KR890016037A - 아세탈 공중합체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 포토레지스트 - Google Patents

아세탈 공중합체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 포토레지스트 Download PDF

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KR890016037A
KR890016037A KR1019890004831A KR890004831A KR890016037A KR 890016037 A KR890016037 A KR 890016037A KR 1019890004831 A KR1019890004831 A KR 1019890004831A KR 890004831 A KR890004831 A KR 890004831A KR 890016037 A KR890016037 A KR 890016037A
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KR
South Korea
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photoresist
acetal copolymer
halogen
preparation
same
Prior art date
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KR1019890004831A
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English (en)
Inventor
양 난-로
오우얼바크 앤드류
엘 폴 제임즈
페스 로우즈
에스 왕 쉬안
Original Assignee
존 에이 페니
획스트 세라니이즈 코오포레이션
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D321/00Heterocyclic compounds containing rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D317/00 - C07D319/00
    • C07D321/02Seven-membered rings
    • C07D321/04Seven-membered rings not condensed with other rings
    • C07D321/061,3-Dioxepines; Hydrogenated 1,3-dioxepines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G4/00Condensation polymers of aldehydes or ketones with polyalcohols; Addition polymers of heterocyclic oxygen compounds containing in the ring at least once the grouping —O—C—O—

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  • Polyethers (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

아세탈 공중합체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 포토레지스트
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (8)

  1. 트리옥산을 하기 식의 화합물 공중합 시키는 것을 포함하는 골격 할로겐 관능기를 함유하는 아세탈 공중합체의 제조방법:
    상기식에서, R은 할로겐이다.
  2. 제 1 항의 방법에 의해 생성된 아세탈 공중합체.
  3. 트리옥산과 5,6-디브로모-1,3-디옥세펜을 공중합시키는 것을 포함하는 골격 브로모-관능기를 함유하는 아세탈 공중합체의 제조방법.
  4. 제 1 항의 방법에 의해 생산된 아세탈 공중합체.
  5. 골격 할로겐-관능기를 함유하는 폴리아세탈을 포함하는 포토레지스트.
  6. 제 5 항에 있어서, 할로겐이 브롬인 포토레지스트.
  7. 제 5 항에 있어서, 할로겐이 염소인 포토레지스트.
  8. 제 5 항에 있어서, 폴리아세탈이 트리옥산과 1,3-디옥세프-5-엔의 공중합체 또는 그의 유도체인 포토레지스트.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890004831A 1988-04-13 1989-04-12 아세탈 공중합체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 포토레지스트 KR890016037A (ko)

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US181237 1988-04-13

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5206308A (en) * 1989-05-12 1993-04-27 Hoechst Celanese Corporation Grafting of amine functional polymers onto functionalized oxymethylene polymers and the resulting graft polymers thereof
JPH0761337A (ja) * 1993-08-26 1995-03-07 Aisin Seiki Co Ltd 車輪ブレーキのリトラクト機構付きブレーキ装置
AU2001288953A1 (en) * 2000-09-08 2002-03-22 Shipley Company, L.L.C. Novel polymers and photoresist compositions comprising labile polymers backbonesfor short wave imaging

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA720516A (en) * 1965-10-26 Farbwerke Hoechst Aktiengesellschaft Vormals Meister Lucius And Bruning Trioxane-1,3-dioxepane copolymers
US3337587A (en) * 1960-03-21 1967-08-22 Union Carbide Corp 2-hydrocarbon-5, 6-epoxy-1, 3-dioxepanes
NL271273A (ko) * 1960-11-15
BE631682A (ko) * 1962-04-28
DE2062958A1 (de) * 1970-01-23 1971-07-29 Perstorp Ab Verfahren zur Herstellung von stabilen Trioxan Copolymeren
BE787798A (fr) * 1971-08-19 1973-02-21 Hoechst Ag Procede de preparation d'homopolymeres et de copolymeres d'acetals cycliques
US4399272A (en) * 1979-11-15 1983-08-16 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Process for producing polyacetal copolymers
US4751272A (en) * 1986-05-01 1988-06-14 Toray Industries, Inc. Process for producing oxymethylene copolymer and resinous composition

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CN1039600A (zh) 1990-02-14
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JPH0211629A (ja) 1990-01-16
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