KR870007448A - 대비증강충의 형성방법 - Google Patents

대비증강충의 형성방법 Download PDF

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KR870007448A
KR870007448A KR870000442A KR870000442A KR870007448A KR 870007448 A KR870007448 A KR 870007448A KR 870000442 A KR870000442 A KR 870000442A KR 870000442 A KR870000442 A KR 870000442A KR 870007448 A KR870007448 A KR 870007448A
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acid
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forming
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low boiling
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KR870000442A
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Inventor
쇼이찌 우찌노
다꾸미 우에노
다까오 이와야나기
세이이찌로 시라이
노보루 모리우찌
Original Assignee
미따 가쯔시게
가부시기 가이샤 히다찌 세이사구쇼
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/52Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
    • G03C1/54Diazonium salts or diazo anhydrides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

대비증강충의 형성방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (4)

  1. 감광성 내식막상에 대비증강층을 형성하는 방법에 있어서, 수용성 중합체와 디아조늄화합물과 저비등점의 산으로 이루어진 용액을 감광성 내식막상에 도포한 후, 소성에 의하여 상기산을 제거하는 것을 특징으로 하는 대비증강층의 형성방법.
  2. 제1항에 있어서, 저비등점의 산이비등점 180℃ 이하인 산인 대비증강층의 형성방법.
  3. 제1항에 있어서, 저비등점의 산이수용성인 유기산인 대비증강층의 형성방법.
  4. 제1항에 있어서, 디아조늄화합물이 방향족 디아조늄화합물인 대비증강층의 형성방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR870000442A 1986-01-28 1987-01-21 대비증강충의 형성방법 KR870007448A (ko)

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JP61-14638 1986-01-28
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