KR900005443B1 - Thick film capacitor - Google Patents

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가부시끼가이샤 도시바
아오이죠이찌
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Abstract

The thick film capacitor comprises a sintered layer of a ferro- electric material, mainly consisting of one or more ferroelectric cpds. with a perovskite structure and an inorganic binder with a eutectic compsn. which produces a liquid phase at a temp. lower than a sintering temp. of the cpds. At least two electrodes are formed on both surfaces of the material. The ferro-electric cpds. include Pb(Fe1/2Nb1/2) O3-Ba(CU1/2W1/2)O3, BaTiO3 and PbTiO3. The inorganic binders include binary mixtures of oxides, e.g. PbO-CuO, PbO-WO3, BaO-WO3 etc. The binder promotes shrinkage of the inorganic cpds. o n sintering to provide a dense compsn. and good dielectric characteristic.

Description

후막 커패시터Thick film capacitor

제1도는 본 발명의 구체적 실시예에 따른 후막 커패시터의 단면도.1 is a cross-sectional view of a thick film capacitor according to a specific embodiment of the present invention.

제2도는 본 발명의 다른 구체적 실시예에 따른 후막 커패시터의 소결하기전 상태의 단면도.2 is a cross-sectional view of a state before sintering a thick film capacitor according to another specific embodiment of the present invention.

제3도는 본 발명의 또 다른 구체적 실시예에 따른 후막 커패시터의 단면도.3 is a cross-sectional view of a thick film capacitor according to another specific embodiment of the present invention.

제4도 및 제5도는 본 발명의 실시예에 따른 후막 커패시터와 종래의 후막 커패시터의 고온에서의 에이징 처리의 영향을 비교하여 표시한 특성도.4 and 5 are characteristics of the thick film capacitor according to an embodiment of the present invention and the characteristics of the conventional thick film capacitor in comparison with the effect of the aging treatment at high temperatures.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1,11 : 기판 2a,2b : 전극1,11 substrate 2a, 2b electrode

3,3a,3b : 강유전체층 4 : 후막 커패시터3,3a, 3b: ferroelectric layer 4: thick film capacitor

5 : 팁 커패시터 12a,12b : 전극용 금속 페이스트5: tip capacitor 12a, 12b: metal paste for electrode

13a,13b : 강유전체 페이스트13a, 13b: ferroelectric paste

14 : 무기 바인더를 첨가하지 않은 강유전체 페이스트14 Ferroelectric Paste without Inorganic Binder

본 발명은 후막 커패시터에 관한 것이다.The present invention relates to a thick film capacitor.

일반적으로, 후막 커패시터는 강유전체 소결층이 금속전극들 사이에 삽입된 구조로 되어 있으며, 후막 커패시터에 사용되는 강유전체 화합물은 소결성을 저하시키므로 강유전체 화합물 단독으로는 소결층을 이루기가 매우 어렵다.In general, a thick film capacitor has a structure in which a ferroelectric sintered layer is interposed between metal electrodes, and the ferroelectric compound used in the thick film capacitor deteriorates sintering property, so that the ferroelectric compound alone is very difficult to form a sintered layer.

이러한 이유로 인하여 종래의 후막 커패시터에 있어서는 결정질이나 또는 비정질 유리를 바인더로서 첨가하여 소결한 후 강유전체 소결층을 형성하였다.For this reason, in a conventional thick film capacitor, crystalline or amorphous glass was added as a binder and sintered to form a ferroelectric sintered layer.

그러나, 유리를 첨가하면 강유전체 소결층의 유전특성이 크게 나빠지게 된다.However, when glass is added, the dielectric properties of the ferroelectric sintered layer are greatly worsened.

예를 들면, 유전율이 20000인 강유전체 무기 화합물에 시판중인 결정질 또는 비정질 유리를 첨가하면 얻어지는 강유전체 소결층의 유전율은 100-1000으로 소결전 값의 1/20-1/200로 대폭 저하된다.For example, when commercially available crystalline or amorphous glass is added to a ferroelectric inorganic compound having a dielectric constant of 20000, the dielectric constant of the resulting ferroelectric sintered layer is significantly reduced to 1 / 20-1 / 200 of the pre-sintering value at 100-1000.

이러한 것은 유리를 첨가하면 소결시에 강유전체 무기 화합물의 퍼로브스카이트(perovskite) 구조가 파괴되기 때문이다.This is because the addition of glass breaks the perovskite structure of the ferroelectric inorganic compound upon sintering.

종래의 후막 커패시터는 강유전체 소결층에 유리를 포함하므로 내습성이 좋지 않다.Conventional thick film capacitors contain glass in the ferroelectric sintered layer and thus have poor moisture resistance.

종래의 커패시터에서는 쉽게 전극 금속들이 이동하여서 내이동성(migration registance)이 좋지 않다.In conventional capacitors, electrode metals easily move and migration resistance is poor.

본 발명의 목적은 소결성이 좋고 높고, 유전율이 좋고, 내습성이 좋으며, 전극금속들이 이동을 효과적으로 막을 수 있는 후막 커패시터를 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide a thick film capacitor having good sinterability, high dielectric constant, good moisture resistance, and which can effectively prevent movement of electrode metals.

본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 후막 커패시터는 다음과 같은 것으로 이루어진다 : (a) 퍼로브스카이트 구조를 갖는 강유전체 무기 화합물과 강유전체 무기 화합물의 소결온도 이하에서 액상이 되는 공정(共晶)조성을 갖는 무기 바인더로 주로 구성된 강유전체 소결층과, (b) 강유전체 소결층의 양면쪽에 형성되는 적어도 두 개의 전극들.In order to achieve the object of the present invention, the thick-film capacitor is composed of the following: (a) having a process composition which becomes liquid at the sintering temperature below the ferroelectric inorganic compound having a perovskite structure and the ferroelectric inorganic compound A ferroelectric sintered layer composed mainly of an inorganic binder, and (b) at least two electrodes formed on both sides of the ferroelectric sintered layer.

강유전체 소결층내에 함유된 바인더는 강유전체 무기 화합물의 퍼로브스카이트 구조가 파괴되지 않는 온도에서 바인더로서 작용하므로, 소결층내의 강유전체 화합물이 원래의 퍼로브스카이트 구조를 유지할 수 있다.Since the binder contained in the ferroelectric sintered layer acts as a binder at a temperature at which the perovskite structure of the ferroelectric inorganic compound is not destroyed, the ferroelectric compound in the sintered layer can maintain the original perovskite structure.

그 결과, 소결성이 높고, 유전특성이 양호하며 내습성이 높은 것을 얻을 수 있다. 본 발명의 후막 커패시터에서 강유전체 소결층을 구성하는 강유전체 무기 화합물들의 실시예는 다음의 표 1에 나타난 것들을 포함한다.As a result, it is possible to obtain high sintering properties, good dielectric properties and high moisture resistance. Examples of ferroelectric inorganic compounds constituting the ferroelectric sintered layer in the thick film capacitor of the present invention include those shown in Table 1 below.

이들 화합물들 중에서 다음 화합물들이 특히 바람직하다 : Pb(Fe1/2Nb2/2)O3-Ba(Cu1/2W1/2)O3, BaTiO, PbTiO, 및 (Pb,X){(Zn1/3Nb2/3)(Mg1/3Nb2/3)Ti}O3; X=Ba, Ca, Sr, LaOf these compounds, the following compounds are particularly preferred: Pb (Fe 1/2 Nb 2/2 ) O 3 -Ba (Cu 1/2 W 1/2 ) O 3 , BaTiO, PbTiO, and (Pb, X) { (Zn 1/3 Nb 2/3 ) (Mg 1/3 Nb 2/3 ) Ti} O 3 ; X = Ba, Ca, Sr, La

[표 1]TABLE 1

Figure kpo00001
Figure kpo00001

본 발명에서 강유전체 소결층내에 포함되는 무기 바인더의 실시예는 다음의 산화물의 이성분 혼합물을 포함한다 : PbO-CuO, PbO-WO3, PbO-Nb2O5, PbO-Fe2O3, PbO-ZnO, PbO-TiO2, PbO-CaO, PbO-Sb2O3, BaO-WO3, Nb2O3-TiO2, TiO2-MgO, PbO-MgO, 등 또한 3개 이상의 산화물을 포함하는 혼합물을 사용할 수 있다.Examples of the inorganic binder included in the ferroelectric sintered layer in the present invention include a binary mixture of the following oxides: PbO-CuO, PbO-WO 3 , PbO-Nb 2 O 5 , PbO-Fe 2 O 3 , PbO -ZnO, PbO-TiO 2 , PbO-CaO, PbO-Sb 2 O 3 , BaO-WO 3 , Nb 2 O 3 -TiO 2 , TiO 2 -MgO, PbO-MgO, etc. Also contain 3 or more oxides Mixtures can be used.

또한, 소결하는 동안 전술한 산화물로 변환되는 화합물들, 예를 들면 산화물, 할로겐화물, 또는 유기금속 화합물을 본 발명의 무기 바인더로 사용할 수 있다.In addition, compounds which are converted into the above-mentioned oxides during sintering, such as oxides, halides, or organometallic compounds, can be used as the inorganic binder of the present invention.

무기 바인더는 퍼로브스카이트 구조의 강유전체 무기 화합물의 소결온도 이하에서 액상이 되며, 넓은 조성 범위 넘어서도 액상이 되는 공정 조성을 갖는다.The inorganic binder becomes a liquid at or below the sintering temperature of the ferroelectric inorganic compound of the perovskite structure, and has a process composition that becomes liquid even beyond a wide composition range.

그러므로 무기 바인더는 화합물의 퍼로브스카이트 구조를 변화시키지 않고서도 강유전체 무기 화합물의 소결을 촉진시킬 수 있다.Therefore, the inorganic binder can promote the sintering of the ferroelectric inorganic compound without changing the perovskite structure of the compound.

본 발명의 무기 바인더는 소결시에 강유전체 무기 화합물의 수축을 촉진하여 치밀한 조성을 갖게하며, 소결을 안정화시켜 준다.The inorganic binder of the present invention promotes shrinkage of the ferroelectric inorganic compound during sintering to have a dense composition and stabilizes sintering.

그러므로 본 발명에서 강유전체 소결층은 무기 화합물 자체와 같은 우수한 유전특성을 가지며, 내습성과 내이동성이 높다.Therefore, in the present invention, the ferroelectric sintered layer has the same excellent dielectric properties as the inorganic compound itself, and has high moisture resistance and mobility resistance.

전술한 화합물로 구성된 무기 바인더는 각 성분들을 혼합한 후에 강유전체 무기 화합물에 직접 첨가될 수 있다.The inorganic binder composed of the aforementioned compounds can be added directly to the ferroelectric inorganic compound after mixing the respective components.

필요에 따라서는 예비소결이 행해진 후에 바인더를 첨가할 수 있다.If necessary, the binder may be added after presintering is performed.

본 발명에서 한쌍의 전극은 Au, Ag, Ag-Pd, Pt, Ag-Pt, Cu, Ni, Pd, W 등으로 구성된 그룹으로부터 선택된 금속 페이스트를 인쇄하고 소결시켜서 형성된다.In the present invention, the pair of electrodes is formed by printing and sintering a metal paste selected from the group consisting of Au, Ag, Ag-Pd, Pt, Ag-Pt, Cu, Ni, Pd, W and the like.

본 발명의 바람직한 구체적 실시예에 있어서, 알루미나 기판 같은 절연기판(1)상에 한쌍의 전극중의 하나(2a)를 형성하고, 전술한 조성을 갖는 강유전체 소결층(3)과 다른 전극(2b)을 차례로 제1도에 도시한 것과 같이 그 위에 형성한다.In a preferred specific embodiment of the present invention, one of the pair of electrodes 2a is formed on an insulating substrate 1 such as an alumina substrate, and the ferroelectric sintered layer 3 and the other electrode 2b having the above-described composition are formed. In turn, it is formed thereon as shown in FIG.

제3도에 도시된 것처럼 강유전체 소결층(3a)에 전술한 무기 바인더를 소정량 첨가하여 절연기판(1)과 전극(2a)사이에 개재시킨다.As shown in FIG. 3, a predetermined amount of the above-mentioned inorganic binder is added to the ferroelectric sintered layer 3a, and is interposed between the insulating substrate 1 and the electrode 2a.

본 구조에서는 기판(1)상에 직접 형성시킨 전극(2a)으로된 구조에 비해 전극(2a)과 기판(1) 사이의 부착 강도를 향상시킬 수 있다.In this structure, the adhesion strength between the electrode 2a and the board | substrate 1 can be improved compared with the structure of the electrode 2a formed directly on the board | substrate 1.

본 발명의 후막 커패시터의 제조 방법을 설명하면 다음과 같다.The manufacturing method of the thick film capacitor of the present invention is as follows.

먼저, 표 1에 나타낸 것과 같은 강유전체 무기 화합물을 만든다.First, a ferroelectric inorganic compound as shown in Table 1 is made.

이것을 위하여, 원료를 평량하여 각 강유전체 무기 화합물에 상당하는 조성물을 만들고, 그 후에 예비소결 등을 하여 강유전체 무기 화합물로 합성한다.For this purpose, the raw materials are weighed to prepare a composition corresponding to each ferroelectric inorganic compound, and then presintered or the like to synthesize a ferroelectric inorganic compound.

무기 화합물은 항상 100%의 퍼로브스카이트 상을 포함할 필요는 없다.The inorganic compound does not always need to contain 100% perovskite phase.

본 발명의 무기 바인더의 성분들을 평량하여 소정의 공정 조성물을 얻고, 그 조성물을 전술한 강유전체 무기 화합물과 혼합한다.The components of the inorganic binder of the present invention are weighed to obtain the desired process composition, and the composition is mixed with the ferroelectric inorganic compound described above.

이때 강유전체 무기 화합물과 무기 바인더의 종류에 따른 혼합비율은 다르며 일률적으로 제한될 수 없다.In this case, the mixing ratio of the ferroelectric inorganic compound and the inorganic binder is different and cannot be uniformly limited.

일반적으로 바인더의 양이 너무 많으면 소결층의 유전특성이 저하되며, 반면에 바인더의 양이 너무 적으면 충분한 소결성을 얻을 수 없다.In general, when the amount of the binder is too large, the dielectric properties of the sintered layer are lowered. On the other hand, when the amount of the binder is too small, sufficient sinterability cannot be obtained.

그러므로, 우사한 유전특성과 높은 소결성을 얻을 수 있도록 혼합비율을 정해야 한다.Therefore, the mixing ratio should be determined to obtain similar dielectric properties and high sinterability.

얻어진 혼합물을 소정의 입자크기로 분쇄하여 용제와 무기 바인더를 첨가하여서 강유전체 페이스트를 만든다.The obtained mixture is ground to a predetermined particle size and a solvent and an inorganic binder are added to form a ferroelectric paste.

분쇄된 혼합물의 평균 입자 크기가 1.0㎛ 이하이면 소결시에 결정 입자가 성장하기 어렵고, 유전율의 저하를 초래한다.If the average particle size of the pulverized mixture is 1.0 µm or less, crystal grains are less likely to grow at the time of sintering, resulting in lowering of the dielectric constant.

평균 입자 크기가 10㎛를 초과하면 강유전체 페이스트를 인쇄하는데 지장을 초래한다.If the average particle size exceeds 10 mu m, printing of the ferroelectric paste is disturbed.

그러므로 평균 입자 크기를 1.0 내지 10㎛로 하는 것이 바람직하다.Therefore, it is preferable to set the average particle size to 1.0 to 10 mu m.

강유전체 페이스트를 만들기 위한 용제로는 일반적으로 테르피네올(terpineol), 메틸에틸 셀로솔브, n-부탄올 등과 같은 용제를 사용할 수 있다.As a solvent for making the ferroelectric paste, a solvent such as terpineol, methylethyl cellosolve, n-butanol, or the like may be generally used.

유기 바인더로서는 일반적으로 에틸-셀룰로오스, 메틸-셀룰로오스, 폴리아크릴-수지, 폴리스티렌, 폴리우레탄, 폴리비닐알코올, 폴리비닐부티랄, 니트로셀룰로오스 등과 같은 세라믹 모울딩용 바인더를 사용할 수 있다.As the organic binder, a binder for ceramic molding such as ethyl cellulose, methyl cellulose, polyacrylic resin, polystyrene, polyurethane, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, nitrocellulose, or the like can be generally used.

전술한 금속 페이스트와 강유전체 페이스트를 교대로 절연기판에 인쇄하여 금속 페이스트층, 강유전체 페이스트층 및 다른 금속 페이스트층의 순서로 쌓아올린다.The metal paste and the ferroelectric paste described above are alternately printed on the insulating substrate and stacked in the order of the metal paste layer, the ferroelectric paste layer, and the other metal paste layer.

그런 다음에 얻어진 다층 구조체를 소결시킨다.Then, the obtained multilayer structure is sintered.

그렇게 하여서 제1도에 도시된 것과 같은 강유전체로된 소결층(3), 아래, 위에 금속 전극(2a),(2b)이 있는 후막 커패시터(4)를 형성할 수 있다.In this way, a thick film capacitor 4 having a ferroelectric sintered layer 3 as shown in FIG. 1, and metal electrodes 2a and 2b below and below can be formed.

이때의 소결온도는 사용하는 금속 페이스트와 강유전체 페이스트에 따라서 다양하다.The sintering temperature at this time varies depending on the metal paste and ferroelectric paste used.

일반적으로 소결온도는 다른 저항체, 배선등이 부풀거나 벗겨져서 떨어져 나가지 않는 범위내로 한다.In general, the sintering temperature should be within the range that other resistors, wirings, etc. do not swell or peel off.

전술한 페이스트층들은 동시에 소결시킨다.The above paste layers are sintered simultaneously.

그러나, 층들(2a)(3)(2b)을 차례로 형성하기 위하여서는 인쇄와 소결을 반복할 수 있다.However, printing and sintering may be repeated to form the layers 2a, 3, 2b one after the other.

전술한 방법에 따라 후막 커패시터를 제조할 때, 무기 바인더가 액상이면 바인더로서의 성능이 향상된다.When manufacturing a thick film capacitor according to the above-described method, if the inorganic binder is liquid, the performance as a binder is improved.

소결후에 강유전체 무기 화합물의 입계에서 무기 바인더는 결합층을 형성하거나 강유전체 무기 화합물의 결정격자내로 확산된다.After sintering, at the grain boundaries of the ferroelectric inorganic compound, the inorganic binder forms a bonding layer or diffuses into the crystal lattice of the ferroelectric inorganic compound.

그러나, 본 발명의 무기 바인더가 강유전체 무기 화합물의 결정격자내로 확산될 때는 종래의 방법에서 사용되는 유리와는 달리 무기 바인더는 강유전체 화합물의 퍼로브스카이트 구조를 파괴하지는 않는다.However, when the inorganic binder of the present invention is diffused into the crystal lattice of the ferroelectric inorganic compound, unlike the glass used in the conventional method, the inorganic binder does not destroy the perovskite structure of the ferroelectric compound.

그 결과 전술한 방법으로 하면 양호한 유전특성과, 높은 내습성 및 내이동성을 얻을 수 있다.As a result, the above-described method can obtain good dielectric properties, high moisture resistance and mobility resistance.

다른 제조 방법을 설명하면 다음과 같다.Another manufacturing method is as follows.

본 구체적 실시예에서는 무기 바인더를 첨가하지 않는 것 이외에는 전술한 강유전체 페이스트와 같은 조성물을 갖는 제2의 강유전체 페이스트를 만든다.In this specific example, a second ferroelectric paste having the same composition as the above-described ferroelectric paste is produced except that no inorganic binder is added.

제2의 강유전체 페이스트, 전술한 강유전체 페이스트 및 금속 페이스트를 사용하여 제2도에 도시된 것과 같이 금속 페이스트층(12a), 강유전체 페이스트층(13a), 제2의 강유전체 페이스트층(14), 강유전체 페이스트층(13b) 및 금속 페이스트층(12b)을 차례로 인쇄하여 쌓아올린다.Using the second ferroelectric paste, the above-described ferroelectric paste and metal paste, the metal paste layer 12a, the ferroelectric paste layer 13a, the second ferroelectric paste layer 14, and the ferroelectric paste as shown in FIG. The layer 13b and the metal paste layer 12b are printed and stacked in order.

제2도에 도시된 상태에서 구조체를 소결할 때 페이스트층(12a)(13a)(14)(13b)(12b)이 소결되고 층(13a)(13b)내에 함유된 무기 바인더는 제2의 강유전체 페이스트층(14)내로 확산된다.When the structure is sintered in the state shown in FIG. 2, the paste layers 12a, 13a, 14, 13b and 12b are sintered and the inorganic binder contained in the layers 13a and 13b is the second ferroelectric. It diffuses into the paste layer 14.

이러한 이유로 해서 비록 제2의 강유전체 페이스트층(14)이 원래 무기 바인더를 포함하고 있지 않더라도 소결하는 동안 무기 바인더의 확산으로 해서 양호한 소결상태를 얻을 수 있다.For this reason, even if the second ferroelectric paste layer 14 does not originally contain an inorganic binder, a good sintered state can be obtained by diffusion of the inorganic binder during sintering.

또한, 얻어진 제2의 소결층은 상부 및 하부의 소결층보다 적은 무기 바인더를 가지므로 양호한 유전특성을 갖는다.In addition, the obtained second sintered layer has less inorganic binder than the upper and lower sintered layers and thus has good dielectric properties.

그러므로, 본 구체적 실시예에서는 제2의 강유전체 소결층을 포함하므로 제1도에 도시된 것보다 우수한 유전특성을 갖는 후막 커패시터를 얻을 수 있다.Therefore, in this specific embodiment, since the second ferroelectric sintered layer is included, a thick film capacitor having dielectric properties superior to that shown in FIG. 1 can be obtained.

본 구체적 실시예에서는 다음 페이스트층을 쌓기 전에 소결 공정을 실시하여 각 페이스트층(12a)(13a)(14)(13b)(12b)을 분리하여 소결할 수도 있다.In this specific embodiment, the sintering process may be performed before the next paste layer is stacked to separate and sinter each paste layer 12a, 13a, 14, 13b, and 12b.

제3도를 참조하면서 또 다른 구체적 실시예를 설명하면 다음과 같다.Another specific embodiment will be described with reference to FIG. 3.

본 구체적 실시예에서는 강유전체 페이스트층, 금속 페이스트층, 강유전체 페이스트층 및 다른 금속 페이스트층을 차례로 절연기판(1)상에 인쇄하여 쌓아올린다.In this specific embodiment, a ferroelectric paste layer, a metal paste layer, a ferroelectric paste layer, and another metal paste layer are printed and stacked on the insulating substrate 1 in order.

그 다음, 얻어진 구조체를 소결하고, 원하는 크기로 자른다.The resulting structure is then sintered and cut to the desired size.

그 다음으로 강유전체 소결층(3a)(3b)와 전극(2a)(2b)을 교대로 쌓아올린 팁(tip)커패시터(5)를 제3도와 같이 제조할 수 있다.Next, a tip capacitor 5 in which ferroelectric sintered layers 3a and 3b and electrodes 2a and 2b are alternately stacked may be manufactured as shown in FIG. 3.

전술한 바와 같이 강유전체층(3a)은 절연기판(1)과 전극(2a) 사이의 기계적 접착력을 향상시키는 역할을 한다.As described above, the ferroelectric layer 3a serves to improve the mechanical adhesion between the insulating substrate 1 and the electrode 2a.

제3도에 도시된 팁 커패시터는 두 개의 전극층(2a)(2b)와 두 개의 강유전체층(3a)(3b)으로 구성되며, 더 많은 수의 전극과 강유전체층을 쌓아올린 팁 커패시터를 유사한 방법으로 제조할 수 있다.The tip capacitor shown in FIG. 3 is composed of two electrode layers 2a and 2b and two ferroelectric layers 3a and 3b, and the tip capacitor having a larger number of electrodes and ferroelectric layers stacked in a similar manner. It can manufacture.

전극(2a)(2b)과 강유전체층(3a)(3b)을 동시에 소결하는 대신에 순서대로 인쇄하여 소결할 수도 있다.Instead of sintering the electrodes 2a and 2b and the ferroelectric layers 3a and 3b at the same time, they may be printed and sintered in order.

전술한 것에 따른 팁 커패시터의 제조방법은 그린 시이트법으로 제조된 커패시터에 비하여 다음의 잇점을 갖는다.The method of manufacturing the tip capacitor according to the above has the following advantages over the capacitor manufactured by the green sheet method.

그린 시이트법을 사용하면 다층의 시이트를 지지하기 위해서는 특별한 도구가 필요하다.If the green sheet method is used, a special tool is required to support the multilayer sheet.

그러나, 전술한 구체적 실시예에 있어서는 절연기판(1)이 지지기능을 가지므로 특별한 도구가 필요없으므로 공정의 수를 줄일 수 있다.However, in the above specific embodiment, since the insulating substrate 1 has a supporting function, no special tool is required, so that the number of processes can be reduced.

또한, 탈지 및 소결용으로 후막 벨트로(thick-film belt-furnace)를 사용할 수 있으며, 짧은 시간내에 제조를 끝낼 수 있다.In addition, a thick-film belt-furnace can be used for degreasing and sintering, and the production can be completed in a short time.

본 발명의 제조방법에 있어서, 얻어진 소결체를 고온에서 에이징시키는 것이 바람직하다.In the manufacturing method of this invention, it is preferable to age the obtained sintered compact at high temperature.

본 발명에 있어서 높은 온도에서 에이징시키면 유전율, 유전손실율(tanδ10-2), 체적 저항률 등과 같은 유전특성을 향상시킬 수 있다.In the present invention, aging at a high temperature can improve dielectric properties such as dielectric constant, dielectric loss ratio (tan δ 10 -2 ), volume resistivity, and the like.

이러한 것은 유리 바인더를 사용한 종래의 후막 커패시터에서는 고온에서의 에이징이 유전특성을 저하시키는 사실과는 확실히 다르다.This is clearly different from the fact that aging at high temperatures degrades dielectric properties in conventional thick film capacitors using glass binders.

이것은 고온에서 에이징하는 동안 유리는 강유전체 소결층의 퍼로브스카이트 구조를 파괴시키는 반면에, 본 발명에 있어서 전술한 무기 바인더는 강유전체 소결층의 퍼로브스카이트 구조를 손상시키지 않을 뿐만 아니라 결정성장을 촉진시킨다.This means that the glass breaks the perovskite structure of the ferroelectric sintered layer during aging at high temperatures, whereas the inorganic binders described above in the present invention not only damage the perovskite structure of the ferroelectric sintered layer, but also inhibit crystal growth. Promote

이러한 효과를 얻기 위해서는 에이징이 상한 온도값을 강유전체층과 전극에 공극(void), 부풀음, 용해 등이 생기지 않는 범위에서 정해야 하고, 하한 온도값의 한계는 무기 바인더의 성분들이 강유전체 화합물내로 충분히 확산되도록 하는 값으로 정해야 한다.In order to achieve this effect, the upper limit temperature value of the aging should be set within the range where voids, swelling, dissolution, etc. do not occur in the ferroelectric layer and the electrode. It should be set to

본 발명의 실시예들을 설명하면 다음과 같다.The embodiments of the present invention are described as follows.

[실시예 1-16][Example 1-16]

(A) 강유전체 무기 화합물의 합성(A) Synthesis of Ferroelectric Inorganic Compound

출발재료로서 PbO, Fe2O3, WO3, Nb2O5, BaCO3, CuO, MgCO3및 NiO를 사용하여 표 1에 나타낸 강유전체 화합물은 PFN과 BCW에 해당하는 조성을 얻을 수 있게 평량했다.Using PbO, Fe 2 O 3 , WO 3 , Nb 2 O 5 , BaCO 3 , CuO, MgCO 3 and NiO as starting materials, the ferroelectric compounds shown in Table 1 were weighed to obtain compositions corresponding to PFN and BCW.

PFN과 BCW 조성물과 첨가물인 NiO, MgO 및 MnO를 표 2에 나타낸 몰비(比)로 평량했다.The PFN and BCW compositions and additives NiO, MgO and MnO were basis weighted in the molar ratios shown in Table 2.

여기서, PFN과 BCW의 혼합비를 다음 식에서 X와 Y가 X+Y=1을 만족하도록 설정하였다 ; X(PFN)-Y(BCW) 계속해서 이들 원료들을 볼 밀로 습식 혼합하고, 그 혼합물을 700-800℃에서 예비소결시키고, 재차 얻어진 소결구조체를 분쇄하고 건조시켜서 강유전체 무기 화합물을 만들었다.Here, the mixing ratio of PFN and BCW was set such that X and Y satisfy X + Y = 1 in the following equation; X (PFN) -Y (BCW) Subsequently, these raw materials were wet mixed with a ball mill, the mixture was pre-sintered at 700-800 ° C, and the obtained sintered structure was pulverized and dried to form a ferroelectric inorganic compound.

(B) 무기 바인더의 제조(B) Preparation of Inorganic Binder

원료로서 PbO, CuO 및 WO3를 사용하여 표 2에 나타난 몰비로 평량했다.PbO, CuO, and WO 3 were used as the raw materials to carry out the basis weights at the molar ratios shown in Table 2.

이 원료들을 볼밀로 습식 혼합하고 건조시켜서 공정 조성물 PbO-CuO 및 PbO-WO3를 얻었다.These raw materials were wet mixed with a ball mill and dried to obtain process compositions PbO-CuO and PbO-WO 3 .

이들 공정 조성물을 600-830℃에서 예비소결(pre-sintering)했다.These process compositions were pre-sintered at 600-830 ° C.

그 후에, 예비소결된 조성물을 볼밀로 분쇄하고 건조시켜서 무기 바인더로 사용했다.Thereafter, the presintered composition was ground with a ball mill and dried to use as an inorganic binder.

(C) 강유전체 페이스트의 제조(C) Preparation of Ferroelectric Paste

공정 (A)(B)에 따라서 만들어진 강유전체 무기 화합물과 무기 바인더를 표 2에 나타난 비율로 평량했다.The ferroelectric inorganic compound and the inorganic binder produced according to the step (A) (B) were basis weighted at the ratios shown in Table 2.

용제로서 테르피네올 28wt%과 유기 바인더로서 에틸-셀룰로오스 4wt%를 이들 원료 68wt%에 첨가하여 혼합해서 16종류의 강유전체 페이스트를 만들었다.16 types of ferroelectric pastes were prepared by adding terpineol 28 wt% as a solvent and 4 wt% ethyl-cellulose as an organic binder to 68 wt% of these raw materials.

(D) 후막 커패시터 제조(D) thick film capacitor manufacturing

제1도에 도시된 것과 같은 후막 커패시터를 강유전체 페이스트를 사용하여 다음과 같이 제조했다.A thick film capacitor as shown in FIG. 1 was prepared using a ferroelectric paste as follows.

Ag-Pb를 베이스로 한 금속 페이스트를 2"×2" 의 알루미나 기판상에 인쇄하고, 전술한 강유전체 페이스트를 그 위에 인쇄하여 쌓아올렸다.The metal paste based on Ag-Pb was printed on a 2 "x 2" alumina substrate, and the above-described ferroelectric paste was printed and stacked thereon.

재차, 다른 Ag-Pb를 베이스로 한 금속 페이스트를 구조체의 강유전체 페이스트층 위에 인쇄하여 쌓아올렸다.Again, another Ag-Pb-based metal paste was printed and stacked on the ferroelectric paste layer of the structure.

얻어진 구조체를 900℃에서 10분동안 벨트 오븐(belt-oven)을 사용하여 소결했다.The resulting structure was sintered at 900 ° C. for 10 minutes using a belt oven.

얻어진 후막 커패시터를 유전율과 유전손실율(tanδ×10-2)을 1KHz에서 측정했다.The dielectric film and dielectric loss factor (tanδ × 10 −2 ) of the obtained thick film capacitor were measured at 1 KHz.

얻어진 결과를 표 2에 나타냈다.The obtained results are shown in Table 2.

비교하기 위하여 무기 바인더로서 유리를 사용한 종래의 후막 커패시터를 전술한 것과 같은 방법으로 제조했다.(비교예 1-5)For comparison, a conventional thick film capacitor using glass as an inorganic binder was produced in the same manner as described above. (Comparative Example 1-5)

이들 비교예들의 결과를 역시 표 2에 나타냈다.The results of these comparative examples are also shown in Table 2.

[표 2]TABLE 2

Figure kpo00002
Figure kpo00002

표 2에 나타난 결과로 알 수 있듯이, 비교예 1-5의 종래의 후막 커패시터는 유전율이 12-270으로서 낮으며, 반면 실시예 1-16의 후막 커패시터는 유전율이 4000-15000으로 매우 높다.As can be seen from the results shown in Table 2, the conventional thick film capacitors of Comparative Examples 1-5 had a low dielectric constant of 12-270, while the thick film capacitors of Examples 1-16 had a very high dielectric constant of 4000-15000.

실시예 2-9와 비교예 3에서 얻어진 후막 커패시터에 대해 900℃의 고온에서 10분동안 에이징을 5회 실시했다.The thick film capacitors obtained in Examples 2-9 and Comparative Example 3 were subjected to aging five times at a high temperature of 900 ° C. for 10 minutes.

각 횟수의 에이징 공정이 끝날 때 마다 유전율을 측정하여 고온에서의 에이징으로 인한 유전율의 변화를 시험했다. 제4도에 도시된 결과를 얻었다.The dielectric constant was measured at each end of the aging process to test the change in dielectric constant due to aging at high temperatures. The results shown in FIG. 4 were obtained.

실시예 13과 비교예 3에서 얻어진 후막 커패시터에 대해 600℃의 고온에서 10분 동안 에이징을 6회 실시했다. 각 횟수의 에이징 공정이 끝났을 때마다 체적 저항률을 측정하여 고온에서의 에이징으로 인한 체적저항율을 시험했다. 제5도에 도시된 결과를 얻었다.The thick film capacitors obtained in Example 13 and Comparative Example 3 were subjected to aging six times at a high temperature of 600 ° C. for 10 minutes. At the end of each aging process, the volume resistivity was measured to test the volume resistivity due to aging at high temperatures. The results shown in FIG. 5 were obtained.

제4도 및 제5도에 도시된 결과로부터 알 수 있듯이 실시예들의 후막 커패시터에 있어서 고온에서 에이징 시키면 유전율을 10% 향상시킬 수 있고 체적 저항율을 100배 증가시킬 수 있다.As can be seen from the results shown in FIGS. 4 and 5, in the thick film capacitors of the embodiments, aging at high temperature can increase the dielectric constant by 10% and increase the volume resistivity by 100 times.

이것과는 대조적으로, 비교예들의 후막 커패시터에 있어서는 고온에서 에이징을 실시하면 유전율 및 체적저항율이 둘다 나빠진다. 고온에서의 에이징에 있어서, 실시예의 후막 커패시터에서의 저하는 관찰되지 않았다.In contrast to this, in the thick film capacitors of the comparative examples, aging at high temperature causes both the dielectric constant and the volume resistivity to deteriorate. In aging at high temperatures, no degradation in the thick film capacitors of the examples was observed.

[실시예 17-47][Example 17-47]

(A) 강유전체 무기 화합물의 합성.(A) Synthesis of ferroelectric inorganic compound.

출발재료로서 PbO, Fe2O3, WO3, Nb2O5, BaCO3CuO, MgCO3, MnCO3, NiO, SrCO3, CaCO3, ZrO2, CO2O3, ZnO, TiO2, Sb2O3및 Ta2O5를 사용하여 표 3과 표 4에 나타난 강유전체 화합물에 상당하는 조성을 얻을 수 있도록 평량했다. 표 3과 4에서 PBZMT같은 약어들은 표 1에 있는 강유전체 무기 화합물들을 나타낸다. 강유전체 무기 화합물에 해당하는 조성물과 첨가물인 MnO를 표 3과 표 4의 몰비로 평량했다. 이때, 강유전체 무기 화합물에 상당하는 다수의 원료들을 사용할때는 그들의 몰비의 합계가 1이 되게 했다.PbO, Fe 2 O 3 , WO 3 , Nb 2 O 5 , BaCO 3 CuO, MgCO 3 , MnCO 3 , NiO, SrCO 3 , CaCO 3 , ZrO 2 , CO 2 O 3 , ZnO, TiO 2 , Sb 2 O 3 and using Ta 2 O 5 had a basis weight so as to obtain a composition corresponding to the ferroelectric compounds shown in Table 3 and Table 4. Abbreviations such as PBZMT in Tables 3 and 4 refer to the ferroelectric inorganic compounds in Table 1. The composition corresponding to the ferroelectric inorganic compound and the additive MnO were basis weighted in the molar ratios of Tables 3 and 4. At this time, when using a plurality of raw materials corresponding to the ferroelectric inorganic compound, the sum of their molar ratios was set to one.

이들 원료들을 볼밀로 습식 혼합하고 700-800℃에서 예비 소결한 후에 볼밀로 분쇄하여 건조시켜서 강유전체 무기 화합물을 만들었다.These raw materials were wet mixed with a ball mill, presintered at 700-800 ° C., and then crushed and dried with a ball mill to form a ferroelectric inorganic compound.

(B) 무기 바인더의 제조.(B) Preparation of an inorganic binder.

원료로서 PbO, CuO, WO3, Nb2O3, Sb2O3, BaO, Fe2O3, ZnO 및 CaO를 사용하여 표 3과 표 4에 나타난 몰비로 평량했다. 이를 원료를 볼밀로 습식 혼합하고 건조시켜서 공정 조성물들인 PbO-CuO, PbO-WO3, PbO-Nb2O3, PbO-Sb2O3, PbO-CaO, PbO-Fe2O3, PbO-ZnO 및 BaO-WO3를 얻었다. 이들 공정 조성물들을 700-830℃에서 예비 소결하고, 볼밀로 분쇄하고, 건조시켜서 무기 바인더를 만들었다.PbO, CuO, WO 3 , Nb 2 O 3 , Sb 2 O 3 , BaO, Fe 2 O 3 , ZnO and CaO were used as the starting materials, and the basis weights were shown in Tables 3 and 4. The raw materials were wet-mixed with a ball mill and dried to prepare the process compositions PbO-CuO, PbO-WO 3 , PbO-Nb 2 O 3 , PbO-Sb 2 O 3 , PbO-CaO, PbO-Fe 2 O 3 , PbO-ZnO And BaO-WO 3 were obtained. These process compositions were presintered at 700-830 ° C., ground in a ball mill and dried to form inorganic binders.

(C) 강유전체 페이스트의 제조.(C) Preparation of Ferroelectric Paste.

공정(A) (B)에서 제조된 강유전체 무기 화합물과 무기 바인더를 표 3과 4에 나타난 비율로 평량했다. 용제로서 테르피네올 28wt%과 유기 바인더로서 에틸-셀룰로오스 4wt%를 이들 원료 68wt%에 첨가하고 혼합하여 30종류의 강유전체 페이스트를 만들었다.The ferroelectric inorganic compound and the inorganic binder prepared in step (A) and (B) were basis weighted at the ratios shown in Tables 3 and 4. Thirty kinds of ferroelectric pastes were prepared by adding 28 wt% of terpineol as a solvent and 4 wt% of ethyl-cellulose as an organic binder to 68 wt% of these raw materials.

(D) 후막 커패시터의 제조.(D) Fabrication of thick film capacitors.

실시예 1-16과 같은 방법으로 제1도에 도시된 후막 커패시터를 전술한 강유전체 페이스트를 사용하여 제조했다.In the same manner as in Example 1-16, the thick film capacitor shown in FIG. 1 was manufactured using the above-described ferroelectric paste.

그러나, 실시예 21-23에서는 강유전체 페이스트를 알루미나기판과 금속 전극 사이에 버퍼(buffer)층으로서 인쇄하고 소결했다. 얻어진 후막 커패시터의 유전율과 유전손실율(tanδ×10-2)을 1KHz에서 측정했다.In Examples 21-23, however, the ferroelectric paste was printed and sintered as a buffer layer between the alumina substrate and the metal electrode. The dielectric constant and dielectric loss factor (tan δ × 10 −2 ) of the obtained thick film capacitor were measured at 1 KHz.

그 결과를 표 3과 4에 나타냈다. 비교를 위해 무기 바인더로서 유리를 사용한 종래의 후막 커패시터를 전술한 것과 같은 방법으로 제조했다. (비교예 6-10). 그 결과를 표 3과 표 4에 나타내었다.The results are shown in Tables 3 and 4. For comparison, a conventional thick film capacitor using glass as an inorganic binder was prepared in the same manner as described above. (Comparative Example 6-10). The results are shown in Table 3 and Table 4.

[표 3a]TABLE 3a

Figure kpo00003
Figure kpo00003

[표 3b]TABLE 3b

[표 4]TABLE 4

Figure kpo00005
Figure kpo00005

표 3과 표 4의 결과로부터 알 수 있다.It can be seen from the results of Table 3 and Table 4.

비교예 6-10의 종래의 후막 커패시터는 유전율이 12-2900으로 낮은 반면에, 실시예 17-47의 후막 커패시터는 유전율에 4000-11000으로서 매우 높다.The conventional thick film capacitors of Comparative Examples 6-10 have a low dielectric constant of 12-2900, while the thick film capacitors of Examples 17-47 are very high as 4000-11000 in dielectric constant.

실시예 1-46와 비교예 1-10에서, 시판되는 저항체 페이스트를 사용하여 후막 커패시터와 함께 단일 기판상에 다음 두가지 방법으로 저항체를 형성하였다.In Examples 1-46 and Comparative Examples 1-10, a resistor was formed on a single substrate together with a thick film capacitor using a commercially available resistor paste in the following two ways.

첫번째 방법으로는, 상부 금속 페이스트 층위에 형성된 절연 페이스트 층위에 저항체 페이스트층을 인쇄하고 소결시켰다. 두번째 방법으로는, 후막 커패시터에 인접하여 저항체 페이스트로를 인쇄하고 소결하여 강유전체 페이스트층과 접촉시켰다. 얻어진 저항체들을 조시하였다.In the first method, a resistor paste layer was printed and sintered on the insulating paste layer formed on the upper metal paste layer. In the second method, a resistor paste was printed and sintered in contact with the ferroelectric paste layer adjacent to the thick film capacitor. The obtained resistors were examined.

실시예 1-46의 경우에는 어떤 방법이든 원하는 저항값을 갖는 저항체를 형성시킬 수 있었다.In the case of Examples 1-46, a resistor having a desired resistance value could be formed by any method.

반면에, 비교예 1-10의 경우에는 어떤 방법으로도 원하는 저항값을 갖는 저항체를 형성할 수 없었다. 전술한 것은 비교예에서는 바인더로서 강유전체 페이스트에 포함된 유리가 소결되는 동안 저항체 페이스트 층으로 확산되기 때문이다.On the other hand, in Comparative Example 1-10, a resistor having a desired resistance value could not be formed by any method. This is because the glass contained in the ferroelectric paste as a binder in the comparative example diffuses into the resistor paste layer during sintering.

[실시예 48-53]Example 48-53

(A) 강유전체 무기 화합물의 합성.(A) Synthesis of ferroelectric inorganic compound.

출발재료로서 PbO, Fe2O3, WO3, Nb2O5, BaCO3및 CuO를 사용하여 표 1에 나타난 강유전체 화합물인 PFN과 BCW에 상당하는 조성을 얻을 수 있게 평량했다. PFN과 BCW원료들을 표 5에 나타난 몰비 X : Y(X+Y=1)로 혼합했다. 이어서, 이들 원료들을 볼밀로 습식 혼합하고, 700-800℃에서 예비 소결하였다. 예비 소결체를 볼밀로 분쇄하고 건조시켜서 강유전체 무기 화합물을 만들었다.PbO, Fe 2 O 3 , WO 3 , Nb 2 O 5 , BaCO 3 and CuO were used as starting materials, so that the compositions corresponding to the ferroelectric compounds PFN and BCW shown in Table 1 were obtained. PFN and BCW raw materials were mixed in the molar ratio X: Y (X + Y = 1) shown in Table 5. These raw materials were then wet mixed in a ball mill and presintered at 700-800 ° C. The presintered body was ground with a ball mill and dried to produce a ferroelectric inorganic compound.

(B) 무기 바인더의 제조.(B) Preparation of an inorganic binder.

원료로서 PbO, WO3, CuO, Fe2O3, Nb2O5및 BaO를 사용하여, 표 5에 나타난 몰비로 평량했다. 이들 재료들을 볼밀로 습식 혼합하고 건조시켜서 공정 조성물 PbO-CuO, PbO-WO3, PbO-Nb2O5, PbO-Nb2O5-BaO-CuO, PbO-Nb2O5-WO3및 PbO-WO3-CuO를 얻었다. 이들 공정 조성물을 직접 무기 바인더로서 사용했다. 또한, 공정 조성물들을 600-1000℃에서 예비 소결하고, 볼밀로 분쇄하고 건조시켜서 무기 바인더로서 사용했다.PbO, WO 3 , CuO, Fe 2 O 3 , Nb 2 O 5, and BaO were used as the starting materials, and the basis weight was measured at the molar ratio shown in Table 5. These materials were wet mixed with a ball mill and dried to provide process compositions PbO-CuO, PbO-WO 3 , PbO-Nb 2 O 5 , PbO-Nb 2 O 5 -BaO-CuO, PbO-Nb 2 O 5 -WO 3 and PbO -WO 3 -CuO was obtained. These process compositions were used directly as inorganic binders. In addition, the process compositions were presintered at 600-1000 ° C., ground in a ball mill and dried to use as inorganic binders.

(C) 강유전체 페이스트의 제조.(C) Preparation of Ferroelectric Paste.

공정(A)(B)에서 만들어진 강유전체 무기 화합물과 무기 바인더를 표 5에 나타난 비율로 평량했다. 용제로서 테르피내올 28wt%과 유기 바인더로서 에틸-셀룰로오스 4wt%를 각 원료들 68wt%에 첨가하고 혼합하여 6종류의 강유전체 페이스트를 만들었다.The ferroelectric inorganic compound and the inorganic binder produced in step (A) and (B) were basis weighted at the ratios shown in Table 5. 28 wt% of terpinol as a solvent and 4 wt% of ethyl-cellulose as an organic binder were added to 68 wt% of the raw materials and mixed to prepare six types of ferroelectric pastes.

용제로서 테르피내올 28wt%과 유기 바인더로서 에틸-셀룰로오스 4wt%를 강유전체 무기 화합물 68wt%에 첨가 혼합하여 무기 바인더가 없는 강유전체 페이스트를 만들었다.A ferroelectric paste without an inorganic binder was prepared by adding and mixing 28 wt% of terpinol as a solvent and 4 wt% of ethyl-cellulose as an organic binder to 68 wt% of a ferroelectric inorganic compound.

(D) 후막 커패시터의 제조.(D) Fabrication of thick film capacitors.

무기 바인더를 포함하는 강유전체 페이스트, 무기 바인더가 없는 강유전체 페이스트 및 Ag-Pb를 베이스로한 금속 페이스트를 사용하여 인쇄법으로 표 2에 도시된 다층 구조체를 형성했다. 벨트로를 사용하여 다층 구조체를 900℃에서 10분동안 소결시켜서 후막 커패시터를 제조하였다.The multilayer structure shown in Table 2 was formed by a printing method using a ferroelectric paste containing an inorganic binder, a ferroelectric paste without an inorganic binder, and a metal paste based on Ag-Pb. A thick film capacitor was prepared by sintering the multilayer structure at 900 ° C. for 10 minutes using a belt furnace.

얻어진 후막 커패시터의 유전율과 유전 손실율(tanδ×10-2)을 1KHz에서 측정하여, 그 결과를 표 5에 나타냈다.The dielectric constant and dielectric loss ratio (tan δ × 10 −2 ) of the obtained thick film capacitor were measured at 1 KHz, and the results are shown in Table 5.

비교를 위하여, 무기 바인더로서 유리를 사용하고 무기 바인더가 없는 강유전체 페이스트층(제2도의 "14")을 생략하며 종래의 후막 커패시터를 만들었다. (비교예 11).For comparison, conventional thick film capacitors were made by using glass as the inorganic binder and omitting the ferroelectric paste layer (" 14 " in FIG. 2) without the inorganic binder. (Comparative Example 11).

전술한 실시예와 같은 방법으로 무기 바인더가 없는 페이스트층(제2도의 "14")을 생략한 수막 커패시터를 만들었다. (참조예 1-2).In the same manner as in the above-described embodiment, a water film capacitor in which the paste layer without the inorganic binder ("14" in FIG. 2) was omitted was made. (Reference Example 1-2).

비교예와 참조예의 결과를 표 5에 나타냈다.Table 5 shows the results of the comparative example and the reference example.

[표 5]TABLE 5

Figure kpo00006
Figure kpo00006

표 5의 결과로부터 알 수 있듯이, 비교예 11의 종래의 후막 커패시터는 유전율이 50으로 낮으며, 반면에 실시예 48-53의 후막 커패시터는 유전율이 13000이상으로 극히 높다.As can be seen from the results in Table 5, the conventional thick film capacitor of Comparative Example 11 has a low dielectric constant of 50, whereas the thick film capacitors of Examples 48-53 have extremely high dielectric constant of 13000 or more.

이들 실시예들의 값들은 참조예 1-2의 유전율 8000과 9000보다 매우 큰 값이다.The values of these embodiments are much greater than the dielectric constants 8000 and 9000 of Reference Examples 1-2.

이러한 효과는 무기 바인더가 없는 강유전체 페이스트(제2도의 "14")를 쌓아 올리고 소결시켰기 때문이다.This effect is due to the stacking and sintering of the ferroelectric paste ("14" in FIG. 2) without the inorganic binder.

[실시예 54-68]Example 54-68

(a) 강유전체 무기 화합물의 합성.(a) Synthesis of Ferroelectric Inorganic Compound.

출발재료로서 PbO, Fe2O3, WO3, Nb2O5, BaCO3, CuO, MgCO3및 NiO를 사용하여 표 1의 강유전체 무기 화합물인 PFN과 BCW에 상당하는 조성을 얻을 수 있게 평량했다. 강유전체 무기 화합물과 첨가물인 NiO, MgO 및 MnO를 표 6에 나타난 몰비로 평량했다. 여기서 전술한 PFN, BCW는 표 6의 값들로부터 알 수 있듯이 X(PFN)-Y(BCW)[X+Y=1]가 되도록 설정한다.PbO, Fe 2 O 3 , WO 3 , Nb 2 O 5 , BaCO 3 , CuO, MgCO 3 and NiO were used as starting materials, so that the compositions corresponding to PFN and BCW, which are ferroelectric inorganic compounds of Table 1, could be obtained. Ferroelectric inorganic compounds and additives NiO, MgO and MnO were weighed in the molar ratios shown in Table 6. Here, PFN and BCW described above are set to be X (PFN) -Y (BCW) [X + Y = 1] as can be seen from the values in Table 6.

이들 원료들을 볼밀로 습식 혼합하고, 700-800℃에서 예비 소결하고, 재차 볼밀로 분쇄하고 건조시켜서 강유전체 무기 화합물을 만들었다.These raw materials were wet mixed in a ball mill, presintered at 700-800 ° C., and again milled and dried in a ball mill to form a ferroelectric inorganic compound.

(B) 무기 바인더의 제조.(B) Preparation of an inorganic binder.

원료로서 PbO, CuO 및 WO3를 사용하여 표 6에 나타난 몰비로 평량하여, 볼밀로 습식 혼합하고 건조시켜서 공정 조성물 PbO-CuO와 PbO-WO3를 얻었다. 공정 조성물을 600-830℃에서 예비 소결한 후에 볼밀로 분쇄하고 건조시켜서 무기 바인더를 만들었다.PbO, CuO and WO 3 were used as the starting materials, and the basis weights were shown in Table 6, followed by wet mixing with a ball mill and drying to obtain process compositions PbO-CuO and PbO-WO 3 . The process composition was presintered at 600-830 ° C. and then ground in a ball mill and dried to form an inorganic binder.

(C) 강유전체 페이스트의 제조.(C) Preparation of Ferroelectric Paste.

공정(A)(B)으로 제조된 강유전체 무기 화합물과 무기 바인더를 표 6의 몰비로 평량했다. 용제로서 테르피네올 28wt%와 유기 바인더로서 에틸-셀룰로오스 4wt%를 각 원료들 68wt%에 첨가하고 혼합하여 15종류의 강유전체 페이스트를 만들었다.The ferroelectric inorganic compound and the inorganic binder produced in Step (A) and (B) were weighed out in the molar ratios in Table 6. Fifteen kinds of ferroelectric pastes were prepared by adding 28 wt% of terpineol as a solvent and 4 wt% of ethyl-cellulose as an organic binder to 68 wt% of the raw materials.

(D) 팁 커패시터의 제조.(D) Fabrication of tip capacitors.

Ag-Pb를 베이스로한 금속 페이스트, 전술한 강유전체 페이스트 및 Ag-Pb를 베이스로한 금속 페이스트를 순서대로 2"×2"의 알루미나 기판상에 인쇄하여 쌓아올리고, 얻어진 구조체를 벨트 오븐을 사용하여 900℃에서 10분동안 소결하였다.Ag-Pb-based metal pastes, the above-described ferroelectric pastes, and Ag-Pb-based metal pastes were printed and stacked on a 2 " x 2 " alumina substrate in order, and the resulting structure was obtained using a belt oven. Sintering was performed at 900 ° C. for 10 minutes.

각 소결된 구조체를 조각들로 잘라서 제3도에 도시된 구조를 갖는 팁 커패시터를 제조했다. 얻어진 후막 커패시터의 유전율과 유전 손실율(tanδ×10-2)을 1KHz에서 측정하여 그 결과를 표 6에 나타냈다.Each sintered structure was cut into pieces to make a tip capacitor having the structure shown in FIG. The dielectric constant and dielectric loss ratio (tanδ × 10 −2 ) of the obtained thick film capacitor were measured at 1 KHz, and the results are shown in Table 6.

비교하기 위하여 무기 바인더로서 유리를 사용한 종래의 후막 커패시터를 만들었다. (비교예 12-16). 그린시이트법으로 팁 커패시터를 제조했다. (비교예 17). 이들 비교예의 결과를 표 6에 나타냈다.For comparison, conventional thick film capacitors were made using glass as the inorganic binder. (Comparative Example 12-16). A tip capacitor was manufactured by the green sheet method. (Comparative Example 17). Table 6 shows the results of these comparative examples.

[표 6a]TABLE 6a

Figure kpo00007
Figure kpo00007

[표 6b]TABLE 6b

Figure kpo00008
Figure kpo00008

표 6의 결과로부터 알 수 있듯이, 비교예 12-16의 종래의 후막 커패시터는 유전율이 12-270으로 낮은 반면에, 실시예 54-68의 후막 커패시터는 유전율이 4000-7000으로 대단히 높다.As can be seen from the results in Table 6, the conventional thick film capacitors of Comparative Examples 12-16 have a low dielectric constant of 12-270, while the thick film capacitors of Examples 54-68 have a very high dielectric constant of 4000-7000.

비교예 17의 팁 커패시터의 두께는 0.6-10mm인 반면에, 실시예 54-68의 팁 커패시터의 두께는 0.5mm이하로서 매우 작다.The thickness of the tip capacitor of Comparative Example 17 is 0.6-10 mm, while the thickness of the tip capacitor of Examples 54-68 is very small, 0.5 mm or less.

[실시예 69-98]Example 69-98

(A) 강유전체 무기 화합물의 합성.(A) Synthesis of ferroelectric inorganic compound.

출발재료로서 PbO, Fe2O3, WO3, Nb2O5, BaCO3, CuO, MgCO3, NiO, SrCO3, CaCO3, ZrO2, CO2O3, ZnO, TiO, Sb2O3및 Ta2O3를 사용하여 표 7과 8에 나타난 강유전체 무기 화합물에 상당하는 조성물을 얻을 수 있도록 평량했다. 표 7과 표 8에서 PBZMT 같은 약어는 표 1의 강유전체 무기 화합물을 말한다.As starting materials PbO, Fe 2 O 3 , WO 3 , Nb 2 O 5 , BaCO 3 , CuO, MgCO 3 , NiO, SrCO 3 , CaCO 3 , ZrO 2 , CO 2 O 3 , ZnO, TiO, Sb 2 O 3 And Ta 2 O 3 to give a composition equivalent to the ferroelectric inorganic compounds shown in Tables 7 and 8. Abbreviations such as PBZMT in Table 7 and Table 8 refer to the ferroelectric inorganic compounds of Table 1.

강유전체 무기 화합물과 첨가물인 MnO를 표 7과 8의 몰비로 평량했다. 여기서, 여러종류의 강유전체 무기 화합물을 사용할 때에는 전체 몰비를 1로 했다. 이들 원료를 볼밀로 습식 혼합하고, 700-800℃에서 예비 소결하고 볼밀로 분쇄하여 건조시켜서 강유전체 무기 화합물을 만들었다.The ferroelectric inorganic compound and the additive MnO were weighed in the molar ratios of Tables 7 and 8. Here, when using various types of ferroelectric inorganic compounds, the total molar ratio was set to one. These raw materials were wet mixed with a ball mill, pre-sintered at 700-800 ° C., ground by ball mill and dried to form a ferroelectric inorganic compound.

(B) 무기 바인더의 제조.(B) Preparation of an inorganic binder.

원료로서 PbO, CuO, WO3, Nb2O5, Sb2O3, BaO, Fe2O3및 CaO를 사용하여 표 7과 8의 몰비로 평량하여 볼밀로 습식 혼합하고 건조시켰다. 얻어진 공정 조성물 PbO-CuO, PbO-WO3, PbO-Nb2O5, PbO-Sb2O3, PbO-CaO, PbO-Fe2O3, PbO-ZnO 및 BaO-WO3을 직접 무기 바인더로서 사용했다.PbO, CuO, WO 3 , Nb 2 O 5 , Sb 2 O 3 , BaO, Fe 2 O 3 and CaO as raw materials were weighed in a molar ratio of Tables 7 and 8, and wet-mixed with a ball mill and dried. The obtained process composition PbO-CuO, PbO-WO 3 , PbO-Nb 2 O 5 , PbO-Sb 2 O 3 , PbO-CaO, PbO-Fe 2 O 3 , PbO-ZnO and BaO-WO 3 as direct inorganic binders Used.

또한, 이들 공정 조성물을 700-830℃에서 예비 소결한 후에 볼밀로 분쇄하고 건조시켜서 무기 바인더로서 사용했다.In addition, these process compositions were presintered at 700-830 ° C., then pulverized with a ball mill and dried to be used as inorganic binders.

(C) 강유전체 페이스트의 제조.(C) Preparation of Ferroelectric Paste.

공정(A)(B)으로 만들어진 강유전체 무기 화합물과 무기 바인더를 표 7과 표 8에 나타난 몰비로 평량했다. 용제로서 테르피네올 28wt%와 유기 바인더로서 에틸-셀룰로오스 4%wt%를 각 원료들 68%wt%에 첨가 혼합하여 30종류의 강유전체 페이스트를 만들었다.The ferroelectric inorganic compound and the inorganic binder produced in step (A) and (B) were basis weighted at the molar ratios shown in Tables 7 and 8. Thirty kinds of ferroelectric pastes were prepared by adding and mixing terpineol 28 wt% as a solvent and 4 wt% ethyl-cellulose as an organic binder to 68 wt% of each raw material.

(D) 팁 커패시터의 제조.(D) Fabrication of tip capacitors.

표 7과 표 8의 각 전극 페이스트, 공정(C)으로 얻어진 강유전체 페이스트 및 금속 페이스트를 순서대로 2"×2"의 알루미나 기판상에 인쇄하여 쌓아올리고, 그 구조체를 벨트 오븐을 사용하여 900℃에서 10분동안 소결했다.The electrode pastes of Tables 7 and 8, the ferroelectric pastes and the metal pastes obtained in step (C) were printed and stacked on a 2 "x 2" alumina substrate in order, and the structures were fabricated at 900 캜 using a belt oven. Sintered for 10 minutes.

각각의 소결된 구조체를 조각으로 잘라서 제3도에 도시된 구조를 갖는 팁 커패시터를 만들었다. 얻어진 후막 커패시터의 유전율과 유전 손실율(tanδ×10-2)을 1KHz에서 측정하여 그 결과를 표 7과 표 8에 나타냈다.Each sintered structure was cut into pieces to make a tip capacitor having the structure shown in FIG. The dielectric constant and dielectric loss ratio (tanδ × 10 −2 ) of the obtained thick film capacitor were measured at 1 KHz, and the results are shown in Tables 7 and 8.

비교하기 위하여 무기 바인더로써 유리를 사용한 종래의 후막 커패시터를 만들었다. (비교예 18-22). 그 결과를 표 7과 표 8에 나타냈다.For comparison, conventional thick film capacitors were made using glass as the inorganic binder. (Comparative Example 18-22). The results are shown in Tables 7 and 8.

[표 7a]TABLE 7a

Figure kpo00009
Figure kpo00009

[표 7b]TABLE 7b

Figure kpo00010
Figure kpo00010

[표 8]TABLE 8

Figure kpo00011
Figure kpo00011

표 7과 표 8의 결과로부터 알 수 있듯이, 비교예 18-22의 종래의 후막 커패시터는 유전율이 50-2900으로 낮은 반면에, 실시예 69-98의 후막 커패시터는 유전율이 4000-11000으로서 극히 높다.As can be seen from the results of Tables 7 and 8, the conventional thick film capacitors of Comparative Examples 18-22 have low dielectric constants of 50-2900, while the thick film capacitors of Examples 69-98 have extremely high dielectric constants of 4000-11000. .

비교예 17을 참조로 설명한 바와같이 그린 시이트법으로 형성된 팁 커패시터의 두께는 0.6-10mm인 반면에, 실시예 69-98의 팁 커패시터의 두께는 0.5mm이하로 매우 작다.As described with reference to Comparative Example 17, the thickness of the tip capacitor formed by the green sheet method is 0.6-10 mm, whereas the thickness of the tip capacitor of Examples 69-98 is very small, 0.5 mm or less.

이상에서 설명한 바와같이, 본 발명의 후막 커패시터는 소결성이 높고, 유전특성이 양호하고, 내습성과 내이동성이 높다.As described above, the thick film capacitor of the present invention has high sintering property, good dielectric properties, high moisture resistance and high mobility.

또한, 본 발명의 후막 커패시터는 소형화, 박형화 할 수 있고, 패키지 용으로 유리하고, 공정의 수를 줄일 수 있다.In addition, the thick film capacitor of the present invention can be miniaturized and thinned, is advantageous for packaging, and can reduce the number of processes.

Claims (14)

퍼로브스카이트 구조로된 강유전체 무기 화합물과 강유전체 무기 화합물의 소결 온도이하에서 액상이 되는 공정 조성을 갖는 무기 바인더로 된 강유전체 소결층과, 이 강유전체 소결층 양면에 적어도 두개의 전극을 구비한 것을 특징으로 하는 후막 커패시터.A ferroelectric sintered layer of an inorganic binder having a process composition which becomes a liquid at a sintering temperature below the sintering temperature of the ferroelectric inorganic compound having a perovskite structure and the ferroelectric inorganic compound, and at least two electrodes are provided on both sides of the ferroelectric sintered layer. Thick film capacitors. 제1항에 있어서, 강유전체 소결층내에서 무기 바인더가 강유전체 무기 화합물의 입계에 존재하는 것을 특징으로 하는 후막 커패시터.The thick film capacitor according to claim 1, wherein an inorganic binder is present at grain boundaries of the ferroelectric inorganic compound in the ferroelectric sintered layer. 제1항에 있어서, 강유전체 소결층내에서 무기 바인더가 강유전체로 무기 화합물의 결정내로 확산되는 것을 특징으로 하는 후막 커패시터.2. The thick film capacitor according to claim 1, wherein the inorganic binder diffuses into the crystal of the inorganic compound in the ferroelectric sintered layer. 제1항에 있어서, 강유전체 소결층내에서 무기 바인더는 강유전체 무기 화합물의 입계 및 결정내에 존재하는 것을 특징으로 하는 후막 커패시터.The thick film capacitor according to claim 1, wherein the inorganic binder is present in grain boundaries and crystals of the ferroelectric inorganic compound in the ferroelectric sintered layer. 제1항에 있어서, 강유전체 무기 화합물들은 Pb(Fe1/2Nb2/3)O3-Ba(Cu1/2W1/2)O3, BaTiO3, PbTiO3및 (Pb,Ba) {(Zn1/3Nb2/3)(Mg1/3Nb2/3)Ti}O3로 구성된 화합물 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 후막 커패시터.The ferroelectric inorganic compounds of claim 1, wherein the ferroelectric inorganic compounds are selected from Pb (Fe 1/2 Nb 2/3 ) O 3 -Ba (Cu 1/2 W 1/2 ) O 3 , BaTiO 3 , PbTiO 3 and (Pb, Ba) { And (Zn 1/3 Nb 2/3 ) (Mg 1/3 Nb 2/3 ) Ti} O 3 . 제1항에 있어서, 무기 바인더는 PbO-CuO, PbO-WO3, PbO-Nb2O5, PbO-Fe2O3, PbO-ZnO, PbO-TiO2, PbO-CaO, PbO-Sb2O3, BaO-WO3, Nb2O3-TiO2, TiO-MgO 및 PbO-MgO로 구성된 공전 조성물 그룹으로 선택되는 것을 특징으로 하는 후막 커패시터.The method of claim 1, wherein the inorganic binder is PbO-CuO, PbO-WO 3 , PbO-Nb 2 O 5 , PbO-Fe 2 O 3 , PbO-ZnO, PbO-TiO 2 , PbO-CaO, PbO-Sb 2 O 3 , BaO-WO 3 , Nb 2 O 3 -TiO 2 , TiO-MgO and PbO-MgO, a thick film capacitor, characterized in that it is selected from the group of composition. 제6항에 있어서, 무기 바인더는 소결되는 동안 산화에 의해서 공정 조성물로 변환되는 조성물로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 후막 커패시터.7. The thick film capacitor of claim 6 wherein the inorganic binder is selected from the group consisting of a composition that is converted into a process composition by oxidation during sintering. 제1항에 있어서, 강유전체 소결층은 무기 바인더를 소량 함유한 중간층과 그 중간층 위와 아래에 형성되며 무기 바인더를 대량 함유한 층들로된 것을 특징으로 하는 후막 커패시터.The thick film capacitor according to claim 1, wherein the ferroelectric sintered layer is formed of an intermediate layer containing a small amount of an inorganic binder, and layers formed above and below the intermediate layer and containing a large amount of an inorganic binder. 절연기판상에 형성된 제1금속 전극층과, 제1전극층 상에 직접 쌓아올려지며 퍼로브스카이트 구조를 갖는 강유전체 무기 화합물 및 강유전체 무기 화합물들의 소결 온도 이하에서 액상이 되는 공정 조성을 갖는 무기 바인더로 주로 구성된 강유전체 소결층과, 및 강유전체 소결층 상에 직접 형상된 제2금속 전극층을 구비한 것을 특징으로 하는 후막 커패시터.It is mainly composed of a first metal electrode layer formed on an insulating substrate, and an inorganic binder having a process composition which is directly stacked on the first electrode layer and has a process composition which becomes liquid below the sintering temperature of the ferroelectric inorganic compound having a perovskite structure and the ferroelectric inorganic compounds. And a ferroelectric sintered layer, and a second metal electrode layer formed directly on the ferroelectric sintered layer. 제9항에 있어서, 절연 기판과 제1금속 전극층 사이에 개재된 강유전체 소결층을 또한 구비한 것을 특징으로 하는 후막 커패시터.The thick film capacitor according to claim 9, further comprising a ferroelectric sintered layer interposed between the insulating substrate and the first metal electrode layer. 절연기판상에 헝성된 제1금속 전극층과, 제1금속 전극층 상에 직접 쌓아올려지며 퍼로브스카이트 구조를 갖는 강유전체 무기 화합물 및 강유전체 무기 화합물의 소결 온도이하에서 액상이 되는 공정 조성을 갖는 무기 바인더로 주로 구성된 강유전체 소결층과, 및 강유전체 소결층 상에 직접 형성된 제2의 금속 전극층을 구비한 후막 커패시터에 있어서, 후막 커패시터를 원하는 소정의 크기의 팁으로 잘라서 된 것을 특징으로 하는 후막 커패시터.An inorganic binder having a first metal electrode layer formed on an insulating substrate, a ferroelectric inorganic compound having a perovskite structure, and a process composition which becomes a liquid at or below the sintering temperature of the ferroelectric inorganic compound which is directly stacked on the first metal electrode layer. A thick film capacitor having a ferroelectric sintered layer mainly composed of a second metal electrode layer formed directly on the ferroelectric sintered layer, wherein the thick film capacitor is cut into a tip having a desired predetermined size. 제11항에 있어서, 강유전체 소결층과 제2금속 전극층으로 구성된 적어도 하나의 다층 구조체를 제2의 금속 전극층상에 쌓아서 된 것을 특징으로 하는 후막 커패시터.12. The thick film capacitor according to claim 11, wherein at least one multilayer structure consisting of a ferroelectric sintered layer and a second metal electrode layer is stacked on the second metal electrode layer. 제11항에 있어서, 절연기판과 제1금속 전극층 사이에 개재된 강유전체 소결층을 구비한 것을 특징으로 하는 후막 커패시터.The thick film capacitor according to claim 11, further comprising a ferroelectric sintered layer interposed between the insulating substrate and the first metal electrode layer. 후막법으로 제조된 제1항에 따른 후막 커패시터를 고온에서 에이징 처리하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 후막 패시터.A thick film capacitor obtained by aging the thick film capacitor according to claim 1 produced by the thick film method at a high temperature.
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