KR880001540B1 - Process for preparing cephalesporins - Google Patents

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KR880001540B1
KR880001540B1 KR1019880007497A KR880007497A KR880001540B1 KR 880001540 B1 KR880001540 B1 KR 880001540B1 KR 1019880007497 A KR1019880007497 A KR 1019880007497A KR 880007497 A KR880007497 A KR 880007497A KR 880001540 B1 KR880001540 B1 KR 880001540B1
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키나스트 귄터
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바이엘 아크티엔게젤샤프트
에르빈 딜, 하인쯔-게르트 뮐러
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Abstract

Thiazolines (I) [R=protective gp.; R1, R2=(un)substd. alkyl, cycloalkyl, aryl, heterocyclic , useful as intermediates for cephalosporins (II) [R3=(un)substd. alkyl, cycloalkyl, aryl, heterocyclic; R4=appropriate substituent , are prepd. Thus, Et 2- amino-4-thiazolylacetate is treated wtih (Me3CO2C)2O to give (I) (R=Me3CO2C, R1=CMe3, R2=Et) which is treated with MeCHO to give (III) . Sapon. of (III) to the acid, successive reaction with MeSO2Cl and 7-aminocephalosporanic acid, and deblocking give (II) (R3=Me, R4=CH2OAc).

Description

세팔로스포린의 제조방법Method for preparing cephalosporin

본 발명은 특정한 세팔로스포린을 제조하기 위한 특정한 중간체 화합물, 이의 제조방법 및 이의 용도, 및 세팔로스포린 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to certain intermediate compounds for the preparation of particular cephalosporins, methods for their preparation and their use, and methods for preparing cephalosporins.

다음 일반식(I)의 세팔로스포린은 아직 공고되지 않은 독일연방공화국 특허원 제 P30 37 997.6호에 비교적 오랫동안 언급되어 왔다.The cephalosporins of the following general formula (I) have been mentioned for a relatively long time in the patent application P30 37 997.6, which has not been published.

Figure kpo00001
Figure kpo00001

상기식에서, R1은 알킬 또는 아릴 라디칼을 나타내고, X는 세팔로스포린 치환체로서 적합한 라디칼을 나타낸다.Wherein R 1 represents an alkyl or aryl radical and X represents a radical suitable as a cephalosporin substituent.

이들 화합물은 그램-음성균 뿐만 아니라 그램-양성균에 대한 항균작용이 광범위하다.These compounds have a wide range of antimicrobial activity against Gram-positive bacteria as well as Gram-positive bacteria.

상기한 특허원에 언급된 방법에 따르면, 일반식(I)의 화합물은 다음 반응도식에 따라 제조된다 :According to the method mentioned in the above patent application, the compound of general formula (I) is prepared according to the following scheme:

Figure kpo00002
Figure kpo00002

Figure kpo00003
Figure kpo00003

상기식에서, R1은 상기에서 정의한 바와 같다.Wherein R 1 is as defined above.

그러나, 이러한 방법으로는 R1이 알킬 라디칼을 나타내는 일반식(I)의 화합물이 만족스럽지 못한 수율로 수득된다. 따라서, 예를들어 R1이 이소프로필 라디칼을 나타내는 경우, 일반식(III)의 화합물을 티오우레아오아 반응시키는 도중에 이중결합의 탈공액화(deconjugation) 및 마이클(Michael) 부가반응으로 인하여 목적하는 일반식(IV)의 화합물 외에도 다음 구조식(VI) 및 (VII)의 생성물이 훨씬 더 큰 분획으로 수득된다 :In this way, however, compounds of formula (I) in which R 1 represents alkyl radicals are obtained in unsatisfactory yields. Thus, for example, in the case where R 1 represents an isopropyl radical, the desired general formula is due to deconjugation of the double bond and Michael addition reaction during the thioureaoa reaction of the compound of formula (III). In addition to the compounds of (IV), the products of the following formulas (VI) and (VII) are obtained in much larger fractions:

Figure kpo00004
Figure kpo00004

더우기, R1이 알킬 라디칼을 나타내는 경우, 일반식(V)의 산을 7-아미노세팔로스포란산과 커플링시켜 일반식(I)의 생성물을 수득하기 위해서 상기한 특허원에 기술된(예를 들면, 하이드록시벤조트리아졸/DCC를 사용하는) 방법을 사용하면, 이중결합의 이성체화가 상당히 많이 발생하여 다음 일반식(VIII)의 생성물이 수득된다 :Furthermore, when R 1 represents an alkyl radical, it is described in the above-mentioned patent application to couple the acid of general formula (V) with 7-aminocephalosporanic acid to obtain the product of general formula (I) (eg For example, using hydroxybenzotriazole / DCC), the isomerization of the double bond occurs considerably, resulting in the product of formula (VIII):

Figure kpo00005
Figure kpo00005

상기식에서, R1및 X는 상기에서 정의한 바와 같다.Wherein R 1 and X are as defined above.

그러나, 일반식(VIII)의 화합물은 일반적으로 일반식(I) 화합물의 약 1/10의 생물학적 활성만을 나타낸다.However, compounds of formula (VIII) generally exhibit only about one tenth of the biological activity of compounds of formula (I).

본 발명에서는 신규한 중간체 생성물을 통해 제조되며 전술한 단점은 갖지 않는 일반식(I) 화합물의 제조 방법을 밝혀내었다.The present invention discloses a process for the preparation of compounds of formula (I) which are prepared via novel intermediate products and which do not have the aforementioned disadvantages.

따라서, 본 발명은 (a) 일반식(IX)의 화합물을 일반식(IXa)의 피로카본산 에스테르와 반응시키고 : (b) 이렇게 하여 수득한 일반식(X)의 생성물을 우선 적합한 염기와 반응시킨 다음, 일반식 R1-CHO의 알데하이드와 반응시켜 일반식(X I)의 화합물을 수득한 다음 ; (c) 수득한 일반식(X I)의 화합물을 염기와 반응시켜 일반식(X II)의 화합물을 수득하고 : (d) 일반식(X II)의 화합물로부터 Z 및 E 이성체를 분리한 다음, 이어서 비누화시키거나, 선택적으로 비누화시켜 일반식(X III)의 Z-산을 수득한 다음 ; (e) 일반식 (X III)의 Z-산을 일반식(XV)의 화합물과 반응시켜 일반식(X VI)의 화합물을 수득한 다음 ; (f) 일반식(X VI)의 화합물을 일반식(X VII)의 세팔로스포란산과 커플링시키고 ; (g) 보호그룹 R2를 분리시켜 일반식(I)의 화합물을 제조하는 방법을 제공한다 :Accordingly, the present invention relates to (a) reacting a compound of formula (IX) with a pyrocarboxylic acid ester of formula (IXa): (b) reacting the product of formula (X) thus obtained first with a suitable base. And then reacted with an aldehyde of formula R 1 -CHO to give a compound of formula (XI); (c) reacting the obtained compound of formula (XI) with a base to give a compound of formula (X II): (d) separating the Z and E isomers from the compound of formula (X II), Then saponified or optionally saponified to give a Z-acid of formula (X III); (e) reacting a Z-acid of formula (X III) with a compound of formula (XV) to afford a compound of formula (XVI); (f) coupling the compound of formula (X VI) with cephalosporranic acid of formula (X VII); (g) providing a process for the preparation of a compound of formula (I) by isolating protecting group R 2 :

Figure kpo00006
Figure kpo00006

Figure kpo00007
Figure kpo00007

상기식에서, R1은 임의로 치환된 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 헤테로사이클릴 라디칼을 나타내고 ; X는 세팔로스포린 치환체로서 적합한 라디칼을 나타내며 ; R2는 CO2R3을 나타내고 ; R3및 R4는 동일하거나 상이하며, 임의로 치환된 알킬, 사이클로알킬, 알케닐, 사이클로알케닐, 아릴 또는 헤테로사이클릴 라디칼을 나타내고, 라디칼의 치환체로서의 헤테로원자와 알케닐 및 사이클로알케닐 라디칼중의 이중결합을 옥시카보닐 그룹으로부터 분리하는 적어도 하나의 탄소원자가 존재하며 ; Z는 염소원자, 브롬원자 또는 -O-SO2-R5를 나타내고 ; R5는 임의로 치환된 알킬, 알케닐, 사이클로알킬, 사이클로알케닐, 아릴 또는 헤테로사이클릴 라디칼을 나타낸다. 또한 본 발명은 신규한 화합물로서 다음 일반식(X)의 화합물에 관한 것이다 :Wherein R 1 represents an optionally substituted alkyl, cycloalkyl, aryl or heterocyclyl radical; X represents a radical suitable as a cephalosporin substituent; R 2 represents CO 2 R 3 ; R 3 and R 4 are the same or different and represent an optionally substituted alkyl, cycloalkyl, alkenyl, cycloalkenyl, aryl or heterocyclyl radical, wherein the heteroatoms as substituents of the radical and the alkenyl and cycloalkenyl radicals At least one carbon atom is present that separates the double bond from the oxycarbonyl group; Z represents a chlorine atom, a bromine atom or -O-SO 2 -R 5 ; R 5 represents an optionally substituted alkyl, alkenyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, aryl or heterocyclyl radical. The present invention also relates to compounds of the general formula (X) as novel compounds:

Figure kpo00008
Figure kpo00008

상기식에서, R2,R3및 R4는 상기에서 정의한 바와 같다.Wherein R 2 , R 3 and R 4 are as defined above.

또한, 본 발명은 상술한 바와 같은 일반식(IX)의 화합물을 반응물에 적합한 용매중에서 전술한 바와 같은 일반식(IXa)의 피로카본산 에스테르와 반응시키는 일반식 (X) 화합물의 제조방법에 관한 것이다.The present invention also relates to a process for the preparation of a compound of formula (X) wherein the compound of formula (IX) as described above is reacted with a pyrocarboxylic acid ester of formula (IXa) as described above in a solvent suitable for the reactants. will be.

또한, 본 발명은 다음 일반식(X I)의 신규한 화합물에 관한 것이다 :The present invention also relates to novel compounds of the general formula (X I):

Figure kpo00009
Figure kpo00009

상기식에서, R2,R3및 R4는 상기에서 정의한 바와 같고 : R1은 임의로 치환된 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 헤테로사이클릴 라디칼을 나타낸다.Wherein R 2 , R 3 and R 4 are as defined above and R 1 represents an optionally substituted alkyl, cycloalkyl, aryl or heterocyclyl radical.

또한, 본 발명은 상술한 바와 같은 일반식(X)의 화합물을 반응물에 적합한 용매중에서 저온에서 염기와 반응시킨 다음, 일반식 R1CHO (여기서, R1은 상기에서 정의한 바와 같다)의 알데하이드의 반응시키는 일반식(X I)화합물의 제조방법에도 관한 것이다.In addition, the present invention reacts a compound of formula (X) as described above with a base at a low temperature in a solvent suitable for the reactants, and then reacts with an aldehyde of formula R 1 CHO, wherein R 1 is as defined above. The present invention also relates to a method for producing a compound of general formula (XI).

또한, 본 발명은 다음 일반식(X VI)의 신규한 화합물에 관한 것이다 :The present invention also relates to novel compounds of the general formula (X VI):

Figure kpo00010
Figure kpo00010

상기식에서, R1및 R2는 상기에서 정의한 바와 같고 ; R5는 불소원자, 임의로 치환된 알킬, 알케닐, 사이클로알킬, 사이클로알케닐, 아릴 또는 헤테로사이클릴 라디칼을 나타낸다.Wherein R 1 and R 2 are as defined above; R 5 represents a fluorine atom, optionally substituted alkyl, alkenyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, aryl or heterocyclyl radical.

또한, 본 발명은 다음 일반식(X III)의 화합물을 다음 일반식(X V)의 화합물과 반응시키는 일반식(X VI)화합물의 제조방법에도 관한 것이다 :The present invention also relates to a process for the preparation of a compound of formula (XVI) wherein the compound of formula (X III) is reacted with a compound of formula (XV):

Figure kpo00011
Figure kpo00011

상기식에서, R1, R2및 R5는 상기에서 정의한 바와 같고 : Z는 염소원자, 브롬원자 또는 -O-SO2-R5를 나타낸다.Wherein R 1 , R 2 and R 5 are as defined above: Z represents a chlorine atom, bromine atom or —O—SO 2 —R 5 .

일반식(I)의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따르는 방법은 다음의 반응도식으로 요약할 수도 있다 :The process according to the invention for the preparation of compounds of general formula (I) may also be summarized in the following scheme:

Figure kpo00012
Figure kpo00012

상기식에서, R1, R2, R3, R4및 X는 상기에서 정의한 바와 같다.Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and X are as defined above.

일반식(I)의 화합물을 제조하기 위한 반응 단계는 이후의 본 명세서에서 보다 상세히 설명한다.The reaction step for preparing the compound of formula (I) is described in more detail later in this specification.

본 발명에 따르는 특히 바람직한 일반식(X)의 화합물은 R2가 O-CO-C(CH3)3를 나타내고 : R3는 O(CH3)3를 나타내며 : R4는 C1-15의 임의로 치환된 알킬 라디칼, C3-15의 임의로 치환된 알케닐 라디칼, C3-10의 임의로 치환된 사이클로알킬 라디칼, C5-10의 임의로 치환된 사이클로알케닐 라이칼, 1 내지 3개의 환을 갖는 임의로 치환된 아릴 라디칼, 또는 질소, 황 및 산소로부터 선택된 5개 이하의 헤테로원자를 함유할 수 있는 1 내지 3개의 환을 갖는 임의로 치환된 헤테로사이클릴 라디칼을 나타내는 화합물이다.Particularly preferred compounds of formula (X) according to the invention are those in which R 2 represents O-CO-C (CH 3 ) 3 : R 3 represents O (CH 3 ) 3 : R 4 represents C 1-15 An optionally substituted alkyl radical, C 3-15 optionally substituted alkenyl radical, C 3-10 optionally substituted cycloalkyl radical, C 5-10 optionally substituted cycloalkenyl radical, 1 to 3 rings Having an optionally substituted aryl radical or optionally substituted heterocyclyl radical having 1 to 3 rings which may contain up to 5 heteroatoms selected from nitrogen, sulfur and oxygen.

본 발명에 따르는 특히 바람직한 일반식(X)의 화합물은 R2가 급-부톡시카보닐 라디칼을 나타내고 ; R3은 3급-부틸 라디칼을 나타내며 ; R4는 메틸, 에틸, 3급-부틸 또는 트리메틸실릴 에틸 라디칼을 나타내는 화합물이다.Particularly preferred compounds of general formula (X) according to the invention represent R 2 -butoxybutoxycarbonyl radicals; R 3 represents a tert-butyl radical; R 4 is a compound representing methyl, ethyl, tert-butyl or trimethylsilyl ethyl radicals.

언급한 알킬, 알케닐, 사이클로알킬 및 사이클로알케닐 라디칼은 C1-4의 알킬 라디칼, C1-4의 C-알킬 라디칼, 할로겐(바람직하게는, 염소), 임의로 치환된 페닐 라디칼, C=N 및 트리(C1-5의 알킬)실릴로 치환할 수 있다.The alkyl, alkenyl, cycloalkyl and cycloalkenyl radicals mentioned are C 1-4 alkyl radicals, C 1-4 C-alkyl radicals, halogens (preferably chlorine), optionally substituted phenyl radicals, C = N and tri (C 1-5 alkyl) silyl may be substituted.

언급한 페닐 라디칼을 포함하여 모든 아릴 및 헤테로사이클릴 라디칼은 알킬, O-알킬, S-알킬, 알킬 옥시카보닐, 할로겐, 페닐, 니트로 및 C=N라디칼로 치환할 수 있으며, 여기서 모든 알킬 라디칼은 C1-4일 수 있다.All aryl and heterocyclyl radicals, including the phenyl radicals mentioned, can be substituted with alkyl, O-alkyl, S-alkyl, alkyl oxycarbonyl, halogen, phenyl, nitro and C = N radicals, where all alkyl radicals May be C 1-4 .

라디칼 R3및/또는 R4가 바람직하게는 전술한 치환체에 의해 치환되는 경우, 이들은 1 내지 5개, 바람직하게는 1 또는 2개의 치환체를 함유할 수 있다.When the radicals R 3 and / or R 4 are preferably substituted by the aforementioned substituents, they may contain 1 to 5, preferably 1 or 2 substituents.

R2가 염기에 대해서는 안정하고 산중에서는 제거가능한 보호그룹(예 : 3급-부톡시카보닐)을 나타내고, R4는 염기로 비누화할 수 있는 라디칼(예 : 메틸 또는 에틸)을 나타내는 경우의 방법은 특히 유리하다.When R 2 represents a protecting group (e.g. tert-butoxycarbonyl) which is stable to the base and removable in the acid and R 4 represents a radical which can be saponified with a base (e.g. methyl or ethyl) Is particularly advantageous.

일반식(X)의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따르는 방법에서 사용하는 일반식(IX)의 화합물은 그 자체가 공지되어 있다[참조 : E.Campaine & T.P.Selby,J.Heterocycl. Chem. 17(1980)].Compounds of general formula (IX) for use in the process according to the invention for the preparation of compounds of general formula (X) are known per se. See, E. Campaine & T. P. Selby, J. Heterocycl. Chem. 17 (1980).

일반식(X)의 화합물을 제조하는데 특히 적합한 용매는 비양자성 극성용매(예 : 아세토니트릴, 디메틸포름아미드, 헥사메틸포스포르산 트리아미드 또는 디메틸설폭사이드)이며, 특히 헥사메틸포스포르산 트리아미드 또는 디메틸 설폭사이드가 적합하다. 반응을 실온 또는 저온(예 : 10 내지 -50℃)에서 수행하는 것은 특히 유리하며, 일반적으로 1 내지 7일 동안 성분을 서로 반응시킨다. 일반적으로, 일반식(IXa)의 피로카본산 에스테르는 2 내지 2.5몰당량으로 사용한다.Particularly suitable solvents for the preparation of compounds of formula (X) are aprotic polar solvents such as acetonitrile, dimethylformamide, hexamethylphosphoric acid triamide or dimethylsulfoxide, in particular hexamethylphosphoric acid triamide Or dimethyl sulfoxide is suitable. It is particularly advantageous to carry out the reaction at room temperature or at low temperatures (eg 10 to -50 ° C.) and generally the components are reacted with each other for 1 to 7 days. In general, the pyrocarboxylic acid ester of the general formula (IXa) is used in 2 to 2.5 molar equivalents.

기타의 용매, 고온 또는 아실화 촉매(예 : 4-디메틸포름아미노피리딘)는 다음 일반식(XIX)의 목적하지 않은 생성물의 형성을 상당히 촉진시킨다.Other solvents, high temperature or acylation catalysts such as 4-dimethylformaminopyridine, significantly promote the formation of undesired products of the following general formula (XIX).

Figure kpo00013
Figure kpo00013

상기식에서, R2, R3및 R4는 상술한 바와 같다.Wherein R 2 , R 3 and R 4 are as described above.

일반식(X I)의 신규한 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따르는 방법에서는, 일반적으로 일반식(X)의 화합물을 반응물에 적합한 용매중에서 저온에서 1 내지 1.1당량의 염기로 처리한 다음, 일반식 R1-CHO의 알데하이드를 1 내지 1.2당량 가한다.In the process according to the invention for the preparation of novel compounds of formula (XI), the compounds of formula (X) are generally treated with 1 to 1.1 equivalents of base at low temperature in a solvent suitable for the reactants and then 1 to 1.2 equivalents of aldehyde of R 1 -CHO are added.

이 반응에서 사용할 수도 있는 용매는, 예를 들면, 디메틸포름아미드. 디에틸 에테르, 테트라하이드로푸란 또는 톨루엔이고, 바람직하게는 테트라하이드포푸란이며, 사용할 수도 있는 염기는 알콜레이트, 수소화물, 아미드 또는 유기 금속화합물(바람직하게는, 칼륨 3급-부틸레이트, 리튬 디이소프로필아미드 및 부틸리튬)이다. 반응을 수행하기 위해서는, 일반적으로 -50 내지 -80℃에서 일반식(X) 화합물의 용액에 염기를 가한 다음, -50 내지 -60℃에서 알데하이드를 가하고, 혼합물을 -50 내지 -60℃에서약 12시간 동안 교반한다. 일반식(X I)의 생성물을 분리하기 위해서는, 혼합물을 중화시키고 후처리한다.The solvent which may be used in this reaction is, for example, dimethylformamide. Diethyl ether, tetrahydrofuran or toluene, preferably tetrahydrofuran, and bases which may be used are alcoholates, hydrides, amides or organometallic compounds (preferably potassium tert-butylate, lithium di Isopropylamide and butyllithium). To carry out the reaction, a base is generally added to a solution of the compound of general formula (X) at -50 to -80 ° C, then aldehyde is added at -50 to -60 ° C, and the mixture is about -50 to -60 ° C. Stir for 12 hours. To separate the product of general formula (X I), the mixture is neutralized and worked up.

일반식(X I)의 바람직한 화합물은 R2내지 R4가 상기에서 정의한 바와 같고 ; R1은 C1-15의 임의로 치환된 알킬 라디칼, C3-10의 임의로 치환된 사이클로알킬 라디칼, 1 내지 2개의 환을 갖는 임의로 치환된 카보사이클릭 또는 헤테로사이클릭 아릴 라디칼, 또는 질소, 황 및 산소원자로부터 선택된 5개 이하의 헤테로원자를 함유할 수 있는 1 내지 3개의 환을 갖는 임의로 치환된 헤테로사이클릭 라디칼을 나타내는 화합물이다.Preferred compounds of formula (XI) are those in which R 2 to R 4 are as defined above; R 1 is C 1-15 optionally substituted alkyl radical, C 3-10 optionally substituted cycloalkyl radical, optionally substituted carbocyclic or heterocyclic aryl radical having 1 to 2 rings, or nitrogen, sulfur And optionally substituted heterocyclic radicals having from 1 to 3 rings which may contain up to 5 heteroatoms selected from oxygen atoms.

알킬 및 사이클로알킬에 적합한 치환체는 C1-6의 알킬 라디칼, C1-6의 O-알킬 라디칼, C1-6의 S-알킬 라디칼, C1-6의 N-알킬 라디칼, C1-6의 알킬옥시카보닐 라디칼 및 임의로 치환된 페닐 라디칼이다.Suitable substituents for alkyl and cycloalkyl include C 1-6 alkyl radicals, C 1-6 O-alkyl radicals, C 1-6 S-alkyl radicals, C 1-6 N-alkyl radicals, C 1-6 Alkyloxycarbonyl radicals and optionally substituted phenyl radicals.

언급한 페닐 라디칼을 포함하여 모든 아릴 및 헤테로사이클릴 라디칼은 알킬, C-알킬, S-알킬, 알킬옥시카보닐, 할로겐(바람직하게는, 염소) 및 페닐 라디칼에 의해 치환될 수 있으며, 모든 알킬 라디칼은 C1-6일 수 있다.All aryl and heterocyclyl radicals, including the phenyl radicals mentioned, may be substituted by alkyl, C-alkyl, S-alkyl, alkyloxycarbonyl, halogen (preferably chlorine) and phenyl radicals, all alkyl The radical may be C 1-6 .

R1이(바람직하게는, 전술한 치환체에 의해)치환된 라디칼을 나타내는 경우, 1 내지 5개, 바람직하게는 1 또는 2개의 치환체가 바람직하다.When R 1 represents a radical substituted (preferably by a substituent as described above), 1 to 5, preferably 1 or 2 substituents are preferred.

R1이 C1-10의 알킬 라디칼 또는 C3-10의 사이클로알킬 라디칼을 나타내며, 각각의 경우에서 1 내지 2개의 C1-6의 알킬 라디칼 및/또는 1 내지 2개의 페닐 라디칼에 의해 치환될 수 있는 화합물은 특히 바람직하다.R 1 represents an alkyl radical of C 1-10 or a cycloalkyl radical of C 3-10 , which in each case is to be substituted by 1 to 2 C 1-6 alkyl radicals and / or 1 to 2 phenyl radicals Particular preference is given to compounds which can be employed.

일반식(I)의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따르는 방법을 수행하는 중에, 일반식(X I)의 화합물을 분리할 필요는 없다. 반면에, 일반식(X I)의 화합물을 동일 반응계내에서 일반식(X II)의 화합물로 직접 전환시키는 것은 유리하다. 이러한 목적을 위해서는, 일반적으로 알데하이드 R1-CHO를 가한 후에 혼합물을 실온으로 가온하고 이를 실온에서 밤새 교반하는 것은 충분하다. 일반식(X II)의 화합물을 수득하기 위한 일반식(X I)화합물의 제거반응이 완결되지 않은 경우, 1 내지 1.2당량의 염기[예 : 수소화물, 알콜레이트 또는 아미드(특히, 칼륨 3급-부틸레이트)]를 가하고, 반응 혼합물을 실온에서 약 10시간 동안 교반한다.In carrying out the process according to the invention for the preparation of compounds of general formula (I), it is not necessary to separate the compounds of general formula (XI). On the other hand, it is advantageous to directly convert the compound of formula (XI) to the compound of formula (X II) in situ. For this purpose, it is generally sufficient to add the aldehyde R 1 -CHO and then warm the mixture to room temperature and stir it overnight at room temperature. When the elimination reaction of the compound of formula (XI) to obtain the compound of formula (X II) is not complete, 1 to 1.2 equivalents of base, such as hydrides, alcoholates or amides (particularly potassium tertiary- Butyrate)] and the reaction mixture is stirred at room temperature for about 10 hours.

한편, 일반식(X II)의 화합물을 제조하기 위하여 일반식(X I)의 화합물을 미리 분리하는 경우, 1.1 내지 2.2당량의 염기를 적합한 용매중에서 일반식(X I) 화합물의 용액에 가한다. 사용하는 용매 및 염기는 일반식(X I)의 화합물을 수득하기 위한 일반식(X) 화합물의 반응에서 언급한 것들이며, 테트라하이드로푸란 및 칼륨 3급-부틸 레이트가 바람직하다.On the other hand, when the compound of formula (X I) is previously separated to prepare a compound of formula (X II), 1.1 to 2.2 equivalents of base are added to a solution of the compound of formula (X I) in a suitable solvent. Solvents and bases used are those mentioned in the reaction of compounds of formula (X) to obtain compounds of formula (X I), with tetrahydrofuran and potassium tert-butylate being preferred.

일반식(X II)의 화합물은, 예를 들면, 재결정 또는 실리카 겔상에서의 컬럼 크로마토그래피에 의해 분리할 수도 있는 E/Z 이성체의 혼합물로서 수득한다.The compound of general formula (X II) is obtained as a mixture of E / Z isomers, which may be separated, for example, by column chromatography on recrystallization or silica gel.

일반식(X II)의 화합물에서 R1,R2및 R4는 일반식(X I)의 화합물에서 상기에서 정의한 바와 같다.R 1 , R 2 and R 4 in the compound of formula (X II) are as defined above in the compound of formula (XI).

일반식(X III)의 Z-카복실산을 제조하기 위해서는, 일반식(X II) 에스테르의 E/Z 이성체 혼합물을 분리하여 수득할 수 있는 Z-에스테르를 비누화시킬 수 있다. 그러나, 일반식(I)의 화합물을 제조하는 방법을 수행하기 위해서는, 우선 완만한 조건하에 E-에스테르를 일반식(X IV)의 E-카복실산으로 전환시키고 분리한 다음, 잔류하는 Z-에스테르(여기서, 에스테르 그룹은 보다 입체적으로 장애된다)를 보다 격렬한 조건하에 비누화시켜, 일반식(X III)의 Z-카복실산을 수득하는 방법으로 일반식(X II)에스테르의 E/Z이성체 혼합물을 선택적으로 비누화시키는 것이 더 바람직하다.In order to prepare Z-carboxylic acids of general formula (X III), the Z-esters obtainable by separating the E / Z isomeric mixture of general formula (X II) esters can be saponified. However, in order to carry out the process for the preparation of the compound of general formula (I), first, under gentle conditions, the E-ester is converted to the E-carboxylic acid of general formula (X IV) and separated, and then the remaining Z-ester ( Wherein the ester group is more stericly hindered) to saponify under more intense conditions to obtain a Z-carboxylic acid of general formula (X III). It is more preferable to saponify.

일반식(X IV)의 E-카복실산을 생성하는 비누화를 위한 완만한 조건은, 예를 들면, 에탄올, 2N 수산화나트륨용액, 실온 및 24시간이다. 일반식(X I)의 화합물을 일반식(X II)의 화합물로 전환시킨 후, 2N 수산화나트륨 용액을 반응혼합물에 직접 가하고, E-에스테르가 비누화될 때까지 실온에서 교반하거나 약간 가열하는 방법으로 비누화를 수행하는 것이 유리하다. 그후, Z-에스테르를 알칼리성 조건하에 추출시켜 혼합물로 부터 분리하고, 보다 격렬한 조건하에 비누화시킨다.Mild conditions for saponification to produce the E-carboxylic acid of formula (X IV) are, for example, ethanol, 2N sodium hydroxide solution, room temperature and 24 hours. After converting the compound of formula (XI) to the compound of formula (X II), 2N sodium hydroxide solution is added directly to the reaction mixture and saponified by stirring at room temperature or slightly heating until the E-ester saponifies. It is advantageous to carry out. The Z-ester is then extracted under alkaline conditions to separate from the mixture and saponified under more vigorous conditions.

비누화를 위한 보다 격렬한 조건은, 예를 들면, 에탄올, 2N 수산화나트륨 용액 및 24시간-환류인데, 가능하게는 보다 진한 수산화나트륨 용액 또는 고비등 용매(예 : 디옥산)도 사용할 수 있다.More violent conditions for saponification are, for example, ethanol, 2N sodium hydroxide solution and 24 hour-reflux, although possibly higher sodium hydroxide solutions or high boiling solvents such as dioxane can also be used.

이러한 방법으로 목적하는 일반식(X III)의 Z-카복실산 및 일반식(X IV)의 E-카복실산을 수득한다. 일반식(X IV)의 E-카복실산은, 예를 들면, 비스트리메틸 실릴아세트아미드를 사용하여 실릴 에스테르로 전환시킨 후, 적합한 용매(예 : 디에틸 에테르 또는 테트라하이드로푸란)중에서 염기(예 : 칼륨 3급-부틸레이트)를 사용하고, 이어서 묽은 산으로 가수분해하여, 일반식(X IV)의 E-카복실산과 일반식(X III)의 Z-카복실산과의 혼합물로 다시 전환시킬 수 있다.In this way the desired Z-carboxylic acid of general formula (X III) and E-carboxylic acid of general formula (X IV) are obtained. E-carboxylic acids of general formula (X IV) are converted to silyl esters using, for example, bistrimethyl silylacetamide, and then the base (e.g. potassium) in a suitable solvent (e.g. diethyl ether or tetrahydrofuran). Tert-butylate), and then hydrolysed with dilute acid to convert back to a mixture of the E-carboxylic acid of formula (X IV) with the Z-carboxylic acid of formula (X III).

일반식(X III)의 Z-카복실산은, 예를 들면, 결정화 또는 이온 교환제상에서 분리함으로써 E/Z이성체의 혼합물로부터 순수한 형태로 분리할 수도 있다. 일반식(X III)의 Z-카복실산은 일반식(X IV)의 E-카복실산보다 산성이 더 강하기 때문에, 이온 교환제를 이용하는 분리는 간단하다. 즉, 일반식(X IV)의 E-카복실산은 메탄올을 사용하여 약 염기성 이온 교환제로부터 용출되는 반면, 일반식(X III)의 Z-카복실산은 전해질(예 : 2N 수산화나트륨 용액)을 가한 후에만 용출된다. 약 염기성 이온 교환제는 3급-아미노그룹(예 : Lewatit MP 62)을 함유하는 고체 또는 액체 형태의 이온 교환제를 포함하는 것으로 이해된다.Z-carboxylic acids of general formula (X III) can also be separated in pure form from a mixture of E / Z isomers, for example by separating on crystallization or ion exchangers. Since the Z-carboxylic acid of general formula (X III) is more acidic than the E-carboxylic acid of general formula (X IV), separation using an ion exchanger is simple. That is, the E-carboxylic acid of general formula (X IV) is eluted from the weak basic ion exchanger using methanol, while the Z-carboxylic acid of general formula (X III) is added after the addition of an electrolyte (e.g., 2N sodium hydroxide solution). Only elutes. Weak basic ion exchangers are understood to include ion exchangers in solid or liquid form containing tert-amino groups (eg, Lewatit MP 62).

일반식(X III) 및 (X IV)의 화합물에서 R1및 R2는 일반식(X II)의 화합물에서 정의한 바와 같다. 또한, 일반식(X II)의 화합물에서 R2가 비누화되기 전에 알칼리에 의해 비누화될 수 있는 보호그룹(예 : 메틸옥시카보닐그룹)인 경우, R2는 수소원자일 수 있다. 그러나, R2가 비누화 조건하에 안정한 보호그룹, 바람직하게는 3급-부틸옥시카보닐인 경우, 일반식(I)의 화합물을 제조하기 위한 방법을 수행하는 것은 보다 유리하다.R 1 and R 2 in the compounds of formulas (X III) and (X IV) are as defined for compounds of formula (X II). In addition, when R 2 in the compound of general formula (X II) is a protecting group (eg, methyloxycarbonyl group) which may be saponified by alkali before saponifying, R 2 may be a hydrogen atom. However, when R 2 is a protective group which is stable under saponification conditions, preferably tert-butyloxycarbonyl, it is more advantageous to carry out the process for the preparation of compounds of general formula (I).

종래의 펩타이드 화학분햐에서 유도된 다수의 분석방법은 카복실산을 7-아미노세팔로스포린과 커플링시키기위한 세팔로스포린 화학분야에 공지되어 있다. 그러나, 이들 방법으로는 일반식(X III)의 Z-카복실산과 일반식(X VII)의 세팔로스포란산 사이에서 아미드 결합을 형성할 수 없으며, 특히 R1이 알킬 라디칼인 경우에는 수율이 매우 낮게 된다. 이러한 이유는 일반식(X III)의 카복실산에서 라티칼 R1에 의한 카복실그룹의 상당한 입체장애 및, 카복실 작용기가 활성화한 후 라디칼 R1이 E-형태로 이성체화하려는 현저한 경향, 예를 들면, 산 클로라이드로의 전환에서 밝혀졌다. 이어서, 일반식(X VII)의 7-아미노세팔로스포란산과 반응시킨 후에, 목적하는 일반식(X VIII)의 화합물이 수득되지는 않지만, 오히려 다음 일반식(X X I)의 화합물 또는 이 두화합물의 혼합물이 수득된다 :Many assays derived from conventional peptide chemistry are known in the cephalosporin chemistry for coupling carboxylic acids with 7-aminocephalosporins. However, these methods cannot form amide bonds between the Z-carboxylic acid of formula (X III) and the cephalosporranic acid of formula (X VII), especially when R 1 is an alkyl radical. Goes very low. The reason for this is that such a significant trend, for the general formula (X III) and then the carboxylic acid radical and R significant steric hindrance, the carboxyl functional group of the carboxyl group according to the first active in the radical R 1 to isomerisation to form E-, It was found in the conversion to acid chloride. Subsequently, after reacting with 7-aminocephalosporranic acid of the general formula (X VII), the desired compound of the general formula (X VIII) is not obtained, but rather the compound of the following general formula (XXI) or both compounds A mixture of is obtained:

Figure kpo00014
Figure kpo00014

상기식에서, R1, R2및 X는 상기에서 정의한 바와 같다.Wherein R 1 , R 2 and X are as defined above.

본 발명에서는 일반식(X III)의 Z-카복실산을 일반식(X VI)의 혼합된 무수물로 전환시키는, 상술한 바와 같은 단점없이 저온에서 간단하고 완만하며 저렴한 방법으로 활성화시킬 수 있음을 밝혀 내었다.The present invention has found that the Z-carboxylic acid of general formula (X III) can be activated in a simple, gentle and inexpensive manner at low temperatures without the drawbacks described above, which are converted to mixed anhydrides of general formula (X VI). .

전술한 바와 같이, 일반식(X VI)의 화합물은 신규하며 본 발명의 추가의 목적을 형성한다.As mentioned above, the compounds of general formula (X VI) are novel and form a further object of the present invention.

이들 화합물에서 R5가 임의로 치환된 알킬, 알케닐, 사이클로알킬, 사이클로알케닐, 아릴 또는 헤테로사이클릴 라디칼인 경우, R5는 할로겐, 알킬, 아릴, O-알킬, S-알킬, CN, 알콕시카보닐 및 니트로로부터 선택된 치환체에 의해 치환될 수 있다.When R 5 in these compounds is an optionally substituted alkyl, alkenyl, cycloalkyl, cycloalkenyl, aryl or heterocyclyl radical, R 5 is halogen, alkyl, aryl, O-alkyl, S-alkyl, CN, alkoxy It may be substituted by a substituent selected from carbonyl and nitro.

특히 바람직한 일반식(X VI)의 화합물은 R5가 불소, 염소, CN, 페닐, 알킬옥시카보닐, 알킬옥시 또는 알킬(이들 치환체중의 알킬그룹은 C1-4인 것이 바람직하다)에 의해 임의로 치환된 C1-10의 알킬 라디칼을 나타내거나, 불소, 염소, 브롬, CN, 알킬, 알킬옥시, 알킬티오 및 알킬옥시카보닐(이들 치환체중의 알킬그룹은 C1-4인 것이 바람직하다), 니트로, 트리플루오로메틸 및 페닐에 의해 임의로 치환된 페닐 라디칼을 나타내는 화합물이다.Particularly preferred compounds of formula (X VI) are those in which R 5 is fluorine, chlorine, CN, phenyl, alkyloxycarbonyl, alkyloxy or alkyl (preferably alkyl groups in these substituents are C 1-4 ). Or an optionally substituted C 1-10 alkyl radical, or fluorine, chlorine, bromine, CN, alkyl, alkyloxy, alkylthio and alkyloxycarbonyl (alkyl groups in these substituents are preferably C 1-4 ) ), Nitro, trifluoromethyl and phenyl radicals optionally substituted with phenyl.

R5를 치환하는 경우, 바람직하게는 전술된 1 내지 3개의 치환체가 존재하는 것이 바람직하다.When substituting R 5 , it is preferable that 1 to 3 substituents described above are preferably present.

특히 상당히 바람직한 일반식(X VI)의 화합물에서, R5는 메틸 또는 P-톨릴 라디칼을 나타낸다.In a particularly preferred compound of formula (X VI), R 5 represents a methyl or P-tolyl radical.

이러한 종류의 일반식(X VI)의 혼합된 무수물은 등몰량의 일반식(X III)의 카복실산 및 적합한 아민을 적합한 용매에 용해시키고, 이를 1 내지 1.05당량의 일반식(X V)의 설폰산 유도체와 반응시켜 제조하는 것이 바람직하다.Mixed anhydrides of this kind of formula (X VI) dissolve an equimolar amount of carboxylic acid of formula (X III) and a suitable amine in a suitable solvent, which is 1 to 1.05 equivalents of sulfonic acid derivative of formula (XV) It is preferable to prepare by reacting with.

본 발명에 적합한 용매는 반응 조건하에 안정한 모든 용매(예 : 디에틸 에테르, 테트라하이드로푸란, 아세토니트릴, 아세톤, 메틸렌 클로라이드, 클로로포름 또는 디메틸포름아미드)이다.Suitable solvents for the present invention are all solvents which are stable under the reaction conditions (eg diethyl ether, tetrahydrofuran, acetonitrile, acetone, methylene chloride, chloroform or dimethylformamide).

적합한 아민은 3급-아민(예 : 트리에틸아민 또는 트리부틸아민) 및 입체장애된 2급-아민(예 : 디이소프로필아민)이다.Suitable amines are tertiary-amines (eg triethylamine or tributylamine) and hindered secondary-amines (eg diisopropylamine).

반응을 -80℃ 내지 실온에서 수행할 수 있는데, 저온은 이중결합상에서 치환체의 이성체화를 방해한다. 유리하게는, 반응을 -20 내지 -50℃에서 10분내지 6시간 동안 수행한다.The reaction can be carried out at -80 ° C to room temperature, where low temperatures interfere with the isomerization of substituents on the double bond. Advantageously, the reaction is carried out at −20 to −50 ° C. for 10 minutes to 6 hours.

일반식(X VI)의 화합물은, 예를 들면, 용매로서 테트라이하이드로푸란을 사용하고 염기로서 트리에틸아민을 사용하여, 형성된 트리에틸아민 염산염을 흡입여과시키고, 용매를 진공중에서 증류시켜 분리할 수 있다. 그러나, 수득한 일반식(X VI) 화합물의 용액을 일반식(X VII)의 세팔로스포란산과 직접 반응시키는 것이 보다 유리하다. 이러한 목적을 위해서는, 일반식(X VII)의 세팔로스포란산을 2 내지 4당량의 아민과 함께 적합한 용매에 용해시키고, 용액을 목적하는 후속 반응 온도로 미리 냉각시킨 다음, 이 용액을 이 온도에서 전술한 일반식(X VI) 화합물의 용액에 가한다. 일반식(X VIII)의 반응 생성물에서 라디칼 R1의 이성체화를 방지하기 위해서는, 유리하게는 반응을 -60 내지 -30℃에서 수행하고 혼합물을 밤새 실온으로 방치한다.Compounds of formula (X VI) can be separated by suction filtration of triethylamine hydrochloride formed, for example using tetrahydrofuran as solvent and triethylamine as base, and distilling off the solvent in vacuo. have. However, it is more advantageous to directly react the obtained solution of the general formula (X VI) compound with cephalosporranic acid of the general formula (X VII). For this purpose, cephalosporranic acid of formula (X VII) is dissolved in a suitable solvent with 2 to 4 equivalents of amine, the solution is pre-cooled to the desired subsequent reaction temperature, and then the solution is brought to this temperature. To a solution of the general formula (X VI) compound described above. In order to prevent isomerization of the radicals R 1 in the reaction product of general formula (X VIII), the reaction is advantageously carried out at -60 to -30 ° C and the mixture is left at room temperature overnight.

일반식(X VI)의 화합물을 제조하기 위해 언급한 아민 및 용매를 사용하여 일반식(X VII)의 세팔로스포란산을 용해시킬 수 있다. 이러한 방법으로 만족스러운 농도의 일반식(X VII) 세팔로스포란산 용액을 수득할 수 없는 경우, 세팔로스포린 화학분야에서는 충분히 공지된 일반식(XVII) 화합물의 고용성 에스테르(예 : 실릴, 3급-부틸 또는 디페닐메틸 에스테르)를 사용할 수 있다는 것도 명백하다.The amines and solvents mentioned for preparing the compounds of formula (X VI) can be used to dissolve cephalosporonic acid of formula (X VII). If it is not possible to obtain a satisfactory concentration of the formula (X VII) cephalosporonic acid solution in this way, the solid solution esters of the general formula (XVII) compounds well known in the cephalosporin chemistry (eg silyl, 3 It is also apparent that tert-butyl or diphenylmethyl ester) can be used.

반응을 완결한 후, R1및 R2가 일반식(XVI)의 화합물에서 정의한 바와 같고, X는 세팔로스포린 치환체로서 적합한 그룹[예 : 수소, C1-4의 알킬, 할로겐, C1-4의 알콕시, 하이드록시메틸, 포르밀옥시메틸, (C1-4의 알킬)카보닐옥시메틸, 아미노카보닐옥시메틸, 피리디늄메틸, 4-카바모일피리디늄메틸 또는 헤테로 사이클릴티오메틸{여기서, "헤테로사이클릴"은 바람직하게는 다음 구조식.After completion of the reaction, R 1 and R 2 are as defined for compounds of general formula (XVI), X is a suitable group as cephalosporin substituent [e.g. hydrogen, alkyl of C 1-4 , halogen, C 1- 4 alkoxy, hydroxymethyl, formyloxymethyl, (C 1-4 alkyl) carbonyloxymethyl, aminocarbonyloxymethyl, pyridiniummethyl, 4-carbamoylpyridiniummethyl or heterocyclylthiomethyl { Here, "heterocyclyl" is preferably the following structural formula.

Figure kpo00015
Figure kpo00015

(이때, R6은 수소, 메틸, 2-디메틸아미노에틸, 카복시메틸 또는 설포메틸을 나타내고 ; R7은 수소 또는 메틸을 나타낸다)의 라디칼을 나타낸다}]을 나타내는 일반식(XVIII)의 화합물을 수득한다.Wherein R 6 represents hydrogen, methyl, 2-dimethylaminoethyl, carboxymethyl or sulfomethyl; R 7 represents hydrogen or methyl}} to obtain a compound of formula (XVIII) do.

바람직한 일반식(XVIII)의 화합물은 X가 수소, 염소, 메톡시, 하이드록시메틸, 아세틸옥시메틸, 아미노 카보닐옥시메틸, 피리디늄메틸,Preferred compounds of formula (XVIII) are those wherein X is hydrogen, chlorine, methoxy, hydroxymethyl, acetyloxymethyl, amino carbonyloxymethyl, pyridiniummethyl,

Figure kpo00016
Figure kpo00016

을 나타내는 화합물이다.It is a compound which represents.

R1및 X가 일반식(XVIII)의 화합물에서 정의한 바와 같은 일반식(I)의 화합물은 보호그룹 R2를 일반식(XVIII)의 화합물로부터 분리한 후에 수득한다. 이미 일반식(X)의 화합물에서 언급한 바와 같이, R2가 선택적으로 분리할 수도 있는 염기에 안정한 보호그룹[예 : (트리플루오로아세트산을 사용하여 분리하는) 3급-부틸옥시카보닐]인 경우, 일반식(X)의 화합물로부터 일반식(I)의 화합물을 제조하기 위한 완전한 반응순서를 직접 수행하는 것은 상당히 유리하다.Compounds of formula (I) wherein R 1 and X are as defined for compounds of formula (XVIII) are obtained after separation of protecting group R 2 from compounds of formula (XVIII). As already mentioned for compounds of general formula (X), a protecting group stable to the base where R 2 may optionally be separated [eg tert-butyloxycarbonyl (separated using trifluoroacetic acid)] In the case of, it is quite advantageous to directly carry out the complete reaction sequence for preparing the compound of formula (I) from the compound of formula (X).

본 발명에 따르는 방법 및 본 발명에 따르는 화합물의 제조방법을 다음 실시예로 설명한다.The process according to the invention and the preparation of the compound according to the invention are explained in the following examples.

[실시예 1]Example 1

에틸 2-3급-부톡시카보닐이미노-3-3급-부톡시카보닐-4-티아졸릴-4-일아세테이트Ethyl 2-3-butoxycarbonylimino-3-tert-butoxycarbonyl-4-thiazolyl-4-ylacetate

에틸 2-아미노티아졸-4-일아세테이트 186g(1몰), 디메틸 설폭사이드 300ml 및 98% 디-3급-부틸 피로카보네이트 500g(2.3몰)을 실온에서 7일간 교반한다. 빙수 3.5ι를 최대 20℃에서 빙냉시키면서 가하고, 혼합물을 30분간 교반한 후, 침전물을 흡입여과하고, 물 2ι로 세척한 다음, 메틸렌 클로라이드 2ι에 넣는다. 물을 분리하고, 메틸렌 클로라이드 상을 Na2SO4상에서 건조시킨 후, 회전 증발기로 농축시킨다. 수득한 오일을 (결정화가 시작되기 전에) 즉시 석유 에테르 2ι에 넣어 결정화한다.186 g (1 mol) of ethyl 2-aminothiazol-4-yl acetate, 300 ml of dimethyl sulfoxide and 500 g (2.3 mol) of 98% di-tert-butyl pyrocarbonate are stirred at room temperature for 7 days. Add 3.5ι of ice water with ice cooling at up to 20 ° C and stir the mixture for 30 min, then filter the precipitate by suction, wash with 2ι of water and then add to methylene chloride 2ι. The water is separated and the methylene chloride phase is dried over Na 2 SO 4 and then concentrated on a rotary evaporator. The oil obtained is immediately crystallized in petroleum ether 2ι (before crystallization begins).

수율 : 78%(302g)Yield: 78% (302 g)

융점 : 90℃Melting Point: 90 ℃

[실시예 2]Example 2

메틸 2-3급-부톡시카보닐-3-3급-부톡시카보닐-4-티아졸린-4-일아세테이트Methyl 2-3-butoxycarbonyl-3-tert-butoxycarbonyl-4-thiazolin-4-ylacetate

메틸 2-아미노티아졸-4-일아세테이트를 사용하여, 실시예 1과 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.Prepare the title compound in a similar manner to Example 1 using methyl 2-aminothiazol-4-ylacetate.

수율 : 67%Yield: 67%

융점 : 67 내지 69℃Melting Point: 67-69 ° C

[실시예 3]Example 3

에틸 2-에톡시카보닐이미노-3-에톡시카보닐-4-티아졸린-4-일아세테이트Ethyl 2-ethoxycarbonylimino-3-ethoxycarbonyl-4-thiazolin-4-ylacetate

에틸 2-아미노티아졸-4-일아세테이트 및 디에틸피로카보네이트를 사용하여, 실시예 1과 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.The title compound is prepared in a similar manner to Example 1 using ethyl 2-aminothiazol-4-ylacetate and diethylpyrocarbonate.

수율 : 71%Yield: 71%

융점 : 102℃Melting Point: 102 ℃

[실시예 4]Example 4

3급-부틸 2-3급-부톡시카보닐이미노-3-3급-부톡시카보닐-4-티아졸린-4-일아세테이트Tert-butyl 2-3 tert-butoxycarbonylimino-3-tert-butoxycarbonyl-4-thiazolin-4-ylacetate

3급 -부틸 2-아미노티아졸-4-일아세테이트 157g(0.5몰), 디메틸 설폭사이드 150ml 및 98% 디-3급-부틸 피로카보네이트 260g(1.2몰)을 실시예 1과 유사한 방법으로 반응시킨다.157 g (0.5 mol) of tert-butyl 2-aminothiazol-4-yl acetate, 150 ml of dimethyl sulfoxide and 260 g (1.2 mol) of 98% di-tert-butyl pyrocarbonate were reacted in a similar manner to Example 1 .

수율 : 62%Yield: 62%

[실시예 5]Example 5

트리메틸실릴에틸 2-아미노티아졸-4-일아세테이트Trimethylsilylethyl 2-aminothiazol-4-ylacetate

트리메틸실릴에탄올 11.2g(15.8ml, 0.1몰), 4-디메틸아미노피리딘 100mg 및 디사이클로헥실 카보디이미드 11.4g을 실온에서 아세토니트릴 50ml중의 2-아미노티아졸-4-일아세트산 7.9g(0.05몰)에 가하고, 혼합물을 2일간 교반한다. 그후 침전된 우레아를 흡입여과하고, 에테르로 세척한 후, 세척물을 회전 증발기로 농축시키고, 잔류물을 에테르에 넣은 다음, 에테르성 용액을 0.5N 염산 및 NaHCO3용액으로 세척하고, 이어서 MgSO4상에서 건조시킨 다음, 회전 증발기로 농축시킨다. 용액을 농축시키고, 석유 에테르를 가하면, 목적하는 에스테르가 결정화된다.7.9 g (0.05 mol) of 2-aminothiazol-4-ylacetic acid in 50 ml of acetonitrile at 11.2 g (15.8 ml, 0.1 mol) of trimethylsilylethanol, 100 mg of 4-dimethylaminopyridine and 11.4 g of dicyclohexyl carbodiimide at room temperature ) And the mixture is stirred for 2 days. The precipitated urea is then suction filtered, washed with ether, the concentrate is concentrated on a rotary evaporator, the residue is placed in ether, and the ethereal solution is washed with 0.5N hydrochloric acid and NaHCO 3 solution, followed by MgSO 4 Dry over phase and then concentrate on rotary evaporator. Concentrate the solution and add petroleum ether to crystallize the desired ester.

수득량 : 2.8gYield: 2.8 g

[실시예 6]Example 6

트리메틸실릴에틸 2-3급-부틸옥시카보닐아미노-3-3급-부톡시카보닐-4-티아졸린-4-일아세테이트Trimethylsilylethyl 2-3-butyloxycarbonylamino-3-tert-butoxycarbonyl-4-thiazolin-4-ylacetate

트리메틸실릴 2-아미노티아졸-4-일아세테이트를 사용하여, 실시예 1과 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.Using trimethylsilyl 2-aminothiazol-4-ylacetate, the title compound is prepared in a similar manner to Example 1.

수율 : 50%Yield: 50%

[실시예 7]Example 7

에틸 1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-2-3급-부톡시카보닐옥시프로판카복실레이트Ethyl 1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -2-tert-butoxycarbonyloxypropanecarboxylate

에틸 2-3급-부톡시카보닐이미노-3-3급-부톡시카보닐-4-티아졸린-4-일아세테이트 11.2g(0.03몰)을 무수테트라하이드로푸란 80ml에 용해시키고, 질소하에 -50내지 -60℃에서 n-헥산중 15% n-부틸리튬 용액 20ml(0.032밀리몰)를 가한 후, 아세트알데하이드 1.91ml(0.034몰)를 가한다. 혼합물을 -50 내지 -60℃에서 2시간 동안 교반한 후, 10% 시트르산 수용액 30ml를 가하고, 혼합물을 실온으로 가온한다. 후처리하기 위하여, 테트라하이드로푸란을 진공중 실온에서 증류하고, 잔류물을 메틸렌 클로라이드로 추출한 후, 유기 추출물을 Na2SO4상에서 건조시키고, 이어서 용매를 증류한다. NMR 및 TLC(사이클로헥산/에테르 1 : 1)에 따르는 부분입체 이성체의 혼합물인 오일 10.8g을 수득한다.11.2 g (0.03 mol) of ethyl 2-3-butoxycarbonylimino-3-tert-butoxycarbonyl-4-thiazolin-4-ylacetate was dissolved in 80 ml of anhydrous tetrahydrofuran and under nitrogen 20 ml (0.032 mmol) of a 15% n-butyllithium solution in n-hexane at −50 to −60 ° C. are added followed by 1.91 ml (0.034 mol) of acetaldehyde. After the mixture is stirred at -50 to -60 [deg.] C. for 2 hours, 30 ml of 10% aqueous citric acid solution is added and the mixture is allowed to warm to room temperature. For workup, tetrahydrofuran is distilled in vacuo at room temperature and the residue is extracted with methylene chloride, then the organic extract is dried over Na 2 SO 4 and then the solvent is distilled off. 10.8 g of an oil, which is a mixture of diastereomers according to NMR and TLC (cyclohexane / ether 1: 1), are obtained.

[실시예 8]Example 8

에틸 1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(E,Z)-프로펜카복실레이트Ethyl 1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (E, Z) -propenecarboxylate

혼합물을 실시예7에서 기술한 바와 같이 제조하되, 단 아세트알데하이드를 가한 후, 실온으로 가온하고, 밤새 교반한 다음, 실시예7에서 기술한 바와 같이 후처리한다. NMR 및 TLC(사이클로헥산/에테르 1 : 1, Z이성체가 더 높이 전개된다)에 따른 E/Z이성체의 약 1 : 1 혼합물인 오일 9.2g을 수득한다. 두 화합물은 실리카겔 60(유동상 : 사이클로헥산/에테르 1 : 1)상에서 분리할 수 있다.The mixture is prepared as described in Example 7, except that acetaldehyde is added, then warmed to room temperature, stirred overnight and then worked up as described in Example 7. 9.2 g of an oil is obtained, which is about a 1: 1 mixture of E / Z isomers according to NMR and TLC (cyclohexane / ether 1: 1, Z isomers develop higher). Both compounds can be separated on silica gel 60 (fluid phase: cyclohexane / ether 1: 1).

Z 이성체 :Z isomer:

1H-NMR(250MHZCDCI3) : δ=10.5(bs ; 1H,NH), 6.95(s ; 1H,S-CH), 6.88(q ; J=7HZ, 1H,CH-CH3), 4.35(q ; J=7HZ,2H,CH-CH3), 2.04(d ; J=7HZ,3H,CH-CH 3), 1.50(s ; 9H,C (CH3)3), 1.36(t ; J=7HZ;3H,CH2-CH 3) 1 H-NMR (250MH Z CDCI 3 ): δ = 10.5 (bs; 1H, NH), 6.95 (s; 1H, S-CH), 6.88 (q; J = 7H Z , 1H, C H -CH 3 ) , 4.35 (q; J = 7H Z , 2H, C H -CH 3 ), 2.04 (d; J = 7H Z , 3H, CH-C H 3 ), 1.50 (s; 9H, C (CH 3 ) 3 ) , 1.36 (t; J = 7H Z ; 3H, CH 2 -C H 3 )

E 이성체 :E isomers:

1H-NMR (250MHZ,CDCI3) : δ=10.5(bs ; 1H,NH), 7.22(q ; J=7HZ,1H,CH-CH3), 6.94(s ; 1H,S-CH), 4.19(q ; J=7HZ,2H,CH 2-CH3), 1.95(d ; J=7HZ,3H,CH-CH 3), 1.52(s ; 9H,C (CH3)3), 1.22(t ; J=7HZ,3H,CH2-CH 3). 1 H-NMR (250MH Z , CDCI 3 ): δ = 10.5 (bs; 1H, NH), 7.22 (q; J = 7H Z , 1H, C H -CH 3 ), 6.94 (s; 1H, S-CH ), 4.19 (q; J = 7H Z , 2H, C H 2 -CH 3 ), 1.95 (d; J = 7H Z , 3H, CH-C H 3 ), 1.52 (s; 9H, C (CH 3 ) 3 ), 1.22 (t; J = 7H Z , 3H, CH 2 -C H 3 ).

[실시예 9]Example 9

에틸 2-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-2-(E,Z)-벤질리덴아세테이트Ethyl 2- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -2- (E, Z) -benzylidene acetate

무수 테트라히아드로푸란 40ml중의 에틸 2-3급-부톡시카보닐이미노-3-3급-부톡시카보닐-4-티아졸린-4-일아세테이트 3.86g(0.01몰)을 -50℃로 냉각시키고, 칼륨 3급-부틸레이트 2.8g(0.024몰)을 가한 후, 용액이 완결될 때까지 혼합물을 교반하고, 이어서 벤즈알데하이드 1.11ml(0.012몰)를 가한다. 혼합물을 실온으로 가온하고, 밤새 교반한다. 후처리하기 위하여 2N HCI 약 12ml를 얼음중에서 냉각하면서 가하고, pH가 4 내지 5가 될 때까지 pH를 검사하고, 테트라하이드로푸란 및 3급-부탄올을 진공중에서 제거한 다음, 잔류물을메틸렌 클로라이드로 추출한다. Na2SO4상에서 건조시킨 후, 메틸렌 클로라이드를 진공중에서 제거한다. NMR 및 TLC (사이클로헥산/에테르 1 : 1)에 따르는 E/Z 이성체의 약 1 : 1 혼합물인 오일 3.1g을 수득한다.3.86 g (0.01 mol) of ethyl 2-3-butoxycarbonylimino-3-tert-butoxycarbonyl-4-thiazolin-4-ylacetate in 40 ml of anhydrous tetrahydrofuran to -50 ° C After cooling, 2.8 g (0.024 mol) of potassium tert-butylate are added, the mixture is stirred until the solution is complete, followed by 1.11 ml (0.012 mol) of benzaldehyde. Warm the mixture to room temperature and stir overnight. To work up, add about 12 ml of 2N HCI while cooling in ice, check the pH until the pH is 4-5, remove the tetrahydrofuran and tert-butanol in vacuo, and then extract the residue with methylene chloride. do. After drying over Na 2 SO 4 , methylene chloride is removed in vacuo. 3.1 g of oil is obtained, which is about a 1: 1 mixture of E / Z isomers according to NMR and TLC (cyclohexane / ether 1: 1).

[실시예 10]Example 10

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-프로펜카복실산1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -propenecarboxylic acid

에틸 2-3급-부톡시카보닐이미노-3-3급-부톡시카보닐-4-티아졸린-4-일아세테이트 56g (0.145몰) 및 무수테트라하이드로푸란 400ml를 질소하에 넣고, -60 내지 -50℃에서 15% 헥산 100ml중의 n-부틸리튬(0.16몰)을 적가한다. 그후 아세트알데하이드 9.55ml(0.17몰)를 즉시 가하고, 혼합물을 -60℃에서 10분 동안 교반한 후, 실온에서 밤새 교반한다.56 g (0.145 mol) of ethyl 2-3-butoxycarbonylimino-3-tert-butoxycarbonyl-4-thiazolin-4-ylacetate and 400 ml of anhydrous tetrahydrofuran were placed under nitrogen, -60 N-butyllithium (0.16 mol) in 100 ml of 15% hexane is added dropwise at -50 占 폚. 9.55 ml (0.17 mol) of acetaldehyde are then added immediately and the mixture is stirred at −60 ° C. for 10 minutes and then at room temperature overnight.

2N 수산화나트륨 용액 250ml를 가하고, 두 상의 혼합물을 실온에서 24시간 동안 격렬하게 교반한다. 테트라하이드로푸란을 진공중 실온에서 증류하고, 알칼리성 상을 매회 메틸렌 클로라이드 100ml로 2회 세척한다. 수성상을 pH 2내지 3으로 산성화하고, 추출한 후, 1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(E)-프로펜카복실산을 수득한다.250 ml of 2N sodium hydroxide solution are added and the mixture of the two phases is stirred vigorously for 24 hours at room temperature. Tetrahydrofuran is distilled in vacuo at room temperature and the alkaline phase is washed twice with 100 ml of methylene chloride each time. The aqueous phase is acidified to pH 2-3 and extracted, then 1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (E) -propenecarboxylic acid is obtained.

수율 : 51%(21.0g)Yield: 51% (21.0 g)

융점 : 195℃(아세토니틀릴로부터)Melting Point: 195 ° C (from Acetonitrile)

메틸렌 클로라이드 상을 진공중에서 농축시키고, 잔류물을 에탄올 250ml에 넣은 후, 2N 수산화나트륨 용액 250ml로 처리하고, 60℃에서 24시간 동안 가열한다.The methylene chloride phase is concentrated in vacuo, the residue is taken up in 250 ml of ethanol, treated with 250 ml of 2N sodium hydroxide solution and heated at 60 ° C. for 24 hours.

증류하여 에탄올을 제거한 후, 알칼리성 상을 메틸렌 클로라이드 100ml로 1회 추출하고, 추출물을 버린 다음, 알칼리성 상을 pH 2 내지 3으로 산성화하고, 목적하는 1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-프로펜카복실산을 메틸렌 클로라이드로 추출한다.After distillation removes ethanol, the alkaline phase is extracted once with 100 ml of methylene chloride, the extract is discarded, the alkaline phase is acidified to pH 2-3 and the desired 1- (2-tert-butoxycarbonylamino Thiazol-4-yl) -1 (Z) -propenecarboxylic acid is extracted with methylene chloride.

수율 : 20%(8.3g)Yield: 20% (8.3 g)

융점 : 183℃(아세토니트릴로부터)Melting Point: 183 ° C (from Acetonitrile)

[실시예 11]Example 11

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-부텐카복실산1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -butenecarboxylic acid

아세트알데하이드 대신에 프로판알을 사용하여, 실시예 10과 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.The title compound is prepared in a similar manner to Example 10, using propanal instead of acetaldehyde.

수율 : 17%Yield: 17%

융점 : 172℃(아세토니트릴로부터)Melting Point: 172 ° C (from Acetonitrile)

[실시예 12]Example 12

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-펜텐카복실산1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -pentenecarboxylic acid

아세트알데하이드 대신에 부탄알을 사용하여, 실시예 10과 유사한 방법으로 표제화합물을 제조한다.Using the butanal instead of acetaldehyde, the title compound is prepared in a similar manner to Example 10.

융점 : 162 내지 163℃(아세토니트릴로부터)Melting Point: 162 to 163 ° C (from acetonitrile)

[실시예 13]Example 13

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-헥센카복실산1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -hexenecarboxylic acid

아세트알데하이드 대신에 펜탄알을 사용하여, 실시예 10과 유사한 방법으로 표제화합물을 제조한다.Using the pentanal instead of acetaldehyde, the title compound is prepared in a similar manner as in Example 10.

융점 : 158℃(아세토니트릴로부터)Melting Point: 158 ° C (from Acetonitrile)

[실시예 14]Example 14

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-헵텐카복실산1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -heptenecarboxylic acid

아세트알데하이드 대신에 헥산알을 사용하여, 실시예 10과 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.Using the hexanal instead of acetaldehyde, the title compound is prepared in a similar manner as in Example 10.

융점 : 130 내지 131℃(아세토니트릴로부터)Melting point: 130 to 131 ° C. (from acetonitrile)

[실시예 15]Example 15

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-옥텐카복실산1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -octencarboxylic acid

아세트알데하이드 대신에 헵탄알을 사용하여, 실시예 10과 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.The title compound is prepared in a similar manner to Example 10, using heptanal instead of acetaldehyde.

융점 : 164℃(아세토니트릴로부터)Melting Point: 164 ° C (from Acetonitrile)

[실시예 16]Example 16

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-3-메틸-1(Z)-부텐카복실산1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -3-methyl-1 (Z) -butenecarboxylic acid

아세트알데하이드 대신에 이소부티르알데하이드를 사용하여, 실시예 10과 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.The title compound is prepared in a similar manner to Example 10, using isobutyraldehyde instead of acetaldehyde.

융점 : 169 내지 171℃(아세토니트릴로부터)Melting Point: 169 to 171 ° C (from acetonitrile)

[실시예 17]Example 17

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-4-메틸-1(Z)-펜텐카복실산1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -4-methyl-1 (Z) -pentenecarboxylic acid

아세트알데하이드 대신에 이소발레르알데하이드를 사용하여, 실시예 10과 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.The title compound is prepared in a similar manner to Example 10, using isovaleraldehyde instead of acetaldehyde.

융점 : 173℃(아세토니트릴로부터)Melting Point: 173 ° C (from Acetonitrile)

[실시예 18]Example 18

2-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-3-사이클로헥실-(Z)-아크릴산2- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -3-cyclohexyl- (Z) -acrylic acid

아세트알데하이드 대신에 사이클로헥실알데하이드를 사용하여, 실시예 10과 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.Using the cyclohexylaldehyde instead of acetaldehyde, the title compound is prepared in a similar manner as in Example 10.

융점 : 210℃보다 높음(아세토니트릴로부터)Melting point: higher than 210 ° C. (from acetonitrile)

[실시예 19]Example 19

2-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-4-페닐-1(Z)-부텐카복실산2- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -4-phenyl-1 (Z) -butenecarboxylic acid

아세트알데하이드 대신에 디하이드로신남알데하이드를 사용하여, 실시예 10과 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.The title compound is prepared in a similar manner to Example 10, using dihydrocinnamaldehyde in place of acetaldehyde.

융점 : 174℃(아세토니트릴로부터)Melting Point: 174 ° C (from acetonitrile)

[실시예 20]Example 20

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-프로펜카복실산1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -propenecarboxylic acid

무수 테트라하이드로푸란 800ml 중의 1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(E)-프로펜카복실산 122g(0.43몰)을 비스트리메틸실릴아세트아미드 129ml(0.52몰)로 처리하고, 혼합물을 실온에서 1시간 동안 교반 한다. 그후 -60℃로 냉각시키고, 98% 칼륨 3급-부틸레이트 200g(1.74몰)을 가한 다음, 실온으로 가온하고, 이어서 실온에서 밤새 교반한다.122 g (0.43 mol) of 1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (E) -propenecarboxylic acid in 800 ml of anhydrous tetrahydrofuran was dissolved in 129 ml (0.52 mol) of bistrimethylsilylacetamide. ) And the mixture is stirred at room temperature for 1 hour. It is then cooled to -60 [deg.] C. and 200 g (1.74 mol) of 98% potassium tert-butylate are added, then warmed to room temperature and then stirred at room temperature overnight.

후처리하기 위하여, 얼음속에서 냉각시켜서 물 100ml를 가하고, 2N HCI 약 900ml로 pH를 6 내지 8조로 조절한 후, 테트라하이드로푸란을 진공중에서 제거하고, 이어서 pH를 2 내지 3으로 조절한 다음, 혼합물을 메틸렌 클로라이드 300ml로 3회 추출한다. 추출물을 건조시키고, 회전 증발기로 농축한 후, 잔류물을 메탄올 700ml에 용해시킨다. 메탄올성 용액을 약염기성 이온 교환제 Lewatit MP 62를 함유하는 컬럼(2.5×80cm ; 400ml)속으로 10ml min의 속도로 통과시킨 후, 컬럼을 메탄올 2ι로 세척하고, 메탄올/2N 수산화나트륨(10 : 1)용액 1ι로 용출한다. 용출물을 농축한 후, 2N HCI로 pH 2 내지 3으로 산성화 하고, 메틸렌 클로라이드로 추출한다. Na2SO4상에서 건조시키고, 메틸렌 클로라이드를 증류하여 목적하는 Z-프로펜카복실산 50g(41%)을 수득한다. 메탄올 세척물을 증발시켜 컬럼으로부터 이성체화되지 않은 E-프로펜카복실산을 회수한다.To work up, cool in ice and add 100 ml of water, adjust the pH to 6 to 8 tanks with about 900 ml of 2N HCI, remove the tetrahydrofuran in vacuo, then adjust the pH to 2-3, The mixture is extracted three times with 300 ml of methylene chloride. The extract is dried, concentrated on a rotary evaporator, and the residue is dissolved in 700 ml of methanol. The methanolic solution was passed through a column (2.5 × 80 cm; 400 ml) containing the weakly basic ion exchanger Lewatit MP 62 at a rate of 10 ml min, then the column was washed with 2 m of methanol and methanol / 2N sodium hydroxide (10: 1) Elute with 1ι of solution. The eluate is concentrated, acidified to pH 2-3 with 2N HCI and extracted with methylene chloride. Dry over Na 2 SO 4 and methylene chloride is distilled to give 50 g (41%) of the desired Z-propenecarboxylic acid. The methanol wash is evaporated to recover unisomerized E-propenecarboxylic acid from the column.

[실시예 21]Example 21

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-펜텐카복실산1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -pentenecarboxylic acid

상응하는 E-펜텐카복실산을 실시예 20과 유사한 방법으로 이성체화시켜 표제 화합물을 제조한다.The corresponding E-pentenecarboxylic acid is isomerized in a similar manner to Example 20 to prepare the title compound.

수율 : 45%Yield: 45%

[실시예 22]Example 22

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-프로펜카복실 메탄설폰산 무수물1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -propenecarboxyl methanesulfonic anhydride

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-프로펜카복실산 1.42g(0.005몰) 및 트리에틸아민 0.76ml(0.0055몰)를 무수 테트라하이드로푸란 10ml에 용해시키고, -50℃로 냉각시킨다. 그후 메탄설포닐 클로라이드 0.40ml(0.0051몰)를 가하고, 혼합물을 -40 내지 -50℃에서 5시간 동안 교반한다. 트리에틸아민 염산염을 물을 제거하면서 흡입 여과하고, 테트라하이드로푸란을 진공중 -10℃에서 증류한다. 혼합된 무수물을 가온하여 E형태로 쉽게 이성체화되는 오일로서 수득한다.(NMR).1.42 g (0.005 mol) of 1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -propenecarboxylic acid and 0.76 ml (0.0055 mol) of triethylamine were dried with anhydrous tetrahydrofuran. Dissolve in 10 ml and cool to -50 ° C. 0.40 ml (0.0051 mol) of methanesulfonyl chloride is then added and the mixture is stirred at −40 to −50 ° C. for 5 hours. Triethylamine hydrochloride is suction filtered while removing water, and tetrahydrofuran is distilled at -10 ° C in vacuo. The mixed anhydride is warmed to give as an oil which is easily isomerized in E form. (NMR).

[실시예 23]Example 23

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-부텐카복실 p-톨루엔설폰산 무수물1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -butenecarboxyl p-toluenesulfonic anhydride

실시예 22와 유사한 방법으로 -20 내지 -30℃에서 적절한 Z-부텐카복실산 및 p-톨루엔설포닐 클로라이드를 사용하여 표제 화합물을 제조한다.The title compound is prepared using an appropriate Z-butenecarboxylic acid and p-toluenesulfonyl chloride at −20 to −30 ° C. in a similar manner as in Example 22.

[실시예 24]Example 24

7-[1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-프로펜카복스아미도]-3-아세톡시메틸-3-세펨-4-카복실산7- [1- (2-tert-Butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -propenecarboxamido] -3-acetoxymethyl-3-cepem-4-carboxylic acid

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-프로펜카복실산 1.42g(0.005몰) 및 트리에틸아민 0.76ml(0.0055몰)을 무수 메틸렌 클로라이드 20ml에 용해시키고, 혼합물을 -50℃로 냉각시킨 다음, 메탄설포닐 클로라이드 0.40ml(0.0051몰)를 가하고, 혼합물을 -50 내지 -40℃에서 5시간 동안 교반한다.1.42 g (0.005 mol) of 1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -propenecarboxylic acid and 0.76 ml (0.0055 mol) of triethylamine 20 ml of anhydrous methylene chloride Is dissolved in, the mixture is cooled to -50 ° C, then 0.40 ml (0.0051 mol) of methanesulfonyl chloride is added and the mixture is stirred at -50 to -40 ° C for 5 hours.

이어서 무수 메틸렌 클로라이드 20ml 중의 3-아세톡시메틸-7-아미노-3-세펨-4-카복실산 1.63g(0.006몰) 및 트리에틸아민 1.80ml(0.013몰)의, -50℃로 미리 냉각시킨 용액을 가하고, 혼합물을 실온으로 12시간 동안 가온한다.Then, a solution of 1.63 g (0.006 mol) of 3-acetoxymethyl-7-amino-3-cepem-4-carboxylic acid and 1.80 ml (0.013 mol) of triethylamine in 20 ml of anhydrous methylene chloride was precooled to −50 ° C. Add and warm the mixture to room temperature for 12 hours.

후처리하기 위하여, 혼합물을 H2O 10ml로 2회 세척하고, 메틸렌 클로라이드 상을 H2O 40ml로 보호한 후, 얼음중에서 교반 및 냉각하면서 1N HCI을 사용하여 pH 2 내지 3으로 산성화한다. 유기상을 분리하고, H2O상을 메틸렌 클로라이드 20ml로 2회 추출한 다음, 합한 메틸렌 클로라이드 상을 NaCI 포화 용액으로 세척하고, Na2SO4상에서 건조시킨 다음, 회전 증발기로 진공중에서 농축시킨다. 목적하는 세팔로스포린을 거의 정량적으로 수득한다.For workup, the mixture is washed twice with 10 ml of H 2 O, the methylene chloride phase is protected with 40 ml of H 2 O, and then acidified to pH 2-3 with 1N HCI with stirring and cooling in ice. The organic phase is separated and the H 2 O phase is extracted twice with 20 ml of methylene chloride, then the combined methylene chloride phases are washed with saturated NaCI solution, dried over Na 2 SO 4 and concentrated in vacuo on a rotary evaporator. The desired cephalosporin is obtained almost quantitatively.

[실시예 25]Example 25

7-[1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-프로펜카복스아미도[-3-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)티오메틸-3-세펨-4-카복실산7- [1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -propenecarboxamido [-3- (1-methyl-1H-tetrazol-5- Yl) thiomethyl-3-cepem-4-carboxylic acid

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-프로펜카복실산 및 7-아미노-3-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)티오메틸-3-세펨-4-카복실산을 사용하여, 실시예 24와 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -propenecarboxylic acid and 7-amino-3- (1-methyl-1H-tetrazol-5-yl) The title compound is prepared in a similar manner to Example 24 using thiomethyl-3-cepem-4-carboxylic acid.

수율 : 92%Yield: 92%

[실시예 26]Example 26

7-[1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-부텐카복스아미도]-3-아세톡시메틸-3-세펨-카복실산7- [1- (2-tert-Butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -butenecarboxamido] -3-acetoxymethyl-3-cepem-carboxylic acid

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-부텐카복실산 및 3-아세톡시메틸-7-아미노-3-세펨-4-카복실산을 사용하여, 실시예 24와 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.Using 1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -butenecarboxylic acid and 3-acetoxymethyl-7-amino-3-cepem-4-carboxylic acid, In the same manner as in Example 24, the title compound is prepared.

[실시예 27]Example 27

7[1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-부텐카복스아미도]-3-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)티오메틸-3-세펨-4-카복실산7 [1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -butenecarboxamido] -3- (1-methyl-1H-tetrazol-5-yl Thiomethyl-3-cepem-4-carboxylic acid

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-부텐카복실산 및 7-아미노-3-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)티오메틸-3-세펨-4-카복실산을 사용하여, 실시예 24와 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -butenecarboxylic acid and 7-amino-3- (1-methyl-1H-tetrazol-5-yl) thio Prepare the title compound in a similar manner to Example 24 using methyl-3-cepem-4-carboxylic acid.

수율 : 88%Yield: 88%

[실시예 28]Example 28

7-[1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-헵텐카복스아미도]-3-아세톡시메틸-3-세펨-4-카복실산7- [1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -heptencarboxamido] -3-acetoxymethyl-3-cepem-4-carboxylic acid

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-헵텐카복실산 및 3-아세톡시메틸-7-아미노-3-세펨-4-카복실산을 사용하여, 실시예 24와 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.Using 1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -heptenecarboxylic acid and 3-acetoxymethyl-7-amino-3-cepem-4-carboxylic acid, In the same manner as in Example 24, the title compound is prepared.

수율 : 90%Yield: 90%

[실시예 29]Example 29

7-[1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-헵텐카복스아미드]-3-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)티오메틸-3-세펨-4-카복실산7- [1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -heptencarboxamide] -3- (1-methyl-1H-tetrazol-5-yl Thiomethyl-3-cepem-4-carboxylic acid

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-헵텐카복실산 및 7-아미노-3-(1-메틸-1H-테트라졸-5-일)티오메틸-3-세펨-4-카복실산을 사용하여, 실시예 24와 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -heptencarboxylic acid and 7-amino-3- (1-methyl-1H-tetrazol-5-yl) thio Prepare the title compound in a similar manner to Example 24 using methyl-3-cepem-4-carboxylic acid.

수율 : 85%Yield: 85%

[실시예 30]Example 30

7-[1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-3-메틸-1(Z)-부텐카복스아미도]-3-아세톡시메틸-3-세펨-4-카복실산7- [1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -3-methyl-1 (Z) -butenecarboxamido] -3-acetoxymethyl-3-cepem- 4-carboxylic acid

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-3-메틸-1(Z)-부텐카복실산 및 3-아세톡시메틸-7-아미노-3-세펨-4-카복실산을 사용하여, 실시예 24와 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -3-methyl-1 (Z) -butenecarboxylic acid and 3-acetoxymethyl-7-amino-3-cepem-4-carboxylic acid Using to prepare the title compound in a similar manner to Example 24.

수율 : 93%Yield: 93%

[실시예 31]Example 31

7-[1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-4-페닐-1(Z)-부텐카복스아미도]-3-아세톡시메틸-3-세펨-4-카복실산7- [1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -4-phenyl-1 (Z) -butenecarboxamido] -3-acetoxymethyl-3-cepem- 4-carboxylic acid

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-4-페닐-1(Z)-부텐카복실산 및 3-아세톡시메틸-7-아미노-3-세펨-4-카복실산을 사용하여, 실시예 24와 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -4-phenyl-1 (Z) -butenecarboxylic acid and 3-acetoxymethyl-7-amino-3-cepem-4-carboxylic acid Using to prepare the title compound in a similar manner to Example 24.

수율 : 95%Yield: 95%

[실시예 32]Example 32

7-[1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-프로펜카복스아미도]-3-메틸-3-세펨-4-카복실산7- [1- (2-tert-Butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -propenecarboxamido] -3-methyl-3-cepem-4-carboxylic acid

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-프로펜카복실산 및 7-아미노-3-메틸-3-세펨-4-카복실산을 사용하여, 실시예 24와 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다. 단, 실시예 24와는 달리, 트리에틸아민 대신에 7-아미노-3-메틸-3-세펨-4-카복실산을 등몰량의 디이소프로필 아민과 함께 메틸렌 클로라이드에 용해시킨다.Implementation using 1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -propenecarboxylic acid and 7-amino-3-methyl-3-cepem-4-carboxylic acid In the same manner as in Example 24, the title compound is prepared. However, unlike Example 24, instead of triethylamine, 7-amino-3-methyl-3-cepem-4-carboxylic acid is dissolved in methylene chloride together with an equimolar amount of diisopropyl amine.

[실시예 33]Example 33

7-[1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-프로펜카복스아미도]-3-아미노카보닐옥시메틸-3-세펨-4-카복실산7- [1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -propenecarboxamido] -3-aminocarbonyloxymethyl-3-cepem-4- Carboxylic acid

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-프로펜카복실산 및 7-아미노-3-아미노카보닐옥시메틸-3-세펨-4-카복실산을 사용하여, 실시예 24와 유사한 방법으로 표제 화합물에 제조한다. 단, 실시예 24와는 달리, 7-아미노-3-아미노카보닐옥시메틸-3-세펨-4-카복실산을 트리에틸아민과 함께 메틸렌클로라이드에 용해시키지 않고, 등몰량의 디이소프로필아민과 함께 무수 디메틸포름아미드에 용해시키며, 수득한 용액은 메틸렌 클로라이드 중의 혼합된 카복실 설폰산 무수물에 가한다.1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -propenecarboxylic acid and 7-amino-3-aminocarbonyloxymethyl-3-cepem-4-carboxylic acid To give the title compound in a similar manner to Example 24. However, unlike Example 24, 7-amino-3-aminocarbonyloxymethyl-3-cepem-4-carboxylic acid is not dissolved in methylene chloride with triethylamine, but anhydrous with an equimolar amount of diisopropylamine. It is dissolved in dimethylformamide and the resulting solution is added to mixed carboxyl sulfonic anhydride in methylene chloride.

후처리하기 위하여, 혼합물을 진공중 0℃에서 증발시키고, 잔류물을 물에 가한 후, 메틸렌 클로라이드로 추출하고, 수성 상을 에틸 아세테이트로 보호한 다음, pH 2 내지 3으로 산성화한다. 생성물은 상 사이에 오일로서 분리된다.For workup, the mixture is evaporated in vacuo at 0 ° C., the residue is added to water, extracted with methylene chloride, the aqueous phase is protected with ethyl acetate and then acidified to pH 2-3. The product is separated as oil between phases.

[실시예 34]Example 34

디페닐메틸 7-[1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-프로펜카복스아미도]-3-세펨-4-카복실레이트Diphenylmethyl 7- [1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -propenecarboxamido] -3-cepem-4-carboxylate

1-(2-3급-부톡시카보닐아미노티아졸-4-일)-1(Z)-프로펜카복실산 및 디페닐메틸 7-아미노-3-세펨-4-카복실레이트를 사용하여, 실시예 24와 유사한 방법으로 표제 화합물을 제조한다.Carried out using 1- (2-tert-butoxycarbonylaminothiazol-4-yl) -1 (Z) -propenecarboxylic acid and diphenylmethyl 7-amino-3-cepem-4-carboxylate In the same manner as in Example 24, the title compound is prepared.

수율 : 93%Yield: 93%

[실시예 35]Example 35

7-[1-(2-아미노티아졸-4-일)-1(Z)-프로펜카복스아미도]-3-아세톡시메틸-3-세펨-4-카복실산 트리플루오로아세트산 10ml를 실시예 24에서 수득한 Boc-보호된 세팔로스포린에 가하고, 혼합물을 실온에서 30분간 교반한다. 그후 트리플루오로아세트산을 진공중 실온에서 제거하고, 잔류물을 메탄올/물(10 : 1) 20ml로 처리한 후, pH 6 내지 7에서 투명한 용액이 수득될 때까지 10% NaHCO3용액으로 처리한다. 그후 1N HCI을 사용하여 pH 3으로 서서히 조절하고, 메탄올을 진공중에서 서서히 제거한 후, 필요할 경우, 다시 pH 3으로 조절한다. 침전된 생성물을 흡입여과한다.Example 10 ml of 7- [1- (2-aminothiazol-4-yl) -1 (Z) -propenecarboxamido] -3-acetoxymethyl-3-cepem-4-carboxylic acid trifluoroacetic acid To the Boc-protected cephalosporin obtained at 24, the mixture is stirred for 30 minutes at room temperature. Trifluoroacetic acid is then removed in vacuo at room temperature and the residue is treated with 20 ml of methanol / water (10: 1) and then with 10% NaHCO 3 solution until a clear solution is obtained at pH 6-7. . Then adjust slowly to pH 3 with 1N HCI, remove methanol slowly in vacuo and adjust again to pH 3 if necessary. The precipitated product is filtered off by suction.

수율 : 70%Yield: 70%

[실시예 36 내지 44][Examples 36 to 44]

실시예 25 내지 34에서 제조한 세팔로스포린을 실시예 35와 유사한 방법으로탈보호한다.The cephalosporins prepared in Examples 25-34 are deprotected in a similar manner as in Example 35.

수율 : 50 내지 90%Yield: 50 to 90%

Claims (1)

(a) 다음 일반식(IX)의 화합물을 다음 일반식(IXa)의 피로카본산 에스테르와 반응시키고 ; (b) 수득한 다음 일반식(X)의 생성물로 적합한 염기와 반응시킨 다음, 일반식 R1-CHO의 알데하이드와 반응시켜 다음 일반식(X I)의 화합물을 수득하고, ; (c) 수득한 다음 일반식(X I)의 화합물을 염기와 반응시켜 다음 일반식(X II)의 화합물을 수득하고 ; (d) 수득한 다음 일반식 (X II)의 화합물로부터 Z 및 E 이성체를 분리하고, 이어서 비누화시키거나 선택적으로 비누화시켜 다음 일반식(XIII)의 Z-산을 수득하고 ; (e) 수득한 다음 일반식(XIII)의 Z-산을 다음 일반식(X V)의 화합물과 반응시켜 다음 일반식(X VI)의 화합물을 수득하고 ; (f) 수득한 다음 일반식(X VI)의 화합물을 다음 일반식(X VII)의 세팔로스포란산과 커플링시키고 ; (g) 보호그룹 R2를 분리시킴을 특징으로 하여, 다음 일반식(I)의 화합물을 제조하는 방법.(a) reacting a compound of formula (IX) with a pyrocarboxylic acid ester of formula (IXa); (b) reacted with a suitable base with the product of formula (X) obtained and then with an aldehyde of formula R 1 -CHO to afford the compound of formula (XI); (c) obtained, and then reacting the compound of formula (XI) with a base to give a compound of formula (X II); (d) the Z and E isomers obtained are then separated from the compounds of general formula (X II) and then saponified or optionally saponified to give the Z-acids of the following general formula (XIII); (e) reacting the Z-acid of formula (XIII) with the compound of formula (XV) to afford the compound of formula (XVI); (f) the following obtained compound of formula (X VI) is coupled with cephalosporranic acid of formula (X VII); (g) A process for preparing a compound of formula (I) characterized by separating protective group R 2 .
Figure kpo00017
Figure kpo00017
Figure kpo00018
Figure kpo00018
상기식에서, R1은 저급 알킬 또는 치환되거나 비치환된 페닐이고 ; R2는 알콕시카보닐이며 ; R3은 저급 알킬이고 ; R4는 저급 알킬 또는 트리알킬실릴알킬이며 ; R5는 저급 알킬 또는 치환되거나 비치환된 아릴이고 ; Z는 염소원자, 브롬원자 또는 -O-SO2-R5이며 ; X는 아세톡시알킬, 저급 알킬, 아미노카보닐옥시알킬, 디아릴알릴 또는 치환되거나 비치환된 테트라졸티오알킬이다.Wherein R 1 is lower alkyl or substituted or unsubstituted phenyl; R 2 is alkoxycarbonyl; R 3 is lower alkyl; R 4 is lower alkyl or trialkylsilylalkyl; R 5 is lower alkyl or substituted or unsubstituted aryl; Z is chlorine atom, bromine atom or -O-SO 2 -R 5 ; X is acetoxyalkyl, lower alkyl, aminocarbonyloxyalkyl, diarylallyl or substituted or unsubstituted tetrazolthioalkyl.
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