KR890002204A - 신규의 디포스폰산 화합물 및 이들을 함유하는 제약 조성물 - Google Patents

신규의 디포스폰산 화합물 및 이들을 함유하는 제약 조성물 Download PDF

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KR890002204A
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데루오 오꾸
에이시로 고도
찌요시 가사하라
가쓰야 나까무라
히로시 가야끼리
마사시 하시모또
Original Assignee
후지사와 도모끼찌로
후지사와 야꾸힝 고교 가부시끼가이샤
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Abstract

내용없음.

Description

신규의 디포스폰산 화합물 및 이들을 함유하는 제약 조성물.
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (7)

  1. 하기 일반식의 화합물 및 제약상 허용되는 그의 염.
    상기식중, R-A는 일반식또는 R1-SO2-NH-의 기(여기에서 R1은 저급 알킬, 저급 알콕시, 저급 알킬티오, 할로(저급)알킬, 아실, 아실아미노 및 할로겐으로 구성되는 군 중에서 선택되는 치환체에 의해 치환될 수 있는 아릴 또는 헤테로시클릭기, 또는 아실기에 의해 임의로 치환된 헤테로시클릭 기에 의해 치환될 수 있는 저급 알킬기이고, X는 O 또는 S임)이고, R2는 수소 또는 저급 알킬기이되, 단 R1이 저급 알킬기일 경우, R1-A-는 일반식또는 R-SO2-NH-의 기(여기에서, R1및 X는 상기 정의한 바와 같음)이다.
  2. 제1항에 있어서, R이 저급 알킬, 저급 알콕시, 저급 알킬티오, 할로(저급)알킬, 저급 알콕시카르보닐, 저급 알카노일아미노, 저급알킬술포닐아미노 및 할로겐으로 구성되는 군 중에서 선택되는 치환체에 의해 치환될 수 있는 페닐, 나프틸, 피리딜, 이미다졸릴, 티에닐, 퀴놀릴, 벤조티에닐 또는 벤조티아졸릴기이거나, 또는 저급 알콕시카르보닐기에 의해 임의로 치환된 이미다졸릴기에 의해 치환될 수 있는 저급 알킬기인 화합물.
  3. 제1항에 있어서, R1-A-가 일반식의 기(여기에서, R1은 페닐, 나프틸, 저급 알킬페닐, 저급 알콕시페닐, 저급 알킬티오페닐, 모노- 또는 디할로페닐, 할로(저급)알킬페닐, 저급 알카노일아미노페닐, 저급 알킬술포닐아미노페닐, 할로겐 및 할로9저급)알킬 치환 페닐, 저급 알콕시 및 할로(저급)알킬 치환 페닐, 피리딜, 벤조[b]티에닐 또는 저급 알킬기이고, X는 O 또는 S임)이고, R2가 수소인 화합물.
  4. 제3항에 있어서, R1이 페닐, 모노할로페닐, 모노[할로(저급)알킬]페닐 또는 모노(저급)알킬술포닐아미노페닐기인 화합물.
  5. 제4항에 있어서, 화합물이 [N-(페닐)티오카르바모일메틸렌]비스(포스폰산)의 2나트륨염인 화합물.
  6. 제1항에 있어서, R1-A-가 일반식의 기인 화합물.
  7. 제1항에 있어서, R1-A-가 일반식 R1-SO2-NH-의 기인 화합물
    ※참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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