KR890003868A - 개선된 방사선 살균가능 조성물 및 그로부터 만들어진제품 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (10)
- (a)좁은 분자량 분포를 갖는 반-결정질 중합체;및 효과적인, 방사선 안정화 량의 (b)힌더드 페놀 안정제(hindered phenolic stabilizer),단독으로 혹은 그외에 (c)아인산염 ; 및 효과적인 보조 안정화량의 (d)유기 티오에스테르 혹은 티오 에테르 혹은 그들의 혼합물을 병용하여 포함하는 유형의 조성물로, 약 65℃이하의 성형 온도 및 약 200℃-약 260℃의 용융 온도에서 약 50%이하의 결정도를 갖는 부품으로 성형될 수 있는, 약 5이하의 초기 용융 유동 및 약 12.0-약 50의 최종 용융유동을 갖는 중합체를 상기 중합체로서 사용하며 상기 조성물에 본질적으로 비-결정질 유동성 첨가제가 없도록 유지하는 것을 특징으로 하는, 개선된 방사선 살균가능 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 중합체가 단독 불포화 비고리 탄화수소, 혹은 그들의 공중합체 혹은 혼합물로 부터 유도되는 조성물.
- 제2항에 있어서, 상기 중합체가 폴리프로필렌인 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 힌더드 페놀 안정제가 상기 중합체 100중량부 당 약 0.01-0.2중량부로 포함되는 조성물.
- 제1항에 있어서, 효과적인 양의 (e)상기 조성물에 대한 유기 자외선 안정제, (f)광학 광택제, 혹은 (e)및 (f)의 병용물을 포함하는 조성물.
- 제3항에 있어서, 상기 폴리프로필렌이 조절된 리이올로지(rheology)폴리프로필렌 조성물.
- 제1항에 있어서, 상기 힌더드 페놀 안정제 (b)가 하기 일반식의 화합물을 포함하는 조성물:상기식에서 R1,R2,R3및 R4는 폴리올레핀류의 산화적이고 화학적인 안정화를 제공하기 위해 당분야에 공지된 페놀상의 치환체이다.
- 제1항에 있어서, 상기 유기 티오에스테르 혹은 티오에테르(d)가 디스테아릴 티오디프로피오네이트,디라우릴 티오디프로피오네이트, 디미리스틸 티오디프로피오네이트 혹은 상기것들의 임의의 혼합물을 포함하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 필수적으로 (a)약12.0-약50의 용융 유동, 약 3-약 6의 Q, 및 좁은 분자량 분포를 갖는 반-결정질 포리프로 필렌; (b) (a)100중량부당 약 0.05-0.3중량부의 1,3,5-트리스(4-t-부틸-3-히드록시-2,6-디메탈벤질)-s-트리아진-2,4,6-(1H,3H,5H)트리온; (c) (a) 100중량부당 약 0.2-약 0.6중량부의 비스-(2,6-t-부틸-4-옥타데실옥시카르보닐에틸페닐)펜타에리트리틀 디포스피트;(d)(a)100중량부당 0.02-약 0.2중량부의 다라우릴 티오디프로피오네이트 혹은 디스테아릴 티오디프로 피오네이트; 및 (e)(a) 100중량부당 0-약 0.5중량부의 폴리(6-모르폴리노-5-트리아진-2,4-디일(2,2,6,6,-테트라메틸-4-피페리딜)이미노) 헥사메틸(2,2,6,6-테트라메-4-피페리딜)이미노)로 구성되는 조성물.
- 제1항의 개선된 조성물을 사출 성형 시킴으로써 만들어지고 감마선 조사(照射)로 살균하여 제조한제품.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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