Claims (13)
레이저 방사선을 발생시키기 위한 레이저, 압축 가스 소오스, 소오스로부터 가스를 받아들이고 노즐장치의 내부 영역으로 가스 흐름을 유도하는 플라즈마 토오치 노즐 장치, 가스 흐름을 출구를 향해 유도하기 위해 내부 영역에 인접한 노즐 장치내에 형성된 출구, 및 촛점 영역이 최소한 부분적으로 노즐 장치에 있도록 노즐 장치내에 레이저 방사선을 집속하기 위한 집속 장치로 구성되고, 촛점 영역내의 레이저 방사선 및 가스 흐름이 출구를 향해 보내지는 가스 흐름에 의해 노즐 장치의 내부 영역 내에 최소한 부분적으로 제한된 플라즈마를 지속시키도록 동작될 수 있는 것을 특징으로 하는 레이저 지속 플라즈마 토오치.A laser torch, a compressed gas source, a plasma torch nozzle device that accepts gas from the source and directs the gas flow into an interior region of the nozzle apparatus, within a nozzle apparatus adjacent to the interior region to direct the gas flow towards the outlet An outlet formed and a focusing device for focusing the laser radiation in the nozzle device such that the focusing area is at least partially in the nozzle device, wherein the laser radiation and the gas flow in the focusing area are directed toward the outlet of the nozzle device. And a laser sustained plasma torch that is operable to sustain at least partially confined plasma within the interior region.
제1항에 있어서, 집속 장치가 플라즈마 토오치 노즐 장치 내의 촛점 영역에 방사선을 완전히 접속하는 것을 특징으로 하는 장치.An apparatus according to claim 1, wherein the focusing device completely connects the radiation to the focus area within the plasma torch nozzle device.
제1항에 있어서, 플라즈마 토오치 노즐 장치가 노즐 내에 최소한 부분적으로 플라즈마를 제한시키도록 출구를 향해 가스 흐름을 유도하기 위해 집속된 레이저 방사선과 동축인 테이퍼식 내벽을 갖고 있고 출구를 제공하는 노즐로 구성된 것을 특징으로 하는 장치.The nozzle of claim 1, wherein the plasma torch nozzle device has a tapered inner wall coaxial with focused laser radiation to direct gas flow towards the outlet to at least partially confine the plasma within the nozzle and comprises a nozzle providing the outlet. Device characterized in that.
제3항에 있어서, 노즐이 내화물질로 제조된 것을 특징으로 하는 장치.4. An apparatus according to claim 3, wherein the nozzle is made of refractory material.
제1항에 있어서, 출구가 내부 영역으로부터 외향으로 플라즈마의 제트를 보내도록 동작될 수 있는 것을 특징으로 하는 장치.The apparatus of claim 1 wherein the outlet can be operated to direct a jet of plasma outward from the interior region.
제1항에 있어서, 내부 영역 내에 2차 물질을 유입시키기 위한 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.The device of claim 1 comprising a device for introducing secondary material into the interior region.
제6항에 있어서, 내부 영역 내의 2차 물질의 주재 시간을 증가시키도록 내부 영역 내의 가스 흐름에 나선형 혹은 소용돌이 흐름을 부과하기 위한 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.7. The apparatus of claim 6, comprising a device for imposing a helical or vortex flow on the gas flow in the interior region to increase the residence time of the secondary material in the interior region.
제1항에 있어서, 레이저가 이산화탄소 레이저인 것을 특징으로 하는 장치.The apparatus of claim 1 wherein the laser is a carbon dioxide laser.
동작을 실행하도록 촛점 영역에 레이저 방사선을 집속시키기 위해 고출력 레이저 방사선 및 집속 장치를 사용하는 방법에 있어서, 플라즈마 토오치 노즐 장치의 출구를 갖고 있는 내부 영역 내에 레이저 방사선을 입사시키기 위한 수단, 최소한 부분적으로 플라즈마 토오치 노즐 장치 내의 촛점 영역에 레이저 방사선을 집속시키는 수단, 플라즈마 토오치 노즐 장치의 내부 영역 내에 압축 가스를 유입시키어 가스가 출구를 향해 흐르게 하는 수단, 제한 장치 내에 플라즈마를 발생시키는 수단, 레이저 방사선의 촛점 영역에 플라즈마를 지속시키어, 출구를 향해 흐르게 하는 가스 흐름에 의해 플라즈마 토오치 노즐 장치 내에 플라즈마를 최소한 부분적으로 제한시키는 수단, 및 동작을 실행할 때 가공 매체로서 플라즈마를 사용하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.A method of using high power laser radiation and a focusing device to focus laser radiation in a focused area to perform an operation, the method comprising: means for injecting laser radiation into an interior area having an outlet of a plasma torch nozzle device, at least partially Means for concentrating laser radiation to a focused area within the plasma torch nozzle device, means for introducing compressed gas into the interior area of the plasma torch nozzle device to allow the gas to flow toward the outlet, means for generating plasma in the restriction device, laser radiation Means for at least partially confining the plasma in the plasma torch nozzle apparatus by a gas flow that is directed toward the outlet by sustaining the plasma in a focal region of the apparatus, and means for using the plasma as a processing medium when performing the operation. The method of claim.
제9항에 있어서, 작업편을 향해 출구 밖으로 플라즈마의 제트를 보내어, 작업편 상에서 동작을 실행할 때 제트를 사용하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.10. The method of claim 9, comprising means for sending a jet of plasma out of the outlet toward the workpiece to use the jet when performing an action on the workpiece.
제9항에 있어서, 가스 흐름 내로 2차 물질을 유입시키어, 물질을 가공 처리하기 위해 플라즈마를 사용하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.10. The method of claim 9, comprising means for introducing a secondary material into the gas stream to use plasma to process the material.
제11항에 있어서, 플라즈마 내에서 가공 처리한 후에, 작업편을 향해 2차 물질을 보내는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.12. The method of claim 11, comprising means for directing secondary material towards the workpiece after processing in the plasma.
제11항에 있어서, 플라즈마 내의 2차 물질의 주재 시간을 증가시키기 위해 나선형 또는 소용돌이 흐름으로 흐르도록 가스를 유입하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.12. The method of claim 11, comprising means for introducing a gas to flow in a helical or vortex flow to increase the residence time of the secondary material in the plasma.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.