KR870002135B1 - 기록 광비임 촛점 상태 모니터 방법 및 장치 - Google Patents

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디스커비젼 어소시에이츠
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Abstract

내용 없음.

Description

기록 광비임 촛점 상태 모니터 방법 및 장치
제1도는 레이저 광원과 비데오 디스크 사이의 전체 광로를 나타내는 본 발명 장치의 개략도.
제2도는 비데오 디스크 플레이어에 설치된 종래 기술의 포커싱 기구의 광학 장치를 나타내는 도면.
제3 및 제3a도는 레이저 광원의 작동원리를 나타내며 또한 장치내 평면파를 위한 2개의 가능한 위치들을 나타내는, 각각 반구형 및 공촛점 레이저 캐비티 공진기들을 나타내는 도면.
제4도는 광비임 모듈레이터의 출구단부에서 감지된 기록 광비임의 촛점 상태를 모니터하는 본 발명의 광학적 원리를 나타내는 도면.
제5도는 비데오 모니터에서의 디스플레이를 위한 포토셀매트릭스의 출력을 처리하는데 사용될 수 있는 전자장치의 블록도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
2 : 레이저 광원 4, 6 : 단부판
5 : 평면파 10 : 광비임 모듈레이터
14 : 포켈스 셀(Pockels cell) 20 : 글랜프리즘(Glan prism)
30 : 사분의 일 파장판 34 : 발산렌즈
45 : 대물렌즈 49 : 포토레지스트 층
50 : 비데오 디스크 60 : 트랜스듀서
본 발명은 기록 매체의 기록 표면상에의 정보기록에 관한 것으로, 더 구체적으로는, 기록매체의 기록표면에 부딪치는 기록광비임의 촛점 상태를 모니터하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다.
비데오 디스크 플레이어에 의해 비데오 디스크로부터 이미 기록된 정보를 재생하는데 사용되는 광 비임의 촛점 상태를 모니터하기 위한 시스템들이 잘 알려져 있다. 종래 기술에서, 레이저 광원으로부터의 클리메이트(collimate)된 판독 광비임은 대물렌즈의 입구 구경을 완전히 채우도록 그 광비임을 성형하는데 이용되는 발산 렌즈를 통과하며, 그 광비임이 상기 대물렌즈에 의해 비데오 디스크의 표면상에 집중된다. 디스크가 회전할때, 디스크의 트랙을 따라 있는 홈들(pit) 또는 융기부들(bump)이 반사광비임의 강도를 변조하고, 그 반사광비임은 입사광 비임 통로의 일부분을 따라 주행한 후 편광기(편광입방체)에 도달하며, 그 편광기가 반사광비임을 입사광비임의 광로의 밖으로 전환시켜 광검출기상에 집중시킨다. 광검출기 상에 집중된 광비임의 강도가 변할때, 비데오디스크상에 기록된 정보는 전기적인 임펄스들로 변환되며, 그 임펄스들은 일련의 전자적인 처리를 통하여, 기록된 프로그램의 비데오 및 오디오 부분들을 발생한다.
전술한 플레이어 구조에서, 반사광비임은 입사광비임이 발산하는 지역에서 입사 및 광 비임통로로부터 분리된다. 그리하여, 입사광비임의 발산부분에 배치된 편광기로 들어가는 반사광비임은 광검출기 쪽으로 전환되는 집중 광 비임을 형성한다. 그러한 시스템에 포함된 광학 장치들을 분석하는 데 있어서, 발산렌즈에 의해 원추형 비임이 형성되는 사실에 의해 1쌍의 공액점들이 형성되며, 그 공액점들중 하나는 비데오 디스크의 표면에 그리고 다른 하나는 광검출기상의 촛점지점에 형성된다. 그리하여, 편광기로부터 분리된 광은, 디스크상의 집중된 스폿트와 일치하는 광검출기상의 집중된 스폿트를 형성한다. 물론, 광비임이 디스크에 부딪칠때 촛점에서 벗어나면, 광검출기에 의해 검출된 신호의 강도가 작게된다. 따라서, 최적의 촛점 및 신호 회수는 광검출기에서 나타나는 신호 수준을 모니터하고, 최대신호가 회수될 때까지, 디스크상에 광비임을 집중시키는 대물렌즈를 조정하고, 신호가 다시 최대로 될때까지, 편광기와 광검출기사이 간격을 조정함에 의해 얻어질 수 있다. 최적의 작동점에서, 광로의 공액점들은 디스크의 표면과 광검출기에서 동시에 촛점을 이룬다.
플레이어에 있어서, 적절한 촛점을 유지하는 가장 일반적인 수단은 광검출기에서 발생된 신호의 강도를 연속적으로 모니터하고, 회수된 신호가 최대로 될때까지 서어보 제어 루우프를 통하여 판독광비임의 축을 따라 대물렌즈를 구동시키는 것이다.
비데오 디스크 플레이어에서 촛점을 모니터 및 유지하는 또다른 수단은, 원형으로 균일하게 발산하는 반사광비임을 원통형렌즈에 통과시키고, 그리하여 사지탈(sagital) 평면에서의 발산은 변하지 않게 하면서 기초평면에 따른 발산을 증가시키는 것으로 이루어져 있다. 다음, 그 광비임은 1쌍의 수직으로 정렬된 센서와 1쌍의 수평으로 정렬된 센서를 포함하는 4개의 광센서들에 의해 직각으로 둘러싸인 통로를 통과한다. 그리하여 그 광비임은, 그 광비임이 기초 촛점으로부터 사지탈촛점으로 변하여 원형의 비임형상을 형성하고 수평 및 수직 센서들로부터의 출력을 동일하게 하는 위치에서 그 광비임을 따라 직각으로 배치된 4개의 센서들을 조명한다. 디스크 표면의 공액점의 위치에 따라, 광검출기에서의 비임형상은 수평 타원형으로부터 수직 타원형으로 변한다. 수평 센서 쌍과 수직 센서쌍 사이의 신호차를 전자적으로 모니터함에 의해, 촛점 에러신호가 어떤 차이를 상쇄시키는데 효과적인 위치로 대물렌즈를 복귀시키고 비임을 원형으로 복귀시키도록 발생될 수 있다.
광비임의 촛점을 유지하는 상기 모든 형태의 수단은, 반사된 판독 광비임이 광검출기쪽으로 집중할 때 그 광비임의 상태에 응하여 작동함에 의해 전술한 바와 같이 작용한다. 또한, 플레이어 장치들에 이용되는 공지의 전기-광 학적 촛점 모니터 및 제어 시스템들의 대부분은 대물렌즈의 긴콘쥬게이트(conjugate)에 배치된다. 이것은 비임 스플리터(비임 분할 입방체)를 사용함에 의해 가능하게 된다. 종래기술의 촛점 검출기 및 모니터는 대물렌즈의 긴 콘쥬게이트의 발산변동을 분석하여 주지의 광학 법칙으로 나타내어지는 바와같이 대물렌즈의 짧은 콘쥬게이트의 길이를 추론함에 의해 효과적으로 작용한다.
종래기술의 촛점 검출기 및 모니터의 유효도의 또 다른 인자는 대부분, 판독 광비임이 비데오 디스크에 부딪힌 후 그 비데오디스크로부터 회수되는 신호의 강도이다. 비데오 디스크의 높은 반사성의 정보 수용 금속화 표면이 높은 백분율의 반사광을 발생시키고, 그러한 반사광에서 광검출기 및 포커싱 장치들이 신뢰성있게 작동 할 수 있다.
본 발명은 기록 또는 마스터링(mastering) 장치의 촛점상태를 모니터하는 것에 관한 것이기 때문에, 전술한 디스크 플레이어에서와 동일한 비임통로에 따른 위치에 편광기를 사용하는 것을 방해하는 여러가지 인자들이 있다. 먼저, 기록장치는 플레이어의 판독 광비임의 1밀리왓트 출력과 비교하여 100밀리왓트의 아르곤 이온 레이저 튜브와 같은 고출력의 광원을 사용하는 것을 포함한다. 따라서, 기록 광비임의 발산부분에, 즉, 대물렌즈의 바로앞에 편광기 및 필요한 사분의 일 파장판을 설치하는 것은, 어떤 광학장치를 통하여 광비임을 통과시킨후 기대되고 비데오 디스크 마스터링에 요구되는 큰 개구수에 의해 악화될수 있고 편광기의 전달 효율에 기인하여 기록 레이저의 유용한 작동 수명을 감소시키는 구면 수차(spherical aberration)과 같은 어떤 광학수차 및 왜곡을 발생시킬 수 있다.
발산하는 판독광비임 통로에 비임 스플리터를 배치함에 의해 발생되는 구면 수차의 단점이 인식되어 왔고, 종래기술에서는 보통의 160 또는 180mm의 긴 콘쥬게이트보다는 무한히 긴 콘쥬게이트의 대물렌즈를 사용함에 의해 극복되었다. 그러나, 그러한 구조에서는, 첫째로 물체를 조명하기 위해 넓은 콜리메이트된 비임을 발생시키고, 둘째로 전환된 복귀비임을 집중형태로 촛점 모니터 장치에 집중시키기 위해 보다 많은 소자들이 사용된다.
더우기, 기록 광비임이 부딪치는 디스크 표면이 금속화 되어 있지 않고 투명한 감광성 화합물로 피복되어 있기 때문에, 그 디스크 표면은 사실상 투과성이어서 어떤 가능한 반사 광에너지의 사용이 어렵게된다.
마지막으로, 마스터링 장치의 제조에 비용이 필히 큰 인자가 아닐지라도, 부가적인 부품들이 필요하고 따라서 복잡성이 부수되며, 부가적인 광학 부품들의 조립, 배열 및 유지에 많은 시간이 더 요구되어야 한다.
상기와 같은 문제들 때문에, 기록 레이저 디스크의 종래기술에서는, 일련의 시험 디스크들을 제조하고 출력 및 촛점과 같은 각종 광학적 파라메터들을 위한 설정치들의 특정조합에 상응하는 각 시험 디스크 또는 그 디스크의 부분을 재생 시킴에 의해 촛점에 영향을 끼치는 각종 광학 소자들을 위한 최적포커싱 위치를 주기적으로 측정하는 것이 일반적인 실시 방식이었다. 높은 질의 재생 가능한 신호를 갖는 데오디스크 또는 그의 부분을 찾아낸 후, 그러한 높은 질의 기록된 프로그램을 발생시키는 광학장치들의 각종 조건 및 위치들을 나타내는 로그(log)가 광학 장치들을 그러한 조건정치로 복귀시키는데 참조된다. 그리하여, 시간이 많이 소요되고 예상될 수는 없을 지라도, 허용가능한 촛점 상태가 달성된다. 그러나, 허용가능한 촛점 상태를 달성하는데 필요한 경험적인 조건들은 마스터링 장치의 정지시간에 기인한 비데오 디스크 생산 감소 뿐만 아니라 최적의 촛점 조건을 설정 및 결정하는데 포함되는 작업시간에 기인하여 많은 비용을 수반한다.
따라서, 광학장치들을 반복적으로 최적 조건으로 신속히 설정하고 촛점 상태를 연속적으로 모니터할 수 있는 것이 본 기술에 요구된다.
본 발명은 마스터링 장치의 적절한 촛점을 달성하기 위한 전술한 종래기술의 모든 단점들을 극복하고, 기록 장치의 발산하는 기록 광비임 통로에 별도의 편광기 및 사분의 일 파장판을 설치하는데 있어서의 전술한 단점들을 제거한다.
종래기술의 디스크 플에이어의 촛점 모니터 시스템의 설명과 관련하여 언급된 바와 같이, 촛점 상태는 모니터 장치가 광학 시스템의 공액점에 있든 또는 그 공액점들 사이에 있든 모니터될 수 있다. 즉, 원추형으로된 광비임이 차단될때, 공액점들중 하나에서의 촛점상태가 발산 또는 집중 광 비임의 차단된 부분의 형상 및 (또는) 크기의 변동을 측정함에 의해 모니터될 수 있다. 광 비임이 콜리메이트된 형태일 때, 즉 그광비임이 평행한 평면의 광원으로 부터 나올때, 광로에 있는 광학소자들중 어느 하나의 운동이 동일크기 및 형태의 광 비임을 차단하고 그로부터 정보가 얻어질 수 없게 된다. 레이저 광원으로 부터의 광비임은 평행하고 평면 형상이라는 것은 일반적인 지식으로 되어 있고, 그리하여 발산렌즈 및 대물렌즈를 2번 통과한 후의 광비임의 어떤 촛점상태로 콜리메이트된 광 비임 부분이 기록 광비임 스폿트의 촛점 정보를 위한 소오스(source)를 제공할 수 있는 동력원으로 부터 하류에 있게 되는 것이 기대되지 않는다.
광 비임의 상류의 콜리메이트된 부분의 촛점 정보를 추출하는 어려움이 인식되었으나, 종래의 기술은 비임 스플리터 다음 에릴레 이렌즈들을 배치하여 그 비임을 집중시키고 그리하여 긴콘쥬게이트의 특징들을 개조함에 의해 그러한 어려움을 극복하였다.
본 발명은, 모든 실시상의 목적을 위해 레이저 장치로 부터의 광 비임의 콜리메이트 될지라도, 실제로 그 광비임은, 비임허리부분의 레이저 공명 거울들사이에 존재하는 가우스 강도 프로필 평면파의 회절에 기인하여 그리고 출력광이 출력 거울의 두께를 가로지를 때의 굴절에 기인하여 레이저로부터 나올때 매우 약간 발산된다는 사실에 따라 작용한다. 따라서, 레이저 튜브에서 나오는 광 비임이 약간 발산하기 때문에, 비데오 디스크로부터 반사된 광은 작은 강도일지라도, 그가 발산렌즈를 통하여 역방향으로 레이저 장치의 출력부쪽으로 통과하고 소오스 평면파의 실상(real image) (즉, 레이저 튜브내 비임 허리부분에서의 평면파의 상)을 형성하는 공액점을 지날때 역으로 (시스템이 촛점 맞음 상태에 있을때) 집중한다. 그리하여 릴레이 렌즈의 필요성이 제거된다.
본 발명은 공액점에서의 소오스 평면파의 실상을 모니터함에 의해 기록 광비임의 촛점 상태를 모니터하도록 모듈레이터의 출구단부에서의 입사광비임 및 반사광비임의 약간의 발산 및 집중을 사용한다.
본 발명의 또다른 목적은 기록광비임 통로에 부가적인 광학소자들을 추가함이 없이 전술한 촛점 모니터 특성들을 제공하는데 있다.
본 발명을 첨부도면을 참조하여 이하 상세히 설명한다.
제1도는 본 발명에 따른 촛점 모니터 시스템에 포함된 기본 소자들을 개략적으로 나타낸 것이다. 제1도에 도시된 광비임 통로의 부분들의 길이는 비데오디스크 마스터링 장치에서의 광로의 실제 길이를 나타내는 것이 아니다. 그러나, 본 발명에 포함된 원리들이 적절히 도시되어 있고, 본 출원서의 도면들에 도시된 광로들의 실제 크기의 길이 및 각도들로 부터의 어떤 차이는 설명 및 분석을 용이하게 하기 위한 것이다.
기록 광비임을 발생시키기 위해 고강도 광원(2), 바람직하게는 아르곤 이온 레이저가 이용된다. 포켈스 셀(Pockels cell) (14)및 글랜(Glan) 프리즘(20)이 비데오 정보를 가진 레이저 비임을 변조하여 라인(16)상에 입력 변조신호를 형성하는 모듈레이터(10)을 구성한다. 알려진 바와 같이, 포켈스 셀(14)은 광 비임(18)의 편광면을 회전시킴에 의해 부여된 비데오 신호에 감응한다. 선형 편광기가 미리정해진 편광면의 광만을 전달하기 때문에, 글랜 프리즘(20) 형태의 편광기가 기록 광 비임통로에 선치되어 변조된 기록 광비임(26)을 제공한다. 도시된 바와 같이, 레이저광원(2)로부터의 광 비임(8)은 모듈레이터(10)의 구멍(12)로 들어가고 구멍(24)로부터 나와 제1 거울(28)에 부딪친다. 그 제1 거울(28)은 기록 광 비임(26)을 사분이 일파장판(30)에 통과시키며, 그 파장판(30)은 선형으로 편광된 광을 원형으로 편광된 광으로 전화시킨다. 그 원형으로 편광된 광 비임(36)은 제2거울(32)에 의해 발산렌즈(34)쪽으로 전환된다.
레이저 광원(2)에서 나온 광 비임은 콜리메이트되고, 이제까지 설명된 광학 소자들 어느 것도 그 광비임의 콜리메이트된 성질에 어떤 영향을 끼치지 않음이 인식될 것이다. 즉, 레이저 광원(2)로 부터의 광 비임은 사실상 평면 형상이고 평행한 것으로 가정할때, 포켈스 셀(14), 글랜 프리즘(20), 거울들(28) 및 (32), 또는 사분의 일 파장판(30)중 어느 것도 그 광비임의 평행한 또는 평면 형상의 성질에 영향을 끼치지 않는다.
그러나, 발산 렌즈(34)는 그 광비임의 평면성질을 변경시키고, 그 광비임이 집중하는 원추형 부분(38), 허리부분(41) 및 발산하는 원추형 부분(39, 42)를 가지게 한다. 상기 원추형 부분(42)는 거울(40)에 의해 전향된 상기 원추형 부분(38)의 연속부이다. 최적의 해상도를 위해, 발산렌즈(34)의 광학특성 및 선택된 광로의 길이는 기록 광비임의 원추형 부분(42)가 대물렌즈(45)를 포함하는 대물렌즈 조립체(44)의 입구 구경을 사실상 채우도록 정해진다. 대물렌즈(45)는 스핀들(52)에 장착된 비데오 디스크(50)의 기록표면(48)상의 촛점(47)로 큰 각도로 집중하는 비임부분(46)을 형성한다.
본 기술에 일반적으로 알려진 바와 같이, 비데오 디스크 마스터링장치에서, 기록 광비임은 포토레지스트(photoresist) 층(49)상에 0.6미크론정도의 스폿트로 촛점을 이룬다. 그리하여, 주파수 변조된 형태의 입력 변조 비데오 신호에 의해 변조된 광 비임은 변조된 광 비임에 의해 비데오 디스크의 표면으로 전달된다. 그 변조된 광비임은 변조된 비데오 신호에 상응하여 상기 포토레지스트층을 직접 노출시키고, 그리하여 포지티브 포토레지스트층이 사용될 때 그 포토레지스트 층의 추후의 현상시 노출지역에 홈들을 형성하게된다. 그러나, 투명한 포토레지스트층이 그의 물리적인 구성에서 사실상 변경되지 않기 때문에, 입사광비임의 적은 양만이 기록 표면으로부터 대물렌즈(45), 발산렌즈(34), 사분의 일 파장판(30)을 통하여 글랜프리즘(20)의 프리즘 표면(22)상으로 반사된다. 입사광의 대략 1-2%가 포토레지스트층으로 부터 반사되고, 100밀리왓트의 레이저 광원(2)의 경우 대략 0.5밀리왓트의 광 에너지가 글랜프리즘(20)에서 모듈레이터(10)의 구멍(25)를 통해 나온다. 그 반사된 광 비임(54)는 거울(56)에 의해 트랜스듀서(60)으로 향하게되고, 그 트랜스듀서가 케이블(58)에 출력신호를 발생한다. 그 신호의 사용 및 처리는 후술될 것이다. 그러나, 제1도로부터, 트랜스듀서(60)의 출력은 2개의 기능설비들, 즉 비데오 인코우더(66)과 비데오 모니터(68)로 이루어진 설비와, 촛점 서어보 증폭기(62)와 대물렌즈 구동기(64)로 이루어진 설비중 하나 또는 양자모두에 사용될 수 있음을 알 수 있다. 즉, 트랜스듀서(60)의 출력은 비데오 모니터(68)상의 디스플레이를 위해 비데오 인코우더(66)에서 비데오 인코우드될 수 있거나, 또는 포토레지스 트상(49)의 기록광 비임의 촛점을 자동적으로 유지하도록 대물렌즈 구동기(64)를 구동시키기 위해 촛점서어보 증폭기(62)에서 처리될 수 있다.
제1도의 상기 분석으로부터 여러가지가 목격될 수 있다. 첫째, 비임들(8, 18, 26 및 36)을 나타내는 단인의 선은 그들의 통로 부분을 따르는 광 비임이 간섭성의 콜리메이트된 형태로 유지되는 것을 나타내고, 역의 광학 분석에 의해 비데오 디스크(50)의 표면으로부터 반사된 광비임도 그 광비임(36, 26, 54)의 통로부분에서 콜리메 이트된 형태로 된다. 즉, 비데오 디스크 표면에 부딪치는 광 비임이 그 디스크에 수직이기 때문에, 반사된 광 비임의 발산하는 원추형 부분(38)은 발산렌즈(34)를 통해 평행한 광선으로 복귀된다. 따라서, 트랜스듀서(60)에 도달하는 반사된 광 비임은 적어도 이상화된 관점으로 부터, 사실상 평면형상이고 평행하다. 후술되는 바와같이, 레이저 장치의 특징은 방출 광 비임의 콜리메이트된 성질을 변경시키고, 본 발명의 기본 개념은 이상화된 레이저 모델로부터의 그러한 약간의 변동을 기본으로 한다.
종래 기술의 마스터링장치에서, 모듈레이터(10)은 2개의 구멍 즉, 입구 구멍(12) 및 출구구멍(24)만을 가지고 있다. 비임(26)을 따라 모듈레이터(10)으로 복귀된 작은 양의 광에너지는 무용한 것으로 흡수되거나 완전히 무시된다. 본 발명에 따른 본 기술의 중요한 진보점은, 반사된 광 비임(54)가 이제까지 어떤 기능상의 가치가 없는 것으로 생각되는 콜리메이트된 반사광 비임(26, 54)를 이용하는 신규한 기술에 의해 유용하게 제공될 수 있도록 또다른 구멍 즉 출구구멍(25)를 제공함에 의해 현존 모듈레이터를 약간 개조한 것을 포함한다. 즉, 모듈레이터에서의 입사 및 반사광 비임들이 콜리메이트된 것으로 생각되었기 때문에, 입사광 비임 또는 반사광 비임중 어느것으로 부터도 정보가 추출될 수 없었다. 이는 그 광 비임의 크기, 형태 또는 형상에 변하지 않기 때문이다. 그러나, 본 발명은 광 비임(54)의 변동이 비데오 디스크에 부딪치는 광 비임의 촛점 상태의 변동을 나타낸다는 사실에 의해 광 비임(54)의 변동에 응하여 작동 하도록 특별히 설계되었다.
제2도에서, 종래 기술의 비데오 플레이어의 광로가 계략적으로 도시되어 있다. 제2도에서, 레이저 광원(2)는 콜리메이트된 광 비임(8)을 방출하고, 그 광 비임은 렌즈(70)을 통과하여 집중하는 원추형 비임부분(72), 허리부분(73) 및 발산하는 원추형 비임부분(74)를 형성한다. 비임부분(74)는 편광비임 스플리터(76) 및 사분의 일 파장판(78)을 통과하고 대물렌즈(80)에 의해 최종적으로 집중되어 촛점(86)에서 비데오 디스크(50)의 기록 표면(48)에 부딪치게 된다. 미리 기록된 비데오 디스크의 표면은 높은 반사성의 금속화 표면이며 그 금속화 표면이 광 비임을 입사 광 비임과 동일한 통로를 따라 역방향으로 반사한다.
그 반사되는 광 비임은 비임 스플리터(76)에 도달하고 그 스플리터가 그 반사 광 비임을 촛점(90)에 도달하도록 연속적으로 집중하는 원추 형부분(88)로 전환시킨다. 그 촛점(90)에는 신호회수를 위해 광검출기가 배치되어 있다. 전술한 바와 같데, 비이오 디스크의 정보표면에 부딪치는 광비임을 촛점 상태로 복귀시키도록 광로를 따라 대물렌즈(80)을 이동시키기 위한 자동 촛점 서어보 제어신호들을 발생시키기 위해 집중 광 비임 부분(88)주위에 부가적인 소자들이 배치될 수 있다.
비데오 디스크에 부딪치는 광 비임의 어떤 촛점 이탈상태에서, 어떤 공간 지점에서의 원추형 비임 부분들의 직경이 변하게 되고 앞에서 설명한 바와 같이 직각의 촛점 검출기와 함께 원통형 렌즈가 모니터되는 광 비임의 비원형 단면을 모니터 및 수정하도록 작용할수 있다. 모든 경우, 검출된 촛점 변동은 검출지점이 집중 또는 발산하는 반사 광 비임의 일부분에 있다는 사실의 결과이다.
일 실시예에서, 반사된 광 비임은 입사 광비임 부분(74)의 발산부분에서 분할된다. 즉, 비임스플리터가 제1도의 전체 시스템에 도시된 바와 같이 발산 비임 부분(39)의 위치(43)에 배치된다. 그리하여, 비임의 허리부분(73)으로 부터 비임 스플리터(76)까지의 거리는 시스템이 촛점 맞음(in focus) 상태(제2도)에 있을때 비임 스플리터(76)으로부터 촛점(90)까지의 거리와 같다. 다른 광학장치들이 요구될지라도 제2도에 도시된 광 비임의 집중 부분(72)에 비임 스플리터(76)을 배치하는 것도 가능하다. 어떤 촛점 에러가 제2도에 도시된 레이저 광원(2)에서 나오는 광 비임(8)의 콜리메이트된 부분에 비임 스플리터(76)을 배치함에 의해 검출될 수 있다는 것은 기대되지 않는다.
제3a도는 레이저 캐비티(cavity)를 나타낸다. 펌핑에너지가 한정된 튜브(3)으로 들어갈때, 여기(excite)된 원자가 방출된다. 일정한 위상(phase)의 면들이 캐비티 내정상판(standing wave)의 곡률을 나타내도록 번호(5) 및 (7)로 나타내어져 그려져 있다. 단부판(4) 및 (6)에서, 동일 위상의 면들과 각 단부판의 거울면은 일치한다. 광 비임의 단면이 최소로 되는 위치에서, 즉 면(5)가 위치되는 비임 허리부분에서, 동일 위상의 면들은 평면 형상으로 된다. 그리하여, 완전히 콜리메이트된 비임이 면(5)에서만 존재한다. 면(5)의 강도 프로필은 회절을 법칙에 따라 규정된다. 즉, 일정한 위상의 면들은 단부판들(4, 6)의 거울면들과 일치하고, 안정된 캐비티가 달성된다. 단부판(4)의 유리기질을 통한 출력광의 통과시 굴절의 법칙에 따라 비임이 더 발산된다.
안정된 레이저 캐비티 공진기들은 평면의 평행한 거울들로부터 공촛점 형공진기까지 다양할 수 있다. 바람직한 예에서, 레이저 캐비티 구조는, 거울 간격보다 크거나 작은 곡률반경을 갖는 만곡된 출력거울인 단부판(4) 및 편평한 맥스리플렉터(maxreflector)인 단부판(6')로 이루어진 반구면 타입(제3도)이다. 이 경우 면(5)의 평면파 및 비임 허리부는 단부판(6')의 표면에 위치된다. 또한, 동일 위상의 라인들이 제3도에 도시되어 있다.
제1도 및 제3도에서, 기록 광 비임을 형성하는데 사용되는 아르곤 이온 레이저의 구조의 분석결과, 레이저 광원(2)가 평행하고 평면형상의 레이저 구조이지만, 부분 반사되는 단부판(4)는 반사하는 단부판(6)이 평면일지라도 내측으로 약간 오목한 것임이 밝혀졌다. 제3도는, 그 도면의 좌측에 부분반사하는 단부판(4)를 그리고 제3도의 우측에 반사하는 평면의 단부판(6)을 가진 튜브(3)내 레이저 광원(2)의 특징들을 나타낸다. 펌핑 방사선의 튜브(3)으로 들어갈때, 여기된 원자들이 광을 방출하고, 그 광은 단부판들(4)와 (6)사이에서 전후로 반사되고 결국에는 부분 반사 단부판(4)를 통하여 배출된다. 전형적인 기록 레이저에서, 단부판(6)의 반사율은 100%에 가까웁지만, 단부판(4)의 반사율은 98%에 가깝다. 레이저 장치의 효율을 증진시키고 2개의 단부판들 사이에 조절된 반사를 유지하기 위해, 단부판(4)는, 예시의 목적을 위해 제3도에 크게 확대되어 도시된 바와 같이 약간 오목하게 되어있다. 본 명세서의 앞부분에 주어진 이유로, 순수한 이론적인 관점에서, 광 비임은 대략 1밀리라디안의 각도로 그 자신의 축으로 부터 발산한다. 발산하는 그 광비임(8)의 결과로, 이론적인 공액 촛점은 면(5)의 평면파의 유한적인 범위 및 단부판(4)의 곡률에 기인하여 회절 및 굴절에 기인되는 바와 같이 레이저 장치에 의해 형성되어 존재한다.
제4도에 본 발명의 설명을 위한 중요 구성 요소들이 도시되어 있고, 여기에 사용된 참조번호는 제1도에 사용된 것과 동일하다. 새로운 광학 소자들이 레이저 광원(2)과, 비데오디스크(50)사이 광로에 추가되지 않았음을 볼 수 있다. 그러나, 모듈레이터(10)의 하우징의 구멍(25) (제1도참조)는 비임(54)가 트랜스듀서(60)에 부딪치게 하기위해 요구된다. 제3도의 설명으로 부터의 분석결과, 레이저 광원(2)에 의해 형성된 이론적인 공액점이 존재하고 트랜스듀서(60)에 도달하는비임(54)가 비데오디스크(50)으로 부터의 반사비임의 결과이기 때문에, 비데오디스크(50)의 표면상의 광 비임의 촛점에 영향을 끼치는 광학 소자들의 위치 및 방향에 있어서의 어떤 변동이 트랜스듀서(60)에 도달하는 광 비임의 형태 및 (또는) 크기에 영향을 끼친다는 것이 인식될 수 있다.
비임(54)로 부터 약간 발산시키는 포겔스 셀(14)가 없는 것에 기인하여 시스템이 촛점 맞음 상태에 있을때, 면(5)의 평면파로 부터 글랜프리즘(20)의 중간지점의 프리즘 표면(22)까지의 거리(R1)은 글랜프리즘(20)의 프리즘 표면(22)로부터 트랜스듀서(60)에서의 상기 평면파의 가장 선명한 상(image)(61)까지의 복귀 비임(54)의 거리(R2)보다 길다. 그리하여, 시스템이 표준의 기록-현상-재생 교정순서로부터 결정되는 바와같이 최적 촛점에 셋트된때 최소직경의 가장 선명한 평면파 상(61)을 제공하는 것보다 거리(R2)가 더 길거나 또는 더 짧을때, 트랜스듀서(60)에서의 광 비임 프로필은 평면파 상(61)을 구성하는 광 팻치(patch)들의 혼란상태의 큰 원에 기인하여 직경이 증가한다. 그러나 프로필변화가 검출되어 기록 광 비임의 어떤 촛점 벗어남(out-of-focus) 상태를 결정할 수 있다. 전형적으로, 가장 선명한 평면파 상(61)은 1-2 밀리미터 정도의 직경을 갖는다.
제5도에 트랜스듀서(60)의 3차원 모델이 비데오 인코우더의 구조 및 비데오 모니터(68)과 함께 도시되어 있다. 사용에 있어서, 트랜스듀서(60)은 256×256개의 포토셀(photocell)들의 매트릭스로 구성되는 것이 바람직하며, 각 포토셀은 정사 각형이며 대략 0.001인치(약 0.025mm) 길이를 갖는다. 이런 성질의포토셀매트릭스는 각종 제조업자로부터 대규모 직접회로 형태로 제조되고, 포토셀 매트릭스에 의해 광 비임을 차단시키는 기본 개념은 본 발명의 일부로 간주되지 않는다.
제5도에서, 포토셀 매트릭스로 부터의 출력 라인들(77, 79)이 멀티플렉서(65)에 연결되어, 65000개 이상의 포토셀들로된 매트릭스내 해당 포토셀상에 부딪치는 광의 세기에 상응하는 크기를 각각 가지는 연속적이고 반복적인 펄스 열(train)을 형성하도록하는 본 발명의 바람직한 형태가 도시되어 있다. 라인(83)을 통한 시프트 레지스터(67)내로의 펄스들의 클록킹(clocking)은, 비데오 모니터(68)에 라인(81)을 통해 공급되기전 적절한 수평의 주사 라인상 및 그러한 수평 라인상의 적절한 위치에 각 포토셀에 상응하는 서로 다른 진 폭 레벨들을 삽입하기 위해 동기화된 순 서로 라인(75)상의 시프트 레지스터(67)로 부터의 펄스열(train)을 받는 비데오 주사 제너레이터(69)에 의해 라인(71)위에 제공된다. 상기 비데오 모니터는 트랜스듀서(60)에 부딪치는 차단된 비임(54)의 상(61)을 주사 비임을 변조하는 강도로 나타낸다.
비임(54)의 집중 각도가 작을지라도, 전술한 포토셀 구조 및 크기는 기록 광 비임의 작은 촛점 벗어남 상태라도 검출하는데 충분하다. 트랜스듀서(60)에 부딪치는 비임(54)의 단면이 이론적으로는 원형일지라도, 실제에 있어서는 그것은 필수적이 아니고, 앞에서 설명한 경험적인 방법에 의해 마스터링 장치를 최적 촛점으로 교정한후, 비데오 모니터상에 디스플레이된 가장 선명한 평면파 상(61)의 프로필은 마스터링 장치의 촛점 상태가 최적화될 때 마다 비교되는 기준프로필(reference profile)로 기록된다. 기준프로필을 기록하기 위한 복잡한 구조는 각 포토셀상에의 광의 충돌에 의해 발생되는 각 신호의 값을 레지스터 하기 위해 컴퓨터를 사용하는 것이다. 단간하고 보다 실용적이며 직접적인 방법은 비데오 모니터의 스크린상에 유지 연필(그리이스 펜슬)로 기준프로필의 형태를 그리는 것이다. 다음, 촛점 상태의 주기적인 첵크가, 스크린상에 이미 그려진 기준 프로필에 대한 어떤 시점에서의 비데오 모니터상의 디스플레이의 벗어남(deviation)을 관찰함에 의해 순간적으로 모니터될 수 있다.
전술한 시스템은 비데오 디스크의 표면상에 촛점을 이룬 비임을 직접 모니터하도록 작동하지 않음이 인식될 수 있다. 따라서, 마스터링 장치의 초시 교정(calibration)이 그 장치를 최적 촛점 상태로 되게 하기 위해 필요하며, 다음, 기준프로필이 미래의 기준을 위해 기록된다. 교정은 본 명세서의 앞부분에서 설명된 방법에 의해 경험적으로 달성될 수 있고, 그리하여 프로그램 자료를 실제로 기록하면서 일련의 광학적 장치의 변경이 행해지고, 각종 기록된 부분들의 재생시, 교정된 플레이어의 비데오디스크의 최적 재생특성들을 관찰함에 의해 최적 촛점이 관찰된다. 그러나, 기준 프로필이 형성 된때, 마스터링 장치의 최적촛점은 트랜스듀서(60)에 의해 감지되어 모니터된 비임이 이미 기록된 기준프로필과 주기적으로 일치하도록 함에 의해 달성될 수 있고, 이것은 매일 행해진다.
본 발명에 따른 맷칭(matching)프로필의 사용에 의해, 각 마스터링 장치에서 일일당 대략 1시간의 정지시간이 절약되는 것으로 추정된다.
따라서, 전술한 본 발명의 목적들이 달성된다.

Claims (27)

  1. 기록매체의 기록표면에 부딪치는 기록 광비임의 촛점 상태를 모니터하는 방법에 있어서, 기록 광비임을 형성하도록 고강도 광원을 제공하고; 상기 광비임을 신호감응 광비임 모듈레이터에 통과시키고; 변조된 비임을 모듈레이터로부터 사분의 일 파장판 및 대물렌즈에 통과시켜 기록매체의 기록표면에 촛점이 맞은 상태로 입사시키고; 기록 매체로부터 역방향으로 반사된 광비임을 대물렌즈, 발산렌즈 및 사분의 일 파장판을 지나는 통로를 따라 모듈레이터로 보내고; 모듈레이터에 도달한 반사 광비임을 입사 기록광비임 통로를 벗어나 감광성 트랜스듀서로 전환시키고; 기록매체의 기록 표면에서의 기록 광비임의 촛점상태를 모니터하기 위해 상기 트랜스듀서의 출력 신호를 감지하는 단계들로 이루어진 기록 광비임의 촛점 상태 모니터 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 기록매체의 기록 표면에 부딪치는 기록 광비임이 촛점이 맞은 상태에 있을때 상기 트랜스듀서에 부딪치는 광비임의 프로필 특성의 기록치를 유지하여 기준프로필을 형성하고; 기록 매체의 기록 표면에 부딪치는 기록 광비임이 촛점에서 벗어나 있을때, 상기 트랜스듀서에 부딪치는 광비임이 상기 기준 프로필과 일치할 때까지 기록 매체상의 기록 광비임의 촛점에 영향을 끼치는 광학 소자들을 조정하는 단계들을 포함하는 상기 방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 광학 소자 조정단계가 상기 비임 통로를 따라 상기 대물렌즈를 조정하는 것을 포함하는 상기 방법.
  4. 제 2항에 있어서, 상기 광학 소자 조정 단계가 상기기록 광비임의 종방향으로 상기 고강도 광원을 조정하는 것을 포함하는 상기 방법.
  5. 제 2 항에 있어서, 상기 광학 소자 조정 단계가 트랜스듀서와 모듈레이터비임 스플리터 사이 간격을 조정하는 것을 포함하는 상기 방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 광 비임 모듈레이터가 상기 광원으로부터 기록 광비임을 받는 포켈스셀과, 그 포켈스셀의 하류에 배치된 글랜프리즘을 가진 타입으로 되어 있고; 상기 반사광비임 전환 단계가 모듈레이터에 도달하는 반사광비임을 글랜프리즘의 최전방 프리즘 표면의 밖으로 트랜듀서상의 편향시킴에 의해 상기 반사광비임을 전환시키는 단계를 포함하는 상기 방법.
  7. 기록 매체의 기록표면에 부딪치는 기록광비임의 촛점 상태를 모니터하기 위한 장치에 있어서, 기록광 비임을 형성하는 고강도 광원, 상기 광 비임의 통로에 배치된 신호감응성비임, 모듈레이터 그 모듈레이터의 하류에서 상기 광비임 통로에 배치된 사분의 일 파장판 그 사분의 일파장판의 하류에서 상기 광비임 통로에 배치된 발산렌즈, 그 발산렌즈로부터 상기 광 비임을 받고 그 광비임을 기록매체의 기록표면에 촛점을 이루도록 상기 광비임 통로에 배치된 대물렌즈, 및 상기 기록매체의 기록표면에서의 상기 기록광비임의 촛점상태에 따라 변하는 출력신호를 발생시키기 위해 전환수단에 의해 전환된 반사광 비임의 통로에 배치된 감광성 트랜스듀서로 구성되고, 상기 대물렌즈, 발산렌즈 및 사분의 일 파장판은 상기 매체의 기록 표면으로부터 반사된)광비임을 받고 그 광비임을 상기 모듈레이터쪽으로 향하게 하도 록배치되고, 상기 모듈레이터는 그 모듈레이터에 도달하는 반사광 비임을 입사 기록 광비임의 통로 밖으로 전환시키기 위한 상기 전환 수단을 포함하는 기록광비임의 촛점 상태 모니터 장치.
  8. 제 7 항에 있어서, 기준 프로필을 형성하도록, 기록매체의 기록표면에 부딪치는 기록광비임 촛점이 맞은 상태에 있을때 트랜스듀서에 부딪치는 광비임의 프로필 특성을 나타내기 위한 수단, 및 트랜스듀서에 부딪치는 광비임이 상기 기준 프로필에 일치할때까지, 기록매체의 기록 매체의 기록표면에 부딪치는 기록 광비임이 촛점에서 벗어난때 기록매체상의 기록광비임의 촛점에 영향을 끼치는 광학 소자들을 조정하기 위한 수단을 포함하는 상기 장치.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 조정 수단이 상기 비임통로를 따라 상기 대물렌즈를 조정하기 위한 수단을 포함하는 상기 장치.
  10. 제 8 항에 있어서, 상기 조정수단이 상기 기록광비임의 종방향으로 상기 고강도 광원을 조정하기 위한 수단을 포함하는 상기 장치.
  11. 제 9 항에 있어서, 상기 조정수단이 촛점서어보 증폭기 및 대물렌즈 구동기를 구비한 촛점서어보 루우프를 포함하고, 상기 서어보 증폭기가 트랜스듀서에 부딪치는 반사 기록광비임의 순간프로필과 상기 기준 프로필 사이의 차이에 감응하고 그 차이에 따라 촛점 에러 신호를 발생하는 상기 장치.
  12. 제 7 항에 있어서 상기 광비임 모듈레이터가 광원으로부터 기록광비임을 받는 포켈스셀과 그 포켈스셀의 하류에 배치된 글랜프리즘을 가진 타입으로 있고, 상기 트랜스듀서가 글랜프리즘의 최전방 프리즘 표면에서 반사된 광비임을 받도록 배치된 상기 장치.
  13. 기록매체의 기록 표면에 부딪치는 기록광비임의 촛점상태를 모니터하는 방법에 있어서, 기록광비임을 형성하기 위해고 강도의 콜리메이트된 광원을 제공하고, 상기 광비임을 신호 감응 광비임 모듈레이터를 통과시키고, 변조된 광비임을 모듈레이터로부터 발산렌즈를 지나고 광로를 따라 통과시켜 기록매체의 기록 표면에 촛점을 이루게하고, 기록매체로부터 역방향으로 반사된 광비임을 상기 광로를 따라 향하게 하여, 콜리메이트된 반사 광비임을 모듈레이터에 제공하고, 모듈레이터에 도달한 반사광비임을 입사기록 광비임의 통로를 벗어나 감광성 트랜스듀서로 전환시키고; 기록매체의 기록표면에서의 기록비임의 촛점상태를 모니터하도록 트랜스듀서의 출력신호를 감지하는 단계들로 이루어진 기록 광비임의 촛점 상태 모니터 방법.
  14. 제13항에 있어서, 기준 프로필을 형성하도록, 기록매체의 기록표면에 부딪치는 기록광비임이 촛점이 맞은 상태에 있을때, 트랜스듀서에 부딪치는 광비임의 프로필 특성의 기록치를 유지하고, 기록매체의 기록표면에 부딪치는 기록 광비임이 촛점에서 벗어나 있을때, 트랜스듀서에 부딪치는 광비임이 상기 기준프로필에 일치할때까지 기록매체상의 기록비임의 촛점에 영향을 끼치는 광학 소자들을 조정하는 단계들을 포함하는 상기 방법.
  15. 제14항에 있어서, 상기 전환단계가 상기 모듈레이터의 광학 표면에 의해 전환된 광비임을 다수의 밀접히 떨어져 있는 트랜스듀서셀소자들상으로 향하게하여 상기 광비임이 다수의 그러한 소자들에 부딪치도록하는 것을 포함하고, 상기 기록치 유지 단계가 상기 셀 소자위치들과 모든 셀 소자들의 밝기 수준들을 비데오 모니터에 디스플레이하고 기준프로필을 형성하도록 비데오 모니터상의 증강된 디스플레이의 아웃트라인을 비데오 모니터의 스크린에 형성하는 단계들을 포함서며, 상기 조정단계가 비데오 모니터상의 증강된 디스플레이가 상기 기준 프로필의 것과 동일한 아웃트라인을 가질때까지 촛점에 영향을 끼치는 광학 소자들을 조정하는 것을 포함하는 상기 방법.
  16. 제13항에 있어서, 상기 광 비임 모듈레이터가 광원으로부터 기록비임을 받는 포켈스셀과, 그 포켈스셀의 하루에 배치된 글랜 프리즘을 가지는 타입으로되어 있고, 상기 전환단계가 모듈레이터에 도달한 반사 광비임을 상기 글랜프리즘의 최전방 프리즘 표면에서 벗어나 트랜스듀서 상으로 편향시킴에 의해 상기 반사 광비임을 전환시키는 단계를 포함하는 상기 방법.
  17. 기록매체의 기록표면에 부딪치는 기록광비임의 촛점상태를 모니터하기 위한 장치에 있어서, 기록광비임을 형성하는 고강도의 콜리메이트된 광원, 상기 광비임의 통로에 배치된 신호감응성 광비임 모듈레이터 상기 광비임을 발산시키고 상기 모듈레이터로부터 변조된 광비임을 기록매체의 기록매체의 기록표면에 촛점을 이룬 상태로 부딪치게 하기 위한 광로를 형성하는 수단, 기록매체의 기록표면에서의 상기 기록광비임의 촛점상태에 따라 변하는 출력신호를 발생시키기 위해 전환 수단에 의해 전환된 반사광 비임의 통로에 배치된 감광성 트랜스듀서로 구성되고, 상기 광로는 기록매체의 기록 표면으로부터의 반사된 광비임을 받고 그 광비임을 콜리메이트된 형태로 상기 모듈레이터에 보내도록 배치되고, 상기 모듈레이터는 그 모듈레이터에 도달한 반사되고 콜리메이트된 광비임을 입사기록 광비임의 통로밖으로 전환시키기 위한 수단을 포함하는 기록 광비임의 촛점상태 모니터 장치.
  18. 제17항에 있어서, 기준프로필을 형성하도록, 기록매체의 기록 표면에 부딪치는 기록비임이 촛점이 맞은 상태에 있을때 트랜스듀서에 부딪치는 광비임의 프로필특성을 나타내기 위한 수단과, 트랜스듀서에 부딪치는 광비임이 상기 기준프로필에 일치할때까지, 기록매체의 기록표면에 부딪치는 기록 광비임이 촛점에서 벗어나 있는 것을 발견한때 기록매체상의 기록 광비임 촛점에 영향을 끼치는 광학소자들을 조정하기 위한 수단을 포함하는 상기 장치.
  19. 제17항에 있어서 상기 광비임 모듈레이터가 광원으로부터 기록 광비임을 받는 포켈스셀과, 그 포켈스셀의 하류에 배치된 글랜프리즘을 가진 타입으로되어 있고, 상기 트랜스듀서가 글랜 프리즘의 최전방 프리즘 표면에서 반사된 광비임을 받도록 배치된 상기 장치.
  20. 제17항에 있어서, 상기 감광성 트랜스듀서가 광전기셀의 매트릭스이고, 각 셀에 부딪치는 광의 양을 나타내는 신호를 출력하는 수단을 포함하는 상기 장치.
  21. 제20항에 있어서, 각 셀에 부딪치는 광의 양을 나타내는 상기 신호를 받음과 동시에 모든 셀에 부딪치는 광의 양들에 상응하는 표시를 디스플레이장치를 포함하는 상기 장치.
  22. 제21항에 있어서, 상기 디스플레이 장치가 상기 매트릭스내 해당 셀위치들과 상기 해당 셀들에 부딪치는 광수준 들과 관련된 위치들 및 밝기 수준들에서 증강된 라스터(raster)를 가진 비데오 모니터인 상기 장치.
  23. 제20항에 있어서, 상기 매트릭스가 상기 광전기 셀의 다수의 횡열과 다수의 종열로 이루어져 있고, 각 셀이 사실상 정사각형이며 대략 0.001인치 (0.025mm)의 측분 칫수를 가지는 상기 장치.
  24. 기록매체의 기록표면에 부딪치는 기록광비임의 촛점 상태를 모니터하기 위한 방법에 있어서, 평면파 가우스 강도 프로필로 정해지는 비임 허리부분을 가진 내부 비임부분을 가지며 기록 광 비임을 형성하는 고강도의 콜리메이트된 광원을 제공하고, 상기 콜레이트된 광 비임을 신호감응성 광비임 모듈레이터에 통과시키고, 그 모듈레이터로부터의 상기 콜리메이트 되고 변조된 광비임을 발산렌즈가 배치된 광로를 따라 통과시켜기록 매체의 기록 표면에 촛점을 이루는 상태로 부딪치게하고, 발산렌즈를 통해 역방향으로 광비임을 통과시킨후 상기 콜리메이트된 반사광비임을 감광성트랜스듀서에 제광하기 위해 기록 매체로부터 역방향으로 반사된 광 비임을 상기 광로를 따라 주행시키고, 상기 콜리메이트된 반사 광비임이 가장 선명한 촛점상태에 있게되는 상기 광로상의 일 위치에 상기 트랜스듀서를 배치하고, 그 트랜스듀서에 부딪치는 광비임의 가장 선명한 촛점의 변화를 모니터하여, 기록매체의 기록표면에서의 기록 광비임 촛점의 상응하는 변동을 추정적으로 모니터하는 단계들로 이루어진 기록광비임 촛점 상태모니터 방법.
  25. 제24항에 있어서, 콜리메이트된 반사 광비임이 가장 선명한 촛점상태에 있게되는 상기 광로상의 상기 위치가 콜리메이트된 광원내 비임 허리부분 공액점에 상응하는 영상평면과 공액점의 위치인 상기 방법.
  26. 기록매체의 기록표면에 부딪치는 기록 광비임의 촛점상태를 모니터하는 장치에 있어서, 평면파 가우스 강도프로필로 정해지는 비임허리부분을 가진 내부 비임 부분을 가지며 기록 광비임을 형성하는 고강도의 콜리메이트된 광원 상기 콜리메이트된 광비임의 통로에 배치된 신호 감응성 광비임 모듈레이터 상기 광비임을 발산시키고 상기 모듈레이터로부터의 변조된 광비임을 기록매체의 기록표면에 촛점을 이룬 상태로 부딪치게 하기 위한 광로를 형성하는 수단 콜리메이트된 광비임이 가장 선명한 촛점상태에 있게되는 상기 광로상의 일위치에 배치된 반사 광비임 통로에 배치된 감광성 트랜스듀서 그 트랜스 듀서에 부딪치는 광비임의 촛점의 변화를 모니터 하여 기록매체의 기록표면의 기록 광비임 촛점의 상응하는 변동을 추정으로 모니터하기 위한 수단으로 구성되고, 상기 광로는 기록매체의 기록표면으로부터의 반사된 광비임을 받고 그 광비임 콜리메이트된 형태로 그 광로를 따라 역방향으로 향하게하도록 배치된 기록 광비임 촛점상태 모니터 장치.
  27. 제26항에 있어서, 콜리메이트된 반사광 비임이 가장 선명한 촛점상태에 있게되는 상기 광로상의 상기 위치가 콜리메이트된 광원내 비임 허리부분 공액점에 상응하는 영상 평면파 공액점의 위치인 상기 장치.
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