KR880001760B1 - Process for preparing intermediate products for the preparation of cepharosporins - Google Patents

Process for preparing intermediate products for the preparation of cepharosporins Download PDF

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KR880001760B1
KR880001760B1 KR1019880007495A KR880007495A KR880001760B1 KR 880001760 B1 KR880001760 B1 KR 880001760B1 KR 1019880007495 A KR1019880007495 A KR 1019880007495A KR 880007495 A KR880007495 A KR 880007495A KR 880001760 B1 KR880001760 B1 KR 880001760B1
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키나스트 귄터
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바이엘 아크티엔게젤샤프트
에르빈 딜, 하인쯔-게르트 뮐러
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/02Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D277/20Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D277/22Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D277/28Radicals substituted by nitrogen atoms

Abstract

Novel compd. (I) prepd. by reacting (II) with base i.e. potassium tert-butylate, lithium diisopropylamide in a suitable solvent i.e. THF at -50 to -80 deg.C, and with aldehyde of formula R1-CHO. In the formulas, R1 is lower alkyl or (un) substd. phenyl; R2 is alkoxycarbonyl; R3 is lower alkyl; R4 is lower alkyl or trialkylsillylalkyl. React (I) with base, separate Z and E isomers, (selective) sapong. to prepare Z-acid and coupling with cephalosporanic acid, remove protection gp. R2 to give cephalosporine.

Description

세팔로스포린 제조용 중간체의 제조방법Method for preparing intermediates for producing cephalosporins

본 발명은 특정한 세팔로스포린을 제조하기 위한 특정한 중간체 화합물, 이의 제조방법 및 이의 용도, 및 세팔로스포린 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to certain intermediate compounds for the preparation of particular cephalosporins, methods for their preparation and their use, and methods for preparing cephalosporins.

다음 일반식(Ⅰ)의 세팔로스포린은 아직 공고되지 않은 독일연방공화국 특허원 제P30 37 997.6호에 비교적 오랫동안 언급되어 왔다.The cephalosporins of the following general formula (I) have been mentioned for a relatively long time in the patent application P30 37 997.6, which is not yet published.

Figure kpo00001
Figure kpo00001

상기식에서, R1은 알킬 또는 아릴 라디칼을 나타내고, X는 세팔로스포린 치환체로서 적합한 라디칼을 나타낸다.Wherein R 1 represents an alkyl or aryl radical and X represents a radical suitable as a cephalosporin substituent.

이들 화합물은 그램-음성균 뿐만 아니라 그램-양성균에 대한 항균작용이 광범위하다.These compounds have a wide range of antimicrobial activity against Gram-positive bacteria as well as Gram-positive bacteria.

상기한 특허원에 언급된 방법에 따르면, 일반식(Ⅰ)의 화합물은 다음 반응도식에 따라 제조된다 :According to the method mentioned in the above patent application, the compound of general formula (I) is prepared according to the following scheme:

Figure kpo00002
Figure kpo00002

Figure kpo00003
Figure kpo00003

상기식에서, R1은 상기에서 정의한 바와 같다.Wherein R 1 is as defined above.

그러나, 이러한 방법으로는 R1이 알킬 라디칼을 나타내는 일반식(Ⅰ)의 화합물이 만족스럽지 못한 수율로 수득된다. 따라서, 예를 들어 R1이 이소프로필 라디칼을 나타내는 경우, 일반식(Ⅲ)의 화합물을 티오우레아와 반응시키는 도중에 이중결합의 탈공액화(deconjugation) 및 마이클(Michael) 부가반응으로 인하여 목적하는 일반식(Ⅳ)의 화합물 외에도 다음 구조식(Ⅵ) 및 (Ⅶ)의 생성물이 훨씬 더 큰 분획으로 수득된다 :In this way, however, compounds of formula (I) in which R 1 represents alkyl radicals are obtained in unsatisfactory yields. Thus, for example, when R 1 represents an isopropyl radical, the desired general formula is due to deconjugation of the double bond and Michael addition reaction during the reaction of the compound of formula (III) with thiourea. In addition to the compounds of (IV), the products of the following formulas (VI) and (iii) are obtained in much larger fractions:

Figure kpo00004
Figure kpo00004

더우기, R1이 알킬 라디칼을 나타내는 경우, 일반식(Ⅴ)의 산을 7-아미노세팔로스포란산과 커플링시켜 일반식(Ⅰ)의 생성물을 수득하기 위해서 상기한 특허원에 기술된 (예를 들면, 하이드록시벤조트리아졸/DCC를 사용하는)방법을 사용하면, 이중결합의 이성체화가 상당히 많이 발생하여 다음 일반식(Ⅷ)의 생성물이 수득된다 :Furthermore, when R 1 represents an alkyl radical, the acid of general formula (V) is described in the above-mentioned patent application to couple the acid of general formula (V) with 7-aminocephalosporanic acid to obtain the product of general formula (I) For example, using hydroxybenzotriazole / DCC), the isomerization of the double bond occurs significantly, resulting in the product of the following general formula:

Figure kpo00005
Figure kpo00005

상기식에서, R1및 X는 상기에서 정의한 바와 같다. 그러나, 일반식(Ⅷ)의 화합물은 일반적으로 일반식(Ⅰ) 화합물의 약 1/10의 생물학적 활성만을 나타낸다.Wherein R 1 and X are as defined above. However, compounds of general formula (IV) generally exhibit only about one tenth of the biological activity of compounds of general formula (I).

본 발명에서는 신규한 중간체 생성물을 통해 제조되며 전술한 단점은 갖지 않는 일반식(Ⅰ) 화합물의 제조방법을 밝혀내었다.The present invention discloses a process for the preparation of compounds of formula (I) which are prepared via novel intermediate products and which do not have the aforementioned disadvantages.

따라서, 본 발명은 (a) 일반식(Ⅸ)의 화합물을 일반식(Ⅸa)의 피로카본산 에스테르와 반응시키고 ; (b) 이렇게 하여 수득한 일반식(Ⅹ)의 생성물을 우선 적합한 염기와 반응시킨 다음, 일반식 R1-CHO의 알데하이드와 반응시켜 일반식(ⅩⅠ)의 화합물을 수득한 다음 ; (c) 수득한 일반식(ⅩⅠ)의 화합물을 염기와 반응시켜 일반식(ⅩⅡ) 의 화합물을 수득하고 ; (d) 일반식(ⅩⅡ)의 화합물로부터 Z 및 E 이성체를 분리한 다음, 이어서 비누화시키거나, 선택적으로 비누화시켜 일반식(ⅩⅢ)의 Z-산을 수득한 다음 ; (e) 일반식(ⅩⅢ)의 Z-산을 일반식(ⅩⅤ)의 화합물과 반응시켜 일반식(ⅩⅥ)의 화합물을 수득한 다음 : (f) 일반식(ⅩⅥ)의 화합물을 일반식(ⅩⅦ)의 세팔로스포란산과 커플링시키고 : (g) 보호그룹 R2를 분리시켜 일반식(Ⅰ)의 화합물을 제조하는 방법을 제공한다 :Therefore, the present invention is (a) reacting a compound of general formula (VII) with a pyrocarboxylic acid ester of general formula (VIIa); (b) the product of formula (VII) thus obtained is first reacted with a suitable base and then with an aldehyde of formula R 1 -CHO to obtain a compound of formula (XI); (c) reacting the obtained compound of formula (XI) with a base to obtain a compound of formula (XI); (d) separating the Z and E isomers from the compound of formula (XII) and then saponifying or selectively saponifying to obtain a Z-acid of formula (XIII); (e) reacting a Z-acid of formula (XIII) with a compound of general formula (XV) to obtain a compound of general formula (XVI): (f) a compound of general formula (XVI) Coupling with cephalosporranic acid) and (g) isolating protecting group R 2 to provide a compound of formula (I):

Figure kpo00006
Figure kpo00006

Figure kpo00007
Figure kpo00007

상기식에서, R1은 임의로 치환된 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 헤테로사이클릴 라디칼을 나타내고 ; X는 세팔로스포린 치환체로서 적합한 라디칼을 나타내며 ; R2는 CO2R3을 나타내고 ; R3및 R4는 동일하거나 상이하며, 임의로 치환된 알킬, 사이클로알킬, 알케닐, 사이클로알케닐, 아릴 또는 헤테로사이클릴 라디칼을 나타내고, 라디칼의 치환체로서의 헤테로원자와 알케닐 및 사이클로알케닐 라디칼중의 이중결합을 옥시카보닐그룹으로부터 분리하는 적어도 하나의 탄소원자가 존재하며 ; Z는 염소원자, 브롬원자 또는 -O-SO2-R5를 나타내고 ; R5는 임의로 치환된 알킬, 알케닐, 사이클로알킬, 사이클로알케닐, 아릴 또는 헤테로사이클릭 라디칼을 나타낸다.Wherein R 1 represents an optionally substituted alkyl, cycloalkyl, aryl or heterocyclyl radical; X represents a radical suitable as a cephalosporin substituent; R 2 represents CO 2 R 3 ; R 3 and R 4 are the same or different and represent an optionally substituted alkyl, cycloalkyl, alkenyl, cycloalkenyl, aryl or heterocyclyl radical, wherein the heteroatoms as substituents of the radical and the alkenyl and cycloalkenyl radicals At least one carbon atom is present that separates the double bond from the oxycarbonyl group; Z represents a chlorine atom, a bromine atom or -O-SO 2 -R 5 ; R 5 represents an optionally substituted alkyl, alkenyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, aryl or heterocyclic radical.

또한, 본 발명은 신규한 화합물로서 다음 일반식(Ⅹ)의 화합물에 관한 것이다 :In addition, the present invention relates to a compound represented by the following general formula (i) as a novel compound:

Figure kpo00008
Figure kpo00008

상기식에서, R2,R3및 R4는 상기에서 정의한 바와 같다.Wherein R 2 , R 3 and R 4 are as defined above.

또한, 본 발명은 상술한 바와 같은 일반식(Ⅸ)의 화합물을 반응물에 적합한 용매중에서 전술한 바와 같은 일반식(Ⅸa)의 피로카본산 에스테르와 반응시키는 일반식 (Ⅹ) 화합물의 제조방법에 관한 것이다.Further, the present invention relates to a method for preparing a compound of formula (VII), wherein the compound of formula (VII) as described above is reacted with a pyrocarboxylic acid ester of formula (VIIa) as described above in a solvent suitable for the reactants. will be.

또한, 본 발명은 다음 일반식(ⅩⅠ)의 신규한 화합물에 관한 것이다 :The present invention also relates to novel compounds of the general formula (XI):

Figure kpo00009
Figure kpo00009

상기식에서, R2,R3및 R4는 상기에서 정의한 바와 같고 ; R1은 임의로 치환된 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 헤테로사이클릴 라디칼을 나타낸다.Wherein R 2 , R 3 and R 4 are as defined above; R 1 represents an optionally substituted alkyl, cycloalkyl, aryl or heterocyclyl radical.

또한, 본 발명은 상술한 바와 같은 일반식(Ⅹ)의 화합물을 반응물에 적합한 용매중에서 저온에서 염기와 반응시킨 다음, 일반식 R1-CHO(여기서, R1은 상기에서 정의한 바와 같다)의 알데하이드와 반응시키는 일반식(ⅩⅠ) 화합물의 제조방법에도 관한 것이다.In addition, the present invention reacts a compound of the general formula (I) as described above with a base at a low temperature in a solvent suitable for the reactant, and then an aldehyde of the general formula R 1 -CHO, wherein R 1 is as defined above. The present invention also relates to a method for producing a compound of formula (XI).

또한, 본 발명은 다음 일반식(ⅩⅥ)의 신규한 화합물에도 관한 것이다 :The present invention also relates to novel compounds of the general formula (XVI):

Figure kpo00010
Figure kpo00010

상기식에서, R1및 R2는 상기에서 정의한 바와 같고 ; R5는 불소원자, 임의로 치환된 알킬, 알케닐, 사이클로알킬, 사이클로알케닐, 아릴 또는 헤테로사이클릴 라디칼을 나타낸다.Wherein R 1 and R 2 are as defined above; R 5 represents a fluorine atom, optionally substituted alkyl, alkenyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, aryl or heterocyclyl radical.

또한, 본 발명은 다음 일반식(ⅩⅢ)의 화합물을 다음 일반식(ⅩⅤ)의 화합물과 반응시키는 일반식(ⅩⅥ) 화합물의 제조방법에도 관한 것이다 :The present invention also relates to a process for preparing a compound of formula (VII), wherein a compound of formula (XIII) is reacted with a compound of formula (XV):

Figure kpo00011
Figure kpo00011

상기식에서, R1,R2및 R5는 상기에서 정의한 바와 같고 ; Z는 염소원자, 브롬원자 또는 -O-SO2-R5를 나타낸다.Wherein R 1 , R 2 and R 5 are as defined above; Z represents a chlorine atom, a bromine atom or -O-SO 2 -R 5 .

일반식(Ⅰ)의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따르는 방법은 다음의 반응도식으로 요약할 수도 있다 :The process according to the invention for the preparation of compounds of general formula (I) may also be summarized in the following scheme:

Figure kpo00012
Figure kpo00012

상기식에서, R1,R2, R3,R4및 X는 상기에서 정의한 바와 같다. 일반식(Ⅰ)의 화합물을 제조하기 위한 반응 단계는 이후의 본 명세서에서 보다 상세히 설명한다.Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and X are as defined above. The reaction step for preparing the compound of formula (I) is described in more detail later in this specification.

본 발명에 따르는 특히 바람직한 일반식(Ⅹ)의 화합물은 R2가 O-CO-C(CH3)3를 나타내고 ; R3은 O(CH3)3를 나타내며 ; R4는 C1-15의 임의로 치환된 알킬 라디칼, C3-15의 임의로 치환된 알케닐 라디칼, C3-10의 임의로 치환된 사이클로알킬 라디칼, C5-10의 임의로 치환된 사이클로알케닐 라디칼, 1 내지 3개의 환을 갖는 임의로 치환된 아릴 라디칼, 또는 질소, 황 및 산소로부터 선택된 5개 이하의 헤테로원자를 함유할 수 있는 1 내지 3개의 환을 갖는 임의로 치환된 헤테로사이클릴 라디칼을 나타내는 화합물이다.Particularly preferred compounds of general formula (VIII) according to the invention include those in which R 2 represents O—CO—C (CH 3 ) 3 ; R 3 represents O (CH 3 ) 3 ; R 4 is an optionally substituted alkyl radical of C 1-15, an optionally substituted alkenyl radical of C 3-15, an optionally substituted cycloalkyl radical of C 3-10, an optionally substituted cycloalkenyl radical of C 5-10 , An optionally substituted aryl radical having 1 to 3 rings or an optionally substituted heterocyclyl radical having 1 to 3 rings which may contain up to 5 heteroatoms selected from nitrogen, sulfur and oxygen to be.

본 발명에 따르는 특히 바람직한 일반식(Ⅹ)의 화합물은 R2가 3급-부톡시카보닐 라디칼을 나타내고 ; R3은 3급-부틸 라디칼을 나타내며 ; R4는 메틸, 에틸, 3급-부틸 또는 트리메틸실릴 에틸 라디칼을 나타내는 화합물이다.Particularly preferred compounds of general formula (VIII) according to the invention are those wherein R 2 represents a tert-butoxycarbonyl radical; R 3 represents a tert-butyl radical; R 4 is a compound representing methyl, ethyl, tert-butyl or trimethylsilyl ethyl radicals.

언급한 알킬, 알케닐, 사이클로알킬 및 사이클로알케닐 라디칼은 C1-4의 알킬 라디칼, C1-4의 O-알킬 라디칼, 할로겐(바람직하게는, 염소), 임의로 치환된 페닐라디칼, C=N 및 트리(C1-5의 알킬)실릴로 치환할 수 있다.-Mentioned alkyl, alkenyl, cycloalkyl and cycloalkenyl radicals are alkyl radicals, O- alkyl radicals, halogen C 1-4 of C 1-4 (preferably, chlorine), an optionally substituted phenyl radical, C = N and tri (C 1-5 alkyl) silyl may be substituted.

언급한 페닐 라디칼을 포함하여 모든 아릴 및 헤테로사이클릴 라디칼은 알킬, O-알킬, S-알킬, 알킬 옥시카보닐, 할로겐, 페닐, 니트로 및 C=N라디칼로 치환할 수 있으며, 여기서 모든 알킬 라디칼은 C1-4일 수 있다.All aryl and heterocyclyl radicals, including the phenyl radicals mentioned, can be substituted with alkyl, O-alkyl, S-alkyl, alkyl oxycarbonyl, halogen, phenyl, nitro and C = N radicals, where all alkyl radicals May be C 1-4 .

라디칼 R3및/또는 R4가 바람직하게는 전술한 치환체에 의해 치환되는 경우, 이들은 1 내지 5개, 바람직하게는 1 또는 2개의 치환체를 함유할 수 있다.When the radicals R 3 and / or R 4 are preferably substituted by the aforementioned substituents, they may contain 1 to 5, preferably 1 or 2 substituents.

R2가 염기에 대해서는 안정하고 산중에서는 제거가능한 보호그룹(예 : 3급-부톡시카보닐)을 나타내고, R4는 염기로 비누화할 수 있는 라디칼(예 : 메틸 또는 에틸)을 나타내는 경우의 방법은 특히 유리하다.When R 2 represents a protecting group (e.g. tert-butoxycarbonyl) which is stable to the base and removable in the acid and R 4 represents a radical which can be saponified with a base (e.g. methyl or ethyl) Is particularly advantageous.

일반식(Ⅹ)의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따르는 방법에서 사용되는 일반식(Ⅸ)의 화합물은 그 자체가 공지되어 있다[참조 : E. Campaine & T.P.Selby, J. Heterocycl.Chem. 17 (1980)].Compounds of the general formula used in the process according to the invention for the preparation of compounds of the general formula are known per se. See E. Campaine & T. P. Selby, J. Heterocycl. Chem. 17 (1980).

일반식(Ⅹ)의 화합물을 제조하는데 특히 적합한 용매는 비양자성 극성용매(예 : 아세토니트릴, 디메틸포름아미드, 헥사메틸포스포르산 트리아미드 또는 디메틸 설폭사이드)이며, 특히 헥사메틸포스포르산 트리아미드 또는 디메틸 설폭사이드가 적합하다. 반응을 실온 또는 저온(예 : 10 내지 -50℃)에서 수행하는 것은 특히 유리하며, 일반적으로 1 내지 7일 동안 성분을 서로 반응시킨다. 일반적으로, 일반식(Ⅸa)의 피로카본산 에스테르는 2 내지 2.5몰당량으로 사용한다.Particularly suitable solvents for the preparation of compounds of general formula are aprotic polar solvents such as acetonitrile, dimethylformamide, hexamethylphosphoric acid triamide or dimethyl sulfoxide, in particular hexamethylphosphoric acid triamide Or dimethyl sulfoxide is suitable. It is particularly advantageous to carry out the reaction at room temperature or at low temperatures (eg 10 to -50 ° C.) and generally the components are reacted with each other for 1 to 7 days. In general, the pyrocarboxylic acid ester of the general formula (VIIa) is used in 2 to 2.5 molar equivalents.

기타의 용매, 고온 또는 아실화 촉매(예 : 4-디메틸포름아미노피리딘)는 다음 일반식(ⅩⅨ)의 목적하지않는 생성물의 형성을 상당히 촉진시킨다 :Other solvents, high temperature or acylation catalysts (eg 4-dimethylformaminopyridine) significantly promote the formation of undesired products of the general formula:

Figure kpo00013
Figure kpo00013

상기식에서, R2,R3및 R4는 상술한 바와 같다.Wherein R 2 , R 3 and R 4 are as described above.

일반식(ⅩⅠ)의 신규한 화합물을 제조하기 위한 본발명에 따르는 방법에서는, 일반적으로 일반식(Ⅹ)의 화합물을 반응물에 적합한 용매중에서 저온에서 1 내지 1.1당량의 염기로 처리한 다음, 일반식 R1-CHO의 알데하이드를 1 내지 1.2당량 가한다.In the process according to the invention for the preparation of novel compounds of general formula (XI), the compounds of general formula (IV) are generally treated with 1 to 1.1 equivalents of base at low temperature in a solvent suitable for the reactants, followed by general formula 1 to 1.2 equivalents of aldehyde of R 1 -CHO are added.

이 반응에 사용할 수도 있는 용매는, 예를 들면, 디메틸포름아미드, 디에틸 에테르, 테트라하이드로푸란 또는 톨루엔이고, 바람직하게는 테트라하이드로푸란이며, 사용할 수도 있는 염기는 알콜레이트, 수소화물, 아미드 또는 유기 금속화합물(바람직하게는, 칼륨 3급-부틸레이트, 리튬 디이소프로필아미드 및 부틸리튬)이다. 반응을 수행하기 위해서는, 일반적으로 -50 내지 -80℃에서 일반식(Ⅹ) 화합물의 용액에 염기를 가한 다음, -50 내지 -60℃에서 알데하이드를 가하고, 혼합물을 -50 내지 -60℃에서 약 12시간 동안 교반한다. 일반식(ⅩⅠ)의 생성물을 분리하기 위해서는, 혼합물을 중화시키고 후처리한다.The solvent which may be used for this reaction is, for example, dimethylformamide, diethyl ether, tetrahydrofuran or toluene, preferably tetrahydrofuran, and the base which may be used is alcoholate, hydride, amide or organic Metal compounds (preferably potassium tert-butylate, lithium diisopropylamide and butyllithium). In order to carry out the reaction, a base is generally added to a solution of the compound of general formula at -50 to -80 ° C, then aldehyde is added at -50 to -60 ° C, and the mixture is about -50 to -60 ° C. Stir for 12 hours. To separate the product of general formula (XI), the mixture is neutralized and worked up.

일반식(ⅩⅠ)의 바람직한 화합물은 R2내지 R4가 상기에서 정의한 바와 같고 ; R1은 C1-15의 임의로 치환된 알킬 라디칼, C3-10의 임의로 치환된 사이클로알킬 라디칼, 1 내지 2개의 환을 갖는 임의로 치환된 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 아릴 라디칼, 또는 질소, 황 및 산소원자로부터 선택된 5개 이하의 헤테로원자를 함유할 수 있는 1 내지 3개의 환을 갖는 임의로 치환된 헤테로사이클릭 라디칼을 나타내는 화합물이다.Preferred compounds of formula (XI) are as defined above for R 2 to R 4 ; R 1 is C 1-15 optionally substituted alkyl radical, C 3-10 optionally substituted cycloalkyl radical, optionally substituted carbocyclic or heterocyclic aryl radical having 1 to 2 rings, or nitrogen, sulfur And optionally substituted heterocyclic radicals having from 1 to 3 rings which may contain up to 5 heteroatoms selected from oxygen atoms.

알킬 및 사이클로알킬에 적합한 치환체는 C1-6의 알킬 라디칼, C1-6의 O-알킬 라디칼, C1-6의 S-알킬 라디칼, C1-6의 N-알킬 라디칼, C1-6의 알킬옥시카보닐 라디칼 및 임의로 치환된 페닐 라디칼이다.Suitable substituents for alkyl and cycloalkyl include C 1-6 alkyl radicals, C 1-6 O-alkyl radicals, C 1-6 S-alkyl radicals, C 1-6 N-alkyl radicals, C 1-6 Alkyloxycarbonyl radicals and optionally substituted phenyl radicals.

언급한 페닐 라디칼을 포함하여 모든 아릴 및 헤테로사이클릴 라디칼은 알킬, O-알킬, S-알킬, 알킬 옥시카보닐, 할로겐(바람직하게는, 염소) 및 페닐 라디칼에 의해 치환될 수 있으며, 모든 알킬 라디칼은 C1-6일 수 있다.All aryl and heterocyclyl radicals, including the phenyl radicals mentioned, can be substituted by alkyl, O-alkyl, S-alkyl, alkyl oxycarbonyl, halogen (preferably chlorine) and phenyl radicals, all alkyl The radical may be C 1-6 .

R1이 (바람직하게는, 전술한 치환체에 의해) 치환된 라디칼을 나타내는 경우, 1 내지 5개, 바람직하게는 1 또는 2개의 치환체가 바람직하다.When R 1 represents a radical substituted (preferably by a substituent described above), 1 to 5, preferably 1 or 2 substituents are preferred.

R1이 C1-10의 알킬 라디칼 또는 C3-10의 사이클로알킬 라디칼을 나타내며, 각각의 경우에서 1 내지 2개의 C1-6의 알킬 라디칼 및/또는 1 내지 2개의 페닐 라디칼에 의해 치환될 수 있는 화합물은 특히 바람직하다.R 1 represents an alkyl radical of C 1-10 or a cycloalkyl radical of C 3-10 , which in each case is to be substituted by 1 to 2 C 1-6 alkyl radicals and / or 1 to 2 phenyl radicals Particular preference is given to compounds which can be employed.

일반식(Ⅰ)의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따르는 방법을 수행하는 중에, 일반식(ⅩⅠ)의 화합물을 분리할 필요는 없다. 반면에, 일반식(ⅩⅠ)의 화합물을 동일 반응계내에서 일반식(ⅩⅡ)의 화합물로 직접 전환시키는 것은 유리하다. 이러한 목적을 위해서는, 일반적으로 알데하이드 R1-CHO를 가한 후에 혼합물을 실온으로 가온하고 이를 실온에서 밤새 교반하는 것은 충분하다. 일반식(ⅩⅡ)의 화합물을 수득하기 위한 일반식(ⅩⅠ) 화합물의 제거 반응이 완결되지 않은 경우, 1 내지 1.2당량의 염기[예 : 수소화물, 알콜레이트 또는 아미드(특히, 칼륨 3급-부틸레이트]를 가하고, 반응 혼합물을 실온에서 약 10시간 동안 교반한다.During the process according to the invention for the preparation of compounds of general formula (I), it is not necessary to separate the compounds of general formula (XI). On the other hand, it is advantageous to directly convert a compound of formula (XI) to a compound of formula (XI) in situ. For this purpose, it is generally sufficient to add the aldehyde R 1 -CHO and then warm the mixture to room temperature and stir it overnight at room temperature. When the elimination reaction of the compound of formula (VII) to obtain a compound of formula (XI) is not complete, 1 to 1.2 equivalents of base [e.g. hydride, alcoholate or amide (especially potassium tert-butyl) RATE] is added and the reaction mixture is stirred at room temperature for about 10 hours.

한편, 일반식(ⅩⅡ)의 화합물을 제조하기 위하여 일반식(ⅩⅠ)의 화합물을 미리 분리하는 경우, 1.1 내지 2.2당량의 염기를 적합한 용매중에서 일반식(ⅩⅠ) 화합물의 용액에 가한다. 사용하는 용매 및 염기는 일반식(ⅩⅠ)의 화합물을 수득하기 위한 일반식(Ⅹ) 화합물의 반응에서 언급한 것들이며, 테트라하이드로푸란 및 칼륨 3급-부틸레이트가 바람직하다.On the other hand, when the compound of general formula (XI) is previously separated in order to prepare the compound of general formula (XI), 1.1 to 2.2 equivalents of base is added to a solution of the general formula (XI) compound in a suitable solvent. Solvents and bases to be used are those mentioned in the reaction of the general formula (VII) to obtain the compound of the general formula (XI), with tetrahydrofuran and potassium tert-butylate being preferred.

일반식(ⅩⅡ)의 화합물은, 예를 들면, 재결정 또는 실리카 겔상에서의 컬럼 크로마토그래피에 의해 분리할 수도 있는 E/Z이성체의 혼합물로서 수득한다.The compound of the formula (XII) is obtained as a mixture of E / Z isomers, which may be separated, for example, by recrystallization or column chromatography on silica gel.

일반식(ⅩⅡ)의 화합물에서 R1,R2및 R4는 일반식 (ⅩⅠ)의 화합물에서 상기에서 정의한 바와 같다.R 1 , R 2 and R 4 in the compound of formula (XII) are as defined above in the compound of formula (XI).

일반식(ⅩⅢ)의 Z-카복실산을 제조하기 위해서는, 일반식(ⅩⅡ) 에스테르의 E/Z 이성체 혼합물을 분리하여 수득할 수 있는 Z-에스테르를 비누화시킬 수 있다. 그러나, 일반식(Ⅰ)의 화합물을 제조하는 방법을 수행하기 위해서는, 우선 완만한 조건하에 E-에스테르를 일반식(ⅩⅣ)의 E-카복실산으로 전화시키고 분리한 다음, 잔류하는 Z-에스테르(여기서, 에스테르 그룹은 보다 입체적으로 장애된다)를 보다 격렬한 조건하에 비누화시켜, 일반식(ⅩⅢ)의 Z-카복실산을 수득하는 방법으로 일반식(ⅩⅡ) 에스테르의 E/Z 이성체 혼합물을 선택적으로 비누화시키는 것이 더 바람직하다.In order to produce the Z-carboxylic acid of general formula (XIII), the Z-ester which can be obtained by isolate | separating the E / Z isomer mixture of general formula (XII) ester can be saponified. However, in order to carry out the process for the preparation of the compound of general formula (I), first, under mild conditions, the E-ester is converted into an E-carboxylic acid of general formula (XIV) and separated, and then the remaining Z-ester (where Selectively saponifying the E / Z isomeric mixture of the general formula (XII) ester by saponifying under more violent conditions to obtain a Z-carboxylic acid of the general formula (XIII). More preferred.

일반식(ⅩⅣ)의 E-카복실산을 생성하는 비누화를 위한 완만한 조건은, 예를 들면, 에탄올, 2N 수산화나트륨용액, 실온 및 24시간이다. 일반식(ⅩⅠ)의 화합물을 일반식(ⅩⅡ)의 화합물로 전환시킨 후, 2N 수산화나트륨 용액을 반응 혼합물에 직접 가하고, E-에스테르가 비누화될 때까지 실온에서 교반하거나 약간 가열하는 방법으로 비누화를 수행하는 것이 유리하다. 그후, Z-에스테르를 알칼리성 조건하에 추출시켜 혼합물로부터 분리하고, 보다 격렬한 조건하에 비누화시킨다.Mild conditions for saponification to produce the E-carboxylic acid of formula (XIV) are, for example, ethanol, 2N sodium hydroxide solution, room temperature and 24 hours. After converting the compound of general formula (XI) to the compound of general formula (XI), saponification is effected by adding 2N sodium hydroxide solution directly to the reaction mixture and stirring at room temperature or slightly heating until the E-ester saponifies. It is advantageous to carry out. The Z-ester is then extracted under alkaline conditions to separate from the mixture and saponified under more vigorous conditions.

비누화를 위한 보다 격렬한 조건은, 예를 들면, 에탄올, 2N 수산화나트륨 용액 및 24시간-환류인데, 가능하게는 보다 진한 수산화나트륨 용액 또는 고비등 용매(예 : 디옥산)도 사용할 수 있다.More violent conditions for saponification are, for example, ethanol, 2N sodium hydroxide solution and 24 hour-reflux, although possibly higher sodium hydroxide solutions or high boiling solvents such as dioxane can also be used.

이러한 방법으로 목적하는 일반식(ⅩⅢ)의 Z-카복실산 및 일반식(ⅩⅣ)의 E-카복실산을 수득한다. 일반식(ⅩⅣ)의 E-카복실산은, 예를 들면, 비스트리메틸 실릴아세트아미드를 사용하여 실릴 에스테르로 전환시킨후, 적합한 용매(예 : 디에틸 에테르 또는 테트라하이드로푸란)중에서 염기(예 : 칼륨 3급-부틸레이트)를 사용하고, 이어서 묽은 산으로 가수분해하여, 일반식(ⅩⅣ)의 E-카복실산과 일반식(ⅩⅢ)의 Z-카복실산과의 혼합물로 다시 전환시킬 수 있다.In this way, the desired Z-carboxylic acid of general formula (XIII) and E-carboxylic acid of general formula (XIV) are obtained. E-carboxylic acids of formula (XIV) are converted to silyl esters using, for example, bistrimethyl silylacetamide, and then the base (eg potassium 3) in a suitable solvent (e.g. diethyl ether or tetrahydrofuran). Tert-butylate), followed by hydrolysis with dilute acid to convert back to a mixture of E-carboxylic acid of general formula (XIV) and Z-carboxylic acid of general formula (XIII).

일반식(ⅩⅢ)의 Z-카복실산은, 예를 들면, 결정화 또는 이온 교환제상에서 분리함으로써 E/Z이성체의 혼합물로부터 순수한 형태로 분리할 수도 있다. 일반식(ⅩⅢ)의 Z-카복실산은 일반식(ⅩⅣ)의 E-카복실산보다 산성이 더 강하기 때문에, 이온 교환제를 이용하는 분리는 간단하다. 즉, 일반식(ⅩⅣ)의 E-카복실산은 메탄올을 사용하여 약 염기성 이온 교환제로부터 용출되는 반면, 일반식(ⅩⅢ)의 Z-카복실산은 전해질(예 : 2N 수산화나트륨 용액)을 가한 후에만 용출된다. 약 염기성 이온 교환제는 3급-아미노그룹(예 : Lewatit MP 62)을 함유하는 고체 또는 액체 형태의 이온 교환제를 포함하는 것으로 이해된다.The Z-carboxylic acid of the general formula (XIII) can also be separated in pure form from a mixture of E / Z isomers, for example by separating on a crystallization or ion exchanger. Since Z-carboxylic acid of general formula (XIII) is more acidic than E-carboxylic acid of general formula (XIV), separation using an ion exchange agent is simple. In other words, E-carboxylic acid of general formula (XIV) is eluted from the weak basic ion exchanger using methanol, while Z-carboxylic acid of general formula (XIIII) is eluted only after the addition of an electrolyte (e.g., 2N sodium hydroxide solution). do. Weak basic ion exchangers are understood to include ion exchangers in solid or liquid form containing tert-amino groups (eg, Lewatit MP 62).

일반식(ⅩⅢ) 및 (ⅩⅣ)의 화합물에서 R1 R2는 일반식(ⅩⅡ)의 화합물에서 정의한 바와 같다. 또한, 일반식(ⅩⅡ)의 화합물에서 R2가 비누화되기 전에 알칼리에 의해 비누화될 수 있는 보호그룹(예 : 메틸옥시카보닐그룹)인 경우, R2는 수소원자일 수 있다. 그러나, R2가 비누화 조건하에 안정한 보호그룹, 바람직하게는 3급-부틸옥시카보닐인 경우, 일반식(Ⅰ)의 화합루을 제조하기 위한 방법을 수행하는 것은 보다 유리하다.R in compounds of formulas (XIII) and (XIV)OneAnd R2Is as defined in the compound of general formula (XII). Moreover, in the compound of general formula (XII) R2Is a protecting group (e.g. methyloxycarbonyl group) that can be saponified with alkali before it is saponified, R2May be a hydrogen atom. However, R2When is a protective group, preferably tert-butyloxycarbonyl, which is stable under saponification conditions, it is more advantageous to carry out the process for the production of a compounded compound of general formula (I).

종래의 펩타이드 화학분야에서 유도된 다수의 분석방법은 카복실산을 7-아미노세팔로스포린과 커플링시키기 위한 세팔로스포린 화학분야에 공지되어 있다. 그러나, 이들 방법으로는 일반식(ⅩⅢ)의 Z-카복실산과 일반식(ⅩⅦ)의 세팔로스포란산 사이에서 아미드 결합을 형성할 수 없으며, 특히 R1이 알킬 라디칼인 경우에는 수율이 매우 낮게 된다. 이러한 이유는 일반식(ⅩⅢ)의 카복실산에서 라디칼 R1에 의한 카복실그룹의 상당한 입체장애 및, 카복실 작용기가 활성화한 후 라디칼 R1이 E-형태로 이성체화하려는 현저한 경향, 예를 들면, 산 클로라이드로의 전환에서 밝혀졌다. 이어서, 일반식(ⅩⅦ)의 7-아미노세팔로스포란산과 반응시킨 후에, 목적하는 일반식(ⅩⅧ)의 화합물이 수득되지는 않지만, 오히려 다음 일반식(ⅩⅩⅠ)의 화합물 또는 이 두 화합물의 혼합물이 수득된다 :Many assays derived from conventional peptide chemistry are known in the cephalosporin chemistry for coupling carboxylic acids with 7-aminocephalosporins. However, these methods cannot form amide bonds between Z-carboxylic acid of general formula (XIII) and cephalosporranic acid of general formula (XIII), and the yield is very low especially when R 1 is an alkyl radical. do. This is due to the significant steric hindrance of the carboxyl groups by the radicals R 1 in the carboxylic acids of general formula (XIII) and the marked tendency for the radical R 1 to isomerize to the E-form after activation of the carboxyl functional groups, for example acid chlorides. Turned out to be Subsequently, after reacting with 7-aminocephalosporranic acid of the general formula (VII), the desired compound of the general formula (IV) is not obtained, but rather the compound of the following general formula (XI) or a mixture of these two compounds Is obtained:

Figure kpo00014
Figure kpo00014

상기식에서, R1,R2및 X는 상기에서 정의한 바와 같다.Wherein R 1 , R 2 and X are as defined above.

본 발명에서는 일반식(ⅩⅢ)의 Z-카복실산을 일반식(ⅩⅥ)의 혼합된 무수물로 전환시키는, 상술한 바와 같은 단점없이 저온에서 간단하고 완만하며 저렴한 방법으로 활성화시킬 수 있음을 밝혀내었다.In the present invention, it has been found that the Z-carboxylic acid of general formula (XIII) can be activated in a simple, gentle and inexpensive manner at low temperature without the disadvantages described above, which are converted into mixed anhydrides of general formula (XVI).

전술한 바와 같이, 일반식(ⅩⅥ)의 화합물은 신규하며 본 발명의 추가의 목적을 형성한다.As mentioned above, the compounds of the general formula (VI) are novel and form a further object of the present invention.

이들 화합물에서 R5가 임의로 치환된 알킬, 알케닐, 사이클로알킬, 사이클로알케닐, 아릴 또는 헤테로 사이클릴 라디칼인 경우, R5는 할로겐, 알킬, 아릴, O-알킬, S-알킬, CN, 알콕시카보닐 및 니트로로부터 선택된 치환체에 의해 치환될 수 있다.In these compounds, when R 5 is optionally substituted alkyl, alkenyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, aryl or heterocyclyl radical, R 5 is halogen, alkyl, aryl, O-alkyl, S-alkyl, CN, alkoxy It may be substituted by a substituent selected from carbonyl and nitro.

특히 바람직한 일반식(ⅩⅥ)의 화합물은 R5가 불소, 염소, CN, 페닐, 알킬옥시카보닐, 알킬옥시 또는 알킬(이들 치환체중의 알킬그룹은 C1-4인 것이 바람직하다)에 의해 임의로 치환된 C1-10의 알킬 라디칼을 나타내거나, 불소, 염소, 브롬, CN, 알킬, 알킬옥시,알킬티오 및 알킬옥시카보닐(이들 치환체중의 알킬그룹은 C1-4인 것이 바람직하다), 니트로, 트리플루오로메틸 및 페닐에 의해 임의로 치환된 페닐 라디칼을 나타내는 화합물이다.Particularly preferred compounds of general formula (VI) are optionally wherein R 5 is fluorine, chlorine, CN, phenyl, alkyloxycarbonyl, alkyloxy or alkyl, preferably alkyl group in these substituents is C 1-4 . Represent substituted C 1-10 alkyl radicals, or represent fluorine, chlorine, bromine, CN, alkyl, alkyloxy, alkylthio and alkyloxycarbonyl (preferably alkyl groups in these substituents are C 1-4 ) , Nitro, trifluoromethyl and phenyl radicals optionally substituted by phenyl.

R5를 치환하는 경우, 바람직하게는 전술된 1 내지 3개의 치환체가 존재하는 것이 바람직하다.When substituting R 5 , it is preferable that 1 to 3 substituents described above are preferably present.

특히 상당히 바람직한 일반식(ⅩⅥ)의 화합물에서, R5는 메틸 또는 P-톨릴 라디칼을 나타낸다.In a particularly preferred compound of formula (VI), R 5 represents a methyl or P-tolyl radical.

이러한 종류의 일반식(ⅩⅥ)의 혼합된 무수물은 등몰량의 일반식(ⅩⅢ)의 카복실산 및 적합한 아민을 적합한 용매에 용해시키고, 이를 1 내지 1.05당량의 일반식(ⅩⅤ)의 설폰산 유도체와 반응시켜 제조하는 것이 바람직하다.Mixed anhydrides of this kind (XIV) dissolve an equimolar amount of the carboxylic acid of the general formula (XIIII) and a suitable amine in a suitable solvent and react with 1 to 1.05 equivalents of the sulfonic acid derivative of the general formula (XIV). It is preferable to make it.

본 발명에 적합한 용매는 반응 조건하에 안정된 모든 용매(예 : 디에틸 에테르, 테트라하이드로푸란, 아세토니트릴, 아세톤, 메틸렌 클로라이드, 클로로포름 또는 디메틸포름아미드)이다.Suitable solvents for the present invention are all solvents which are stable under the reaction conditions (eg diethyl ether, tetrahydrofuran, acetonitrile, acetone, methylene chloride, chloroform or dimethylformamide).

적합한 아민은 3급-아민(예 : 트리에틸아민 또는 트리부틸아민) 및 입체장애된 2급-아민(예 : 디이소프로필아민)이다.Suitable amines are tertiary-amines (eg triethylamine or tributylamine) and hindered secondary-amines (eg diisopropylamine).

반응을 -80℃내지 실온에서 수행할 수 있는데, 저온은 이중결합상에서 치환체의 이성체화를 방해한다. 유리하게는, 반응을 -20 내지 -50℃에서 10분 내지 6시간 동안 수행한다.The reaction can be carried out at −80 ° C. to room temperature, where low temperatures interfere with the isomerization of substituents on the double bond. Advantageously, the reaction is carried out at -20 to -50 ° C for 10 minutes to 6 hours.

일반식(ⅩⅥ)의 화합물은, 예를 들면, 용매로서 테트로하이드로푸란을 사용하고 염기로서 트리에틸아민을 사용하여, 형성된 트리에탈아민 염산을 흡입 여과시키고,용매를 진공중에서 증류시켜 분리할 수 있다. 그러나, 수득한 일반식(ⅩⅥ) 화합물의 용액을 일반식(ⅩⅦ) 세팔로스포란산과 직접 반응시키는 것이 보다 유리하다. 이러한 목적을 위해서는, 일반식(ⅩⅦ)의 세팔로스포란산을 2 내지 4당량의 아민과 함께 적합한 용매에 용해시키고, 용액을 목적하는 후속 반응 온도로 미리 냉각시킨 다음, 이 용액을 이 온도에서 전술한 일반식(ⅩⅥ) 화합물의 용액에 가한다. 일반식(ⅩⅧ)의 반응 생성물에서 라디칼 R1의 이성체화를 방지하기 위해서는, 유리하게는 반응을 -60 내지 -30℃에서 수행하고 혼합물을 밤새 실온으로 방치한다.Compounds of formula (XIV) can be separated by suction filtration of the formed triethanamine hydrochloric acid using, for example, tetrahydrofuran as the solvent and triethylamine as the base, and distillation of the solvent in vacuo. Can be. However, it is more advantageous to directly react the obtained solution of the general formula (XIV) compound with the general formula (III) cephalosporranic acid. For this purpose, cephalosporranic acid of the general formula is dissolved in a suitable solvent with 2 to 4 equivalents of amine, the solution is pre-cooled to the desired subsequent reaction temperature, and the solution is then at this temperature. It is added to the solution of the above-mentioned general formula (XIV) compound. In order to prevent the isomerization of the radical R 1 in the reaction product of general formula, the reaction is advantageously carried out at −60 to −30 ° C. and the mixture is left at room temperature overnight.

일반식(ⅩⅥ) 화합물을 제조하기 위해 언급한 아민 및 용매를 사용하여 일반식(ⅩⅦ)의 세팔로스포란산을 용해시킬 수 있다. 이러한 방법으로는 만족스러운 농도의 일반식(ⅩⅦ)의 세팔로스포란산 용액을 수득할 수 없는 경우, 세팔로스포린 화학분야에서는 충분히 공지된 일반식(ⅩⅦ) 화합물의 고용성 에스테르(예 : 실릴, 3급-부틸 또는 디페닐메틸 에스테르)를 사용할 수 있다는 것도 명백하다.The amines and solvents mentioned for preparing the general formula (VI) compounds may be used to dissolve cephalosporonic acid of the general formula (VII). If such a method does not provide a satisfactory concentration of the cephalosporan acid solution of general formula, the solid solution esters of general formula compounds (e.g. silyl, It is also clear that tert-butyl or diphenylmethyl ester) can be used.

반응을 완결한 후, R1및 R2가 일반식(ⅩⅥ)의 화합물에서 정의한 바와 같고, X는 세팔로스포린 치환체로서 적합한 그룹[예 : 수소, C1-4의 알킬, 할로겐, C1-4의 알콕시, 하이드록시메틸, 포르밀옥시메틸, (C1-4의 알킬) 카보닐옥시메틸, 아미노카보닐옥시메틸, 피리디늄메틸, 4-카바모일피리디늄메틸 또는 헤테로사이클릴티오메틸{여기서, "헤테로사이클릴"은 바람직하게는 다음 구조식After completion of the reaction, R 1 and R 2 are as defined for compounds of general formula (XVI) and X is a suitable group as cephalosporin substituent [e.g. hydrogen, alkyl of C 1-4 , halogen, C 1- 4 , alkoxy, hydroxymethyl, formyloxymethyl, (C 1-4 alkyl) carbonyloxymethyl, aminocarbonyloxymethyl, pyridiniummethyl, 4-carbamoylpyridiniummethyl or heterocyclylthiomethyl { Here, "heterocyclyl" is preferably the following structural formula

Figure kpo00015
Figure kpo00015

(이때, R6은 수소, 메틸, 2-디메틸아미노에틸, 카복시메틸 또는 설포메틸을 나타내고 ; R7은 수소 또는 메틸을 나타낸다)의 라디칼을 나타낸다}]을 나타내는 일반식(ⅩⅧ)의 화합물을 수득한다.Wherein R 6 represents hydrogen, methyl, 2-dimethylaminoethyl, carboxymethyl or sulfomethyl; R 7 represents hydrogen or methyl}} to obtain a compound of formula do.

바람직한 일반식(ⅩⅧ)의 화합물은 X가 수소, 염소, 메톡시, 하이드록시메틸, 아세틸옥시메틸, 아미노카보닐옥시메틸, 피리디늄메틸,Preferred compounds of formula (X) are those wherein X is hydrogen, chlorine, methoxy, hydroxymethyl, acetyloxymethyl, aminocarbonyloxymethyl, pyridiniummethyl,

Figure kpo00016
Figure kpo00016

을 나타내는 화합물이다.It is a compound which represents.

R1및 X가 일반식(ⅩⅧ)의 화합물에서 정의한 바와 같은 일반식(Ⅰ)의 화합물은 보호그룹 R2를 일반식(ⅩⅧ)의 화합물로부터 분리한 후에 수득한다. 이미 일반식(Ⅹ)의 화합물에서 언급한 바와 같이, R2가 선택적으로 분리할 수도 있는 염기에 안정한 보호그룹[예 : (트리플루오로아세트산을 사용하여 분리하는) 3급-부틸옥시카보닐]인 경우, 일반식(Ⅹ)의 화합물로부터 일반식(Ⅰ)의 화합물을 제조하기 위한 완전한 반응순서를 직접 수행하는 것은 상당히 유리하다.Compounds of formula (I) wherein R 1 and X are as defined for compounds of formula (VII) are obtained after separation of protecting group R 2 from compounds of formula (VII). As already mentioned for compounds of general formula, a protecting group stable to the base where R 2 may optionally be separated [eg tert-butyloxycarbonyl (separated using trifluoroacetic acid)] In the case of, it is quite advantageous to directly carry out the complete reaction sequence for preparing the compound of formula (I) from the compound of formula (VII).

본 발명에 따르는 방법 및 본 발명에 따르는 화합물의 제조방법을 다음 실시예로 설명한다 :The process according to the invention and the preparation of the compound according to the invention are illustrated by the following examples:

[실시예 1]Example 1

에틸 2-3급-부톡시카보닐이미노-3-3급-부톡시카보닐-4-티아졸린-4-일아세테이트Ethyl 2-3-butoxycarbonylimino-3-tert-butoxycarbonyl-4-thiazolin-4-ylacetate

에틸 2-아미노티아졸-4-일아세테이트 186g(1몰), 디메틸 설폭사이드 300ml 및 98% 디-3급- 부틸 피로카보네이트 500g(2.3몰)을 실온에서 7일간 교반한다. 빙수 3.5ℓ를 최대 20℃에서 빙냉시키면서 가하고, 혼합물을 30분간 교반한 후, 침전물을 흡입 여과하고, 물 2ℓ로 세척한 다음, 메틸렌 클로라이드 2ℓ에 넣는다. 물을 분리하고, 메틸렌클로라이드 상을 Na2SO4상에서 건조시킨 후, 회전 증발기로 농축시킨다. 수득한 오일을 (결정화가 시작되기 전에) 즉시 석유 에테르 2ℓ에 넣어 결정화한다.186 g (1 mol) of ethyl 2-aminothiazol-4-ylacetate, 300 ml of dimethyl sulfoxide and 500 g (2.3 mol) of 98% di-tert-butyl pyrocarbonate are stirred at room temperature for 7 days. 3.5 L of ice water is added with ice cooling at a maximum of 20 ° C., and the mixture is stirred for 30 min, after which the precipitate is filtered off with suction, washed with 2 L of water and then placed in 2 L of methylene chloride. The water is separated and the methylene chloride phase is dried over Na 2 SO 4 and then concentrated on a rotary evaporator. The oil obtained is immediately crystallized in 2 liters of petroleum ether (before crystallization begins).

수율 : 78%(302g)Yield: 78% (302 g)

융점 : 90℃Melting Point: 90 ℃

[실시예 2]Example 2

메틸 2-3급-부톡시카보닐-3-3급-부톡시카보닐-4-티아졸린-4-일아세테이트Methyl 2-3-butoxycarbonyl-3-tert-butoxycarbonyl-4-thiazolin-4-ylacetate

메틸 2-아미노티아졸-4-일아세테이트를 사용하여, 실시예 1과 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.Prepare the title compound in a similar manner to Example 1 using methyl 2-aminothiazol-4-ylacetate.

수율 : 67%Yield: 67%

융점 : 67 내지 69℃Melting Point: 67-69 ° C

[실시예 3]Example 3

에틸 2-에톡시카보닐이미노-3-에톡시카보닐-4-티아졸린-4-일아세테이트Ethyl 2-ethoxycarbonylimino-3-ethoxycarbonyl-4-thiazolin-4-ylacetate

에틸 2-아미노티아졸-4-일아세테이트 및 디에틸피로카보네이트를 사용하여, 실시예 1과 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.The title compound is prepared in a similar manner to Example 1 using ethyl 2-aminothiazol-4-ylacetate and diethylpyrocarbonate.

수율 : 71%Yield: 71%

융점 : 102℃Melting Point: 102 ℃

[실시예 4]Example 4

3급-부틸 2-3급-부톡시카보닐이미노-3-3급 부톡시카보닐-4-티아졸린-4-일아세테이트Tert-butyl 2-3 tert-butoxycarbonylimino-3-tert-butoxycarbonyl-4-thiazolin-4-ylacetate

3급-부틸 2-아미노티아졸-4-일아세테이트 157g(0.5몰), 디메틸 설폭사이드 150ml 및 98% 디-3급-부틸 피로카보네이트 260g(1.2몰)을 실시예 1과 유사한 방법으로 반응시킨다.157 g (0.5 mole) of tert-butyl 2-aminothiazol-4-yl acetate, 150 ml of dimethyl sulfoxide and 260 g (1.2 mole) of 98% di-tert-butyl pyrocarbonate were reacted in a similar manner to Example 1 .

수율 : 62%Yield: 62%

[실시예 5]Example 5

트리메틸실릴에틸 2-아미노티아졸-4-일아세테이트Trimethylsilylethyl 2-aminothiazol-4-ylacetate

트리메틸실릴에탄올 11.2g(15.8ml, 0.1몰), 4-디메틸아미노피리딘 100mg 및 디사이클로헥실 카보디이미드 11.4g을 실온에서 아세토니트릴 50ml중의 2-아미노티아졸-4-일아세트산 7.9g(0.05몰)에 가하고, 혼합물을 2일간 교반한다. 그후 침전된 우레아를 흡입 여과하고, 에테르로 세척한 후, 세척물을 회전 증발기로 농축시키고, 잔류물을 에테르에 넣은 다음, 에테르성 용액을 0.5N 염산 및 NaHCO3용액으로 세척하고, 이어서 MgSO4상에서 건조시킨 다음, 회전 증발기로 농축시킨다. 용액을 농축시키고, 석유 에테르를 가하면, 목적하는 에스테르가 결정화된다.7.9 g (0.05 mol) of 2-aminothiazol-4-ylacetic acid in 50 ml of acetonitrile at 11.2 g (15.8 ml, 0.1 mol) of trimethylsilylethanol, 100 mg of 4-dimethylaminopyridine and 11.4 g of dicyclohexyl carbodiimide at room temperature ) And the mixture is stirred for 2 days. The precipitated urea is then suction filtered, washed with ether, then the washings are concentrated on a rotary evaporator, the residue is placed in ether, then the ethereal solution is washed with 0.5N hydrochloric acid and NaHCO 3 solution, followed by MgSO 4 Dry over phase and then concentrate on rotary evaporator. Concentrate the solution and add petroleum ether to crystallize the desired ester.

수득량 : 2.8gYield: 2.8 g

[실시예 6]Example 6

트리메틸실릴에틸 2-3급-부틸옥시카보닐이미노-3-3급-부톡시카보닐-4-티아졸린-4-일아세테이트Trimethylsilylethyl 2-3-butyloxycarbonylimino-3-tert-butoxycarbonyl-4-thiazolin-4-ylacetate

트리메틸실릴 2-아미노티아졸-4-일아세테이트를 사용하여, 실시예 1과 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.Using trimethylsilyl 2-aminothiazol-4-ylacetate, the title compound is prepared in a similar manner to Example 1.

수율 : 50%Yield: 50%

[실시예 7]Example 7

에틸 1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-2-3급-부톡시카보닐옥시프로판카복실레이트Ethyl 1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -2-tert-butoxycarbonyloxypropanecarboxylate

에틸 2-3급-부톡시카보닐이미노-3-3급-부톡시카보닐-4-티아졸린-4-일아세테이트 11.2g(0.03몰)을 무수테트라하이드로푸란 80ml에 용해시키고, 질소하에 -50 내지 -60℃에서 n-헥산중 15% n-부틸리튬 용액 20ml(0.032밀리몰)를 가한 후, 아세트알데하이드 1.91ml(0.034몰)를 가한다. 혼합물을 -50 내지 -60℃에서 2시간 동안 교반한 후, 10% 시트르산 수용액 30ml를 가하고, 혼합물을 실온으로 가온한다. 후처리하기 위하여, 테트라 하이드로푸란을 진공중 실온에서 증류하고, 잔류물을 메틸렌 클로라이드로 추출한 후, 유기 추출물을 Na2SO4상에서 건조시키고, 이어서 용매를 증류한다. NMR 및 TLC(사이클로헥산/에테르 1 : 1)에 따르는 부분입체이성체의 혼합물인 오일 10.8g을 수득한다.11.2 g (0.03 mol) of ethyl 2-3-butoxycarbonylimino-3-tert-butoxycarbonyl-4-thiazolin-4-ylacetate was dissolved in 80 ml of anhydrous tetrahydrofuran and under nitrogen 20 ml (0.032 mmol) of a 15% n-butyllithium solution in n-hexane at −50 to −60 ° C. are added followed by 1.91 ml (0.034 mol) of acetaldehyde. After the mixture is stirred at -50 to -60 [deg.] C. for 2 hours, 30 ml of 10% aqueous citric acid solution is added and the mixture is allowed to warm to room temperature. For workup, tetrahydrofuran is distilled in vacuo at room temperature and the residue is extracted with methylene chloride, then the organic extract is dried over Na 2 SO 4 and then the solvent is distilled off. 10.8 g of an oil, which is a mixture of diastereomers according to NMR and TLC (cyclohexane / ether 1: 1), are obtained.

Claims (6)

다음 일반식(Ⅹ)의 화합물을 저온에서 반응물에 적절한 용매중에서 염기와 반응시킨 다음, 일반식 R1-CHO의 알데하이드와 반응시킴을 특징으로 하여, 다음 일반식(ⅩⅠ)의 화합물을 제조하는 방법.A method for preparing the compound of formula (VII), characterized in that the compound of formula (VII) is reacted with a base in a solvent suitable for the reactants at low temperature, and then reacted with an aldehyde of formula R 1 -CHO .
Figure kpo00017
Figure kpo00017
상기식에서, R1은 저급 알킬 또는 치환되거나 비치환된 페닐이고 ; R2는 알콕시카보닐이며 ; R3는 저급 알킬이고 ; R4는 저급 알킬 또는 트리알킬실릴알킬이다.Wherein R 1 is lower alkyl or substituted or unsubstituted phenyl; R 2 is alkoxycarbonyl; R 3 is lower alkyl; R 4 is lower alkyl or trialkylsilylalkyl.
제 1 항에 있어서, 1 내지 1.1당량의 염기를 사용한 다음, 1 내지 1.2당량의 알데하이드를 사용하는 방법.2. A process according to claim 1 wherein 1 to 1.1 equivalents of base is used and then 1 to 1.2 equivalents of aldehyde. 제 1 항에 있어서, 염기를 -50 내지 -80℃에서 일반식(Ⅹ) 화합물의 용액에 가한 다음, 알데하이드를 -50 내지 -60℃에서 가하고, 생성된 혼합물을 -50 내지 -60℃에서 약 12시간 동안 교반하는 방법.The method of claim 1, wherein the base is added to a solution of the general formula compound at -50 to -80 ° C, then aldehyde is added at -50 to -60 ° C, and the resulting mixture is about -50 to -60 ° C. Stirring for 12 hours. 제 1 항에 있어서, 용매가 테트라하이드로푸란인 방법.The method of claim 1 wherein the solvent is tetrahydrofuran. 제 1 항에 있어서, 염기가 칼륨 3급-부틸레이트, 리튬 디이소프로필아미드 또는 부틸리튬인 방법.The method of claim 1 wherein the base is potassium tert-butylate, lithium diisopropylamide or butyllithium. 제 1 항에 있어서, R1이 임의로 치환된 C1-15의 알킬 라디칼인 일반식(ⅩⅠ)의 화합물을 제조하는 방법.The process for preparing a compound of formula (XI) according to claim 1, wherein R 1 is an optionally substituted C 1-15 alkyl radical.
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