KR890008263A - 반응성염료, 이의 제조방법 및 용도 - Google Patents

반응성염료, 이의 제조방법 및 용도 Download PDF

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차카스 아타나시오스
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베르너 발대그
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Abstract

내용 없음

Description

반응성염료, 이의 제조방법 및 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (23)

  1. 하기 일반식(1)의 반응성 염료.
    상기식에서, D는 일반식(2a), (2b) 또는 (2c)의 라디칼 이고,
    일반식(1)에서의 트리아진라디칼은 D의 -NH- 또는 N(R1)- 그룹에 결합되며, R1은 수소이거나, 또는 할로겐, 하이드록실, 시아노, C1-4알콕시, C1-4-알콕시카보닐, 카복실, 설파모일, 설포 또는 설페이토로 치환될 수 있는 C1-4알킬이고, R2는 수소, C1-4알킬, C1-4알콕시, 할로겐 또는 카복실이며 ; K는 일반식(3a), (3b),(3c),(3d) 또는 (3e)의 라디칼이고,
    R3는 할로겐, 하이드록실, 시아노, C1-=콕시, C1-4알콕시카보닐, 카복실, 설파모일, 설포 또는 설페이토로 치환될 수 있는 C1-4알킬이거나, 2-카복시비닐이거나, C1-4, C1-4알콕시, 니트로, 할로겐, 카바모일, 카복실 또는 설포로 치환될 수 있는 페닐이거나, 또는 페닐 -C1-4알킬 또는 펜옥시 C1-4알킬이고, R4는 수소이거나, 또는 하이드록실 또는 -NH2로 치환될 수 있는 C1-4알킬이며, R5는 수소 또는 C1-4알킬이고, R6는 수소, 시아노, 카바모일, 또는 카복실 또는 설포메틸이며, R7은 서로 독립적으로 C1-4알킬, C1-4알콕시, 할로겐, 니트로, 카바모일, 설파모일, 카복실, 설포, 설포메틸 및 하기 정의되는 일반식-SO2-Z의 라디칼중의 하나로 이루어진 그룹중에서 선택되는 0 내지 3개의 치환체이고 ; X는 불소, 염소, 브롬, 설포, C1-4알킬설포닐, 페닐 설포닐 또는 카복시피리디늄이며 ; A는 일반식(4)의 라디칼이거나, 트리아진 환에 직접 결합된 일반식(5a), (5b), (5c) 또는 (5d)의 다리칼이고,
    R8은 수소이거나, 또는 할로겐, 하이드록실, 시아노 C1-4알콕시, C1-4알콕시카보닐, 카복실, 설파모일, 설포 또는 설페이토로 치환될 수 있는 탄소수 1 내지 4의 알킬이며, R9는 수소, C1-4알킬, C1-4알콕시, 할로겐, 카복실 또는 설포이고, B는 직접 결합이거나, 또는 -(CH2)n- 또는 -O-(CH2)n-라디칼(여기에서, n은 1 내지 6이다)이며, R은 상기 일반식(5a),(5b),(5c) 또는 (5d)의 라디칼 또는 하기 일반식(5e)의 라디칼이과,
    Z는 β-설포이토에틸, β-티오설페이토에틸, β-포스페이토에틸, β-아실옥시에틸, β-할로에틸 또는 비닐이고, alk는 탄소수 1 내지 7의 알킬렌 라디칼 또는 이의 측쇄 이성체이며, T는 수소, 염소, 브롬, 불소, 하이드록실, 설페이토, 탄소수 1 내지 4의 아실옥시, 시아노, 카복실, 탄소수 1 내지 5의 알콕시카보닐 또는 카바모일이거나, 또는 -SO2-Z의 라디칼(여기에서, Z는 상기 정의한 바와 같다)이고, V는 수소이거나, 또는 카복실 또는 설포그룹 또는 이들의 유도체에 의해 치환될 수 있는 탄소수 1 내지 4의 알킬 라디칼, 탄소수 1 또는 2의 알콕시 그룹, 할로겐 또는 하이드록실이며, R1는 수소 또는 C1-6알킬이고 alk는 서로 독립적으로 탄소수 2 내지 6의 폴리메틸렌 라디칼 또는 이의 측쇄 이성체이며, m은 1 내지 6이고, p은 1 내지 6이며, g는 1 내지 6이다.
  2. 제1항에 있어서, 하기 일반식(15)의 반응성 염료.
    상기식에서, R2, R4, R5, R7, X 및 A는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  3. 제1항에 있어서, 하기 일반식(16)의 반응성 염료.
    상기식에서, R2, R4, R5, R6, X 및 A는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  4. 제1항에 있어서, 하기 일반식(17)의 반응성 염료.
    상기식에서, R4, R5, R6, X 및 A는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  5. 제1항에 있어서, 하기일반식(18)의 반응성 염료.
    상기식에서, R2, R3, X 및 A는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  6. 제1항에 있어서, 하기 일반식(19)의 반응염료.
    상기식에서, R2, R3, X, A 1항에서 정의한 바와 같다.
  7. 제1항에 있어서, 하기 일반식(20)의 반응성 염료.
    상기식에서, R3, X 및 A는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  8. 제1항에 있어서, 하기 일반식(21)의 반응성 염료.
    상기식에서 R2, X 및 A는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  9. 제1항에 있어서, 하기 일반식(22)의 반응성 염료.
    상기식에서, R2, X 및 A는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  10. 제1항에 있어서, 하기 일반식(23)의 반응성 염료.
    상기식에서, X 및 A는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  11. 제1항에 있어서, 하기 일반식(24)의 반응성 염료.
    상기식에서, R2, R3, X 및 A는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  12. 제1항에 있어서, 하기 일반식(25)의 반응성 염료.
    상기식에서, R2, R3, X 및 A는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  13. 제1항에 있어서, 하기 일반식(26)의 반응성 염료.
    상기식에서 R3, X 및 A는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  14. 제1항에 있어서, 하기 일반식(27)의 반응성 염료.
    상기식에서, R2, R7, X 및 A는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  15. 제1항에 있어서, 하기 일반식(28)의 반응성 염료.
    상기식에서, R2, R7, X 및 A는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  16. 제1항에 있어서, 하기 일반식(29)의 반응성 염료.
    상기식에서, R7, X 및 A는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  17. 제14항에 있어서, R7의 지수가 1이고, R7이 -SO1-Z 라디칼(여기에서, Z는 일반식(1)에서 정의한 바와 같다)인 반응성 염료.
  18. 제1항에 있어서, R 또는 A가 하기 구조식 (6a), (6b), (6c), (6d), (6e), (6f), (6g), (6h) 또는 (6i)의 라디칼인 반응성 염료.
  19. 상응하는 아미노아조 또는 아미노디스아조 염료, 또는 염료 전구체인 일반식(7)의 S-트리아진 및 일반식(8)의 아민을 목적하는 특정 순서대로 서로 반응 시키거나, 염료 전구체를 사용하는 경우, 생성된 중간체를 목적하는 모노할로트리아진 염료로 전환시키고, 경우에 따라, 이것을 추가로 전환 반응시킴을 특징으로 하여, 일반식(1)의 반응성 염료를 제조하는 방법.
    상기식에서, X 및 A는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  20. 제19항에 있어서, 아미노아조 또는 아미노디스아조 염료를 일반식(7)의 S-트리아진과 축합시키고, 생성된 트리아진 화합물을 계속해서 일반식(8)의 아민과 축합 시킴을 특징으로 하는 방법.
  21. 제19항에 있어서, 일반식(9)의 라디칼을 함유하는 아미노아조 또는 아미노디스아조 염료의 성분을 염료 제조시 필요한 제2성분과 반응시킴을 특징으로 하는 방법.
  22. 하이드록실 그룹-함유 또는 아미도 그룹-함유 섬유 재료의 염색 또는 날염을 위한 제1항에 따른 반응성 염료의 용도.
  23. 제22항에 있어서, 셀룰로오즈 섬유, 특히 면직물의 염색 또는 날염을 위한 용도.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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