링 형상의 영역사이에 형성된 단차부(200)을 포함하는 레이저 장치.
  24. 특허청구의 범위 제22항에 있어서, 상기 차이는 상기 링 형상의 영역과 상기 확대 미러위에 형성된 막사이의 구성의 차이를 포함하는 레이저 장치.
  25. 특허청구의 범위 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 막은 CVD 또는 ICB법에 의해 형성되는 레이저 장치.
  26. 특허청구의 범위 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 막은 CVD 또는 ICB법에 의해 형성되는 레이저 장치.
KR1019870013766A 1986-12-08 1987-12-03 레이저 장치 KR910002229B1 (ko)

Applications Claiming Priority (13)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29178686 1986-12-08
JP?61-291786 1986-12-08
JP61-291786 1986-12-08
JP62-100782 1987-04-23
JP?62-100783 1987-04-23
JP62100782A JP2660335B2 (ja) 1987-04-23 1987-04-23 レーザ装置
JP?62-230715 1987-04-23
JP?62-100782 1987-04-23
JP62-100783 1987-04-23
JP62-220772 1987-09-03
JP62220772A JPS6464278A (en) 1987-09-03 1987-09-03 Laser equipment
JP62230715A JPS6473686A (en) 1987-09-14 1987-09-14 Laser device
JP62-230715 1987-09-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR880008477A KR880008477A (ko) 1988-08-31
KR910002229B1 true KR910002229B1 (ko) 1991-04-08

Family

ID=27468864

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019870013766A KR910002229B1 (ko) 1986-12-08 1987-12-03 레이저 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR910002229B1 (ko)

Also Published As

Publication number Publication date
KR880008477A (ko) 1988-08-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5058123A (en) Laser apparatus
US4221468A (en) Multi-cavity laser mirror
US5151917A (en) Laser resonators employing diffractive optical elements
KR910008990B1 (ko) 레이저장치
US4219254A (en) Corrective optics for higher order mode lasers
KR910002229B1 (ko) 레이저 장치
US5349603A (en) Solid-state laser resonator
US5323407A (en) Integrated optical mirror and its production process
US5191591A (en) Laser wavelength converter
JP2800006B2 (ja) レーザ装置
JP2660335B2 (ja) レーザ装置
JPH0463556B2 (ko)
JP2526946B2 (ja) レ―ザ装置
Hodgson et al. Unstable resonators
JP2597500B2 (ja) レーザ装置
RU2097800C1 (ru) Светоделительное интерференционное покрытие
JPH0682873B2 (ja) レーザ装置
JPH0644648B2 (ja) レーザ装置
Piegari Graded optical coatings for laser applications
JPH0834325B2 (ja) レーザ装置
JPS60153023A (ja) 高出力レ−ザ用ビ−ムスプリツタ装置
JP2580704B2 (ja) レーザ装置
JPH0511671B2 (ko)
JPS6022390A (ja) レ−ザビ−ム制御方法
JP2597499B2 (ja) レーザ装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20010328

Year of fee payment: 11

LAPS Lapse due to unpaid annual fee