KR840002447B1 - Electrode plane manufaction method for liquid crystal display - Google Patents

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Abstract

A method for making electrode plate for liq. crystal display matter comprises (a) forming a liq. crystal aligning film, consisting of a material soluble to a basic soln. (e.g., polyimide or polyparabanic acid resin), on a base plate having electroconductive film; (b) forming a resist film, consisting of anti-basic resist ink (e.g., tar-epoxy system resin resist ink), in a desired form on the liq. crystal aligning film; (c) removing the liq. crystal aligning film from the part on which the resist film is not laminated by a basic etching liq. to regulate the liq. crystal aligning film into a desired form; and then (d) removing the resist film.

Description

액정(液晶)표시체용 전극판의 제조방법Manufacturing method of electrode plate for liquid crystal display

본 발명은 광의로는 액정표시체용 전극판의 제조방법에 관한 것이다. 더 상세하게는 본 발명은 액정표시체용 전극판을 구성하는 액정 배향막(配向膜)을 소망하는 형상으로 정형(整形)하기 위한 방법에 관한 것이다.The present invention broadly relates to a method for producing an electrode plate for a liquid crystal display. More specifically, the present invention relates to a method for shaping a liquid crystal alignment film constituting an electrode plate for a liquid crystal display into a desired shape.

최근 액정재료의 광학적 이방성(異方性)을 이용한 액정표시체가 시계, 각종 측정장치등의 표시부품으로서 널리 실용되게 되었다.Background Art [0002] In recent years, liquid crystal displays using optical anisotropy of liquid crystal materials have become widely used as display parts for watches and various measuring devices.

액정표시체는 부(負)의 유전(誘電)이방성을 가진 네마틱(nematic) 액정재료에 전계(電界)를 인가한 경우에 얻어지는 해당 액정재료의 광산란(光散亂) 효과를 이용한 동(動) 산란형(DS 型)과, 정(正)의 유전 이방성을 가진 네마틱 액정재료에 전계를 인가한 경우에 얻어지는 해당 액정재료의 선광(旋光)효과를 이용한 전계효과형(FE 型)으로 분류된다.The liquid crystal display is made of copper using the light scattering effect of the liquid crystal material obtained when an electric field is applied to a nematic liquid crystal material having negative dielectric anisotropy. ) Classified as field effect type (FE type) using the optical effect of the liquid crystal material obtained when an electric field is applied to a nematic liquid crystal material having a scattering type (DS type) and positive dielectric anisotropy. do.

DS형, FE형을 불문하고 액정표시체는 스페이서에 의해서 일정한 간격을 유지하여 대향시킨 한쌍의 전극판간에 액정재료가 협지되어 밀봉된 기본적 구조를 가진다. 전극판은 기판, 도전막(전극) 및 액정 배향막으로 이루어지며 표면에 도전막이 형성된 기판상에 다시 액정배향막이 형성된 것이다. 기판으로서 일반적으로 유리판이 사용된다.Regardless of the DS type or the FE type, the liquid crystal display has a basic structure in which a liquid crystal material is sandwiched and sealed between a pair of electrode plates facing each other at a constant interval by a spacer. The electrode plate is made of a substrate, a conductive film (electrode) and a liquid crystal alignment film, and a liquid crystal alignment film is formed again on a substrate having a conductive film formed on its surface. Generally, a glass plate is used as a board | substrate.

전극인 도전막의 재료로서는 산화인듐(In2O3), 산화주석(SnO2)등의 도전성 금속산화물 또는 알루미늄, 은등의 단체금속이 사용된다.As the material of the conductive film as the electrode, a conductive metal oxide such as indium oxide (In 2 O 3 ), tin oxide (SnO 2 ), or a single metal such as aluminum or silver is used.

일반적으로 전자는 투명한 광투과성 도전막을 주고, 한편 후자는 불투명한 광반사성 도전막을 준다. 액정표시체를 구성하는 한쌍의 전극판 각각에는 일반적으로 형상이 다른 도전막이 설치되어 있으며 이 형상이 다른 도전막은 한쌍의 전극판이 겹쳐질때 소망하는 표시형상을 포함하는 도전막의 중첩이 얻어지도록 설계되어 있다. 또 액정표시체를 구성하는 한쌍의 전극판의 적어도 한쪽의 도전막(즉 적어도 관찰측 전극판의 도전막)은 광투과성 도전막이다.In general, the former gives a transparent light transmissive conductive film, while the latter gives an opaque light reflective conductive film. Each of the pair of electrode plates constituting the liquid crystal display is generally provided with a conductive film having a different shape, and the conductive film having a different shape is designed so that a conductive film including a desired display shape can be obtained when the pair of electrode plates overlap. . In addition, at least one conductive film (that is, at least the conductive film of the observation side electrode plate) of the pair of electrode plates constituting the liquid crystal display is a light transmissive conductive film.

전극판의 액정 배향막은 액정표시체내에 밀봉되는 액정정재료를 배향시켜, 전극판간에 전계가 인가될때 액정재료를 배향시켜, 전극판간에 전계가 인가될때 액정재료가 광 산란 효과를 나타내도록 하기 위하여 설치되는 것이다.The liquid crystal alignment layer of the electrode plate aligns the liquid crystal crystal material encapsulated in the liquid crystal display, orients the liquid crystal material when an electric field is applied between the electrode plates, so that the liquid crystal material exhibits a light scattering effect when an electric field is applied between the electrode plates. It is installed.

액정 배향막의 재료로서 산화규소등의 여러가지의 무기재료, 또는 폴리이미드수지, 불소수지, 폴리비닐알코올 수지, 폴리파라반산(polyparabanic acid)수지등의 여러가지의 유기재료를 사용할 수 있다는 것이 종래 알려져 있다. 이 액정배향막은 사용되는 재료에 따라서 증착법(蒸着法), 회전도포법, 오프셋인쇄법, 스프레이도포법등에 의해서 50 내지 5000Å의 두께로 형성되고 그후 표면에 배향처리가 행하여져서 액정배향 성능이 부여된다.It is conventionally known that various inorganic materials such as silicon oxide or various organic materials such as polyimide resin, fluorine resin, polyvinyl alcohol resin, polyparabanic acid resin can be used as the material of the liquid crystal alignment film. The liquid crystal aligning film is formed to a thickness of 50 to 5000 kPa by the deposition method, the rotary coating method, the offset printing method, the spray coating method, or the like depending on the material used, and then the alignment treatment is performed on the surface to give liquid crystal alignment performance. .

배향처리는 예를들면 액정배향막 표면을 일정방향으로 일정방향으로 연마하므로써 처리되나 일반적으로 배향처리가 행하여지지 않는 경우에는 액정배향막은 거의 액정배향성능을 가지지 않는다.The alignment treatment is performed by, for example, polishing the surface of the liquid crystal alignment film in a predetermined direction in a predetermined direction, but in general, when the alignment treatment is not performed, the liquid crystal alignment film has almost no liquid crystal alignment performance.

또한 본 명세서에서 액정배향막이라고 하는 경우에는 특히 단서를 붙이지 않는 한배향처리가 처리되지 않은액정배향막을 뜻하는 것으로 한다.In addition, in the present specification, the term “liquid crystal alignment film” refers to a liquid crystal alignment film that is not subjected to the alignment treatment unless a clue is attached thereto.

상술과 같이 배향막은 액정표시체에 필수의 것이지만 반드시 전극판 전면에 설치할 필요는 없으며 적어도 전극판의 액정재료와 접하는 부분에 설치되면 된다.As described above, the alignment film is indispensable for the liquid crystal display, but it is not necessarily provided on the entire surface of the electrode plate.

오히려 스페이서가 설치되고 또 전극(도전막)의 리이드부분이 존재하는 전극판의 주변부분에는 스페이서와 전극판과의 밀착성 및 전극 리이드부분과 구동회로와의 전기적 접속의 점에서 액정배향막은 설치되지 않는 것이 바람직하다.Rather, the liquid crystal alignment film is not provided in the peripheral portion of the electrode plate where the spacer is provided and the lead portion of the electrode (conductive film) exists in terms of adhesion between the spacer and the electrode plate and electrical connection between the electrode lead portion and the driving circuit. It is preferable.

따라서 일반적으로 우선 도전막을 가진 기판전면에 액정배향막이 형성되고 그리고나서 배향처리전에 액정배향막이 정형되어 표시에 불필요한 주변부분이 제거된다.Therefore, generally, a liquid crystal aligning film is generally formed on the front surface of a substrate having a conductive film, and then the liquid crystal aligning film is shaped before alignment processing to remove peripheral portions unnecessary for display.

종래 도전막을 가진 기판전면에 형성된 액정배향막을 정형하여 표시에 불필요한 부분을 제거하는데 포토레지스트(photoresist) 기술이 이용되고 있다. 즉 네거티브 포토레지스트 기술이 이용되는 종래법에 있어서는 먼저 도전막을 가진 기판 전면에 형성된 액정배향막상에 광경화성 수지로 이루어진 포토레지스트 잉크가 도포되고 건조되어서 레지스트막이 형성된다. 다음에 소망하는 형상의 광 투과부분을 가진 포토마스크가 레지스트막상에 위치 결정되어서 놓아지고, 레지 스트막에 노광이 행하여진다.Background Art A photoresist technique is conventionally used to shape a liquid crystal alignment film formed on the front surface of a substrate having a conductive film to remove unnecessary portions of the display. That is, in the conventional method in which negative photoresist technology is used, first, a photoresist ink made of a photocurable resin is applied and dried on a liquid crystal alignment film formed on the entire surface of a substrate having a conductive film to form a resist film. Next, a photomask having a light transmitting portion having a desired shape is positioned and placed on the resist film, and the resist film is exposed to light.

노광후 현상이 행하여지고 소망하는 형상을 가진 경화부분을 남기고 레지스트막이 미경화부분이 제거되고 그 부분의 액정배향막이 노출된다. 그후 노출된 액정배향막이 에칭(etching)에 의해서 제거되고, 에칭후 잔류 레지스트막(경화부분)이 제거되어서 소망하는 형상을 가진 액정 배향막이 얻어진다.Post-exposure development is performed to leave the cured portion having a desired shape, and the resist film is removed from the uncured portion, and the liquid crystal alignment film of the portion is exposed. Thereafter, the exposed liquid crystal alignment film is removed by etching, and the residual resist film (cured portion) after etching is removed to obtain a liquid crystal alignment film having a desired shape.

또 포지티브(positive) 포토레지스트 기술이 이용되는 종래법에 있어서는 상기 광경화성 수지 대신에 광분해성 수지가 사용되고 레지스트막은 상기와는 반대의 패턴에 노광되고 다음은 상기와 동일한 작업이 행하여진다.In the conventional method in which a positive photoresist technique is used, a photodegradable resin is used instead of the photocurable resin, the resist film is exposed to a pattern opposite to the above, and the same operation as described above is performed next.

그러나 이 포토레지스트 기술을 이용하는 종래법은 공정이 복잡하여 이 때문에 얻어지는 전극판은 코스트가 높아진다.However, the conventional method using this photoresist technique has a complicated process, and therefore the electrode plate obtained has a high cost.

또 간편한 방법으로서 상술한 종래법과 같이 일단기 판상에 형성된 액정배향막을 정형하여 불요부분을 제거하므로써 소망하는 형상을 가진 액정배향막을 얻는 것이 아니고 오프셋 인쇄법, 마스크를 사용하는 스프레이도포법 등에 의해서 소망하는 형상을 가진 액정배향막을 직접 기판상에 형성되는 방법이 시도되고 있다.In addition, as a convenient method, the liquid crystal alignment film formed on one end plate is removed as in the conventional method described above, and thus the liquid crystal alignment film having a desired shape is not obtained by removing the unnecessary portion, but the offset printing method, spray coating method using a mask, etc. A method of directly forming a liquid crystal alignment film having a shape on a substrate has been attempted.

그러나 이 방법에 의할 경우 얻어지는 액정배향막이 막두께가 불균일하게 되기 쉽고 또 액정배향막을 소정위치에 정확히 형성시키기가 곤란하여, 액정배향막의 위치의 어긋남이 생기기 쉽다.However, the liquid crystal alignment film obtained by this method tends to be uneven in film thickness, and it is difficult to accurately form the liquid crystal alignment film in a predetermined position, and thus the position of the liquid crystal alignment film is easily shifted.

액정배향막의 막두께가 불균일한 경우에는 얻어지는 액정표시체에 있어서 액정재료의 배향상태가 악화되고 또 액정배향막의 위치에 어긋남이 생겼을 경우에는 액정표시체를 구성하는 한쌍의 전극판의 액정배향막의 상대위치에 어긋남이 생겨 어느 경우에나 액정표시체에 있어서 바람직하지 않다.When the film thickness of the liquid crystal alignment film is uneven, the alignment state of the liquid crystal material in the liquid crystal display obtained is deteriorated, and when the position of the liquid crystal alignment film is misaligned, the relative of the liquid crystal alignment film of the pair of electrode plates constituting the liquid crystal display film. Offset occurs and it is not preferable to the liquid crystal display in any case.

상술과 같은 상황에서 균일한 막두께를 가진 소망하는 형상의 액정배향막이 소정의 위치에 정확히 설치된 액정표시체용 전극판을 간단히 따라서 저코스트로 제조할 수 있는 액정표시체용 전극판의 제조방법이 요망되고 있다.In the above situation, there is a demand for a method of manufacturing an electrode plate for a liquid crystal display which can be manufactured at low cost by simply following an electrode plate for a liquid crystal display in which a desired liquid crystal alignment film having a uniform film thickness is correctly installed at a predetermined position. have.

따라서 본 발법의 목적은 균일한 막두께를 가진 소망하는 형상의 액정배향막이 소정의 위치에 정확히 설치된 액정표시체용 전극판을 간단히, 따라서 저코스트로 제조할 수 있는 액정표시체용 전극판의 제조방법을 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present method is to provide a method of manufacturing an electrode plate for a liquid crystal display, which can easily produce an electrode plate for a liquid crystal display with a desired liquid crystal alignment film having a uniform film thickness at a predetermined position. To provide.

본 발명자는 상기 목적을 달성하기 위하여 액정표시체용 전극판의 제조방법에 관하여 여러가지 연구를 하여 왔다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor has made various research about the manufacturing method of the electrode plate for liquid crystal display bodies in order to achieve the said objective.

그 결과 도전막이 설치된 기판상에 염기성 용액에 가용성인 재료를 사용하여 액정 배향막을 형성하고 이 액정배향막을 내염기성 레지스트잉크를 사용하는 레지스트 기술을 이용하여 정형하는 경우에는 막두께가 균일하며 또 위치의 어긋남이 없는 소망하는 형상의 액정배향막을 가진 전극판을 상기포토레지스트 기술을 이용하는 종래법 보다도 간단히 따라서 보다 저코스트로 제조할 수 있는 것을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다.As a result, when a liquid crystal aligning film is formed using a material soluble in a basic solution on a substrate on which a conductive film is installed, and the liquid crystal aligning film is shaped using a resist technology using a resistive ink, the film thickness is uniform and the position of The present invention has been completed by discovering that an electrode plate having a liquid crystal alignment film having a desired shape without any deviation can be produced in a simpler manner than the conventional method using the photoresist technique.

본 발명의 액정표시체용 전극판의 제조방법은 표면에 도전막이 형성된 기판상에 다시 액정배향막을 형성하여 이루어진 액정표시체용 전극판의 제조방법에 있어서,The manufacturing method of the electrode plate for liquid crystal display of this invention is a manufacturing method of the electrode plate for liquid crystal display formed by forming a liquid crystal aligning film again on the board | substrate with which the conductive film was formed in the surface,

I) 표면에 상기 도전막이 형성된 상기 기판상에 염기성용액에 가용성인 재료로 이루어진 상기 액정배향막을 형성하고I) forming the liquid crystal alignment film made of a material soluble in a basic solution on the substrate having the conductive film formed thereon;

II) 이 액정배향막상에 내염기성 레지스트잉크로 이루어진 레지스트막을 소망하는 형상으로 형성하고II) A resist film made of a base resistive ink is formed on the liquid crystal alignment film in a desired shape.

III) 염기성에 칭액에 의해서 상기 레지스트막이 적층되어 있지 않은 부분의 상기 액정배향막을 제거하므로서 상기 액정배향막을 상기 소망하는 형상으로 정형하고 그후III) The liquid crystal aligning film is shaped into the desired shape by removing the liquid crystal aligning film in a portion where the resist film is not laminated by basic etching solution.

IV) 상기 레지스트막을 제거하는 것을 특징으로 한다.IV) The resist film is removed.

레지스트 기술은 각 방면에서 이용되고 있으나 대개의 경우 레지스트잉크로서 내산성 레지스트잉크가 사용되고 이 내산성 레지스트잉크가 산성에 칭액과 조합되어서 사용되고 있다.Resist technology is used in each aspect, but in most cases, an acid resistant resist ink is used as a resist ink, and this acid resistant resist ink is used in combination with a solution for acid.

이와같은 일반적인 레지스트 기술과는 달리 본 발명의 제조방법에 있어서는 레지스트 잉크로서 내염기성 레지스트 잉크가 사용되고 이 내염기성 레지스트 잉크가 염기성에 칭액과 조합되어서 사용된다.Unlike such general resist technology, in the manufacturing method of the present invention, a resistive ink is used as a resist ink, and the resistive ink is used in combination with a quenching solution in basicity.

본 발명의 제조방법에 있어서 내염기성 레지스트잉크가 사용되는 것은 주로 다음과 같은 이유에서이다.In the production method of the present invention, the base resist ink is mainly used for the following reasons.

I) 전극인 도전막은 일반적으로 산에 대한 내성이 낮다.I) The electrically conductive film which is an electrode generally has low resistance to acids.

II) 액정배향막에 사용되는 재료의 대부분은 염기성 분해성 재료이다.II) Most of the materials used for the liquid crystal alignment film are basic degradable materials.

다음에 본 발명의 제조방법을 상세히 설명한다.Next, the manufacturing method of this invention is demonstrated in detail.

본 발명의 제조방법에 있어서는 먼저 표면에 도전막이 형성된 기판이 준비된다. 앞서 설명한 바와같이 일반적으로 기판으로서 유리판이 사용되고 또 도전막의 재료로서 In2O3, SnO2등의 도전성 금속산화물 또는 내염기성의 단체금속이 사용된다.In the manufacturing method of this invention, the board | substrate with which the conductive film was formed on the surface is prepared first. As described above, a glass plate is generally used as a substrate, and a conductive metal oxide such as In 2 O 3 , SnO 2 , or a base metal having a basic resistance is used as a material of the conductive film.

이들 도전성재료와 박막을 기판상에 형성하여 도전막으로 하는데는 증착법, 스퍼터링(sputtering)법등이 이용된다.A vapor deposition method, a sputtering method, etc. are used to form these electrically conductive materials and a thin film on a board | substrate, and to make a conductive film.

일반적으로 먼저 기판전면에 도전성재료의 박막이 형성되고, 그 후 포토레지스트 기술등에 의해서 박막이 정형되어 불필요 부분이 제거되어서 소망하는 형상의 도전막으로 된다.In general, a thin film of a conductive material is first formed on the front surface of a substrate, and then a thin film is shaped by photoresist technology or the like to remove unnecessary portions to form a conductive film of a desired shape.

다음에 상기 표면에 도전막이 형성된 기판상에 염기성 용액에 가용성인 재료로 이루어진 액정배향막이 형성된다.Next, a liquid crystal alignment film made of a material soluble in a basic solution is formed on the substrate on which the conductive film is formed on the surface.

종래 액정배허막에 적합한 유기재료 및 무기재료가 여러가지가 알려져 있으나 이들 재료중 염기성용액에 가용성인 것은 모두 본 발명의 제조방법에 사용할 수가 있다. 액정배향막에 사용되는 재료는 배향처리에 의해서 높은 액정배향성능이 부여될 수 있는 막을 제공하는 것이 필요하나 이에 덧붙여서 전기 절연성이 높은 막을 주는 것일것, 및 도전막이 형성된 기판과의 밀착성이 높은막을 주는것일것 등이 필요하다.Conventionally, various organic and inorganic materials suitable for the liquid crystal backing film are known, but any of those materials soluble in a basic solution can be used in the production method of the present invention. The material used for the liquid crystal alignment film needs to provide a film which can be provided with high liquid crystal alignment performance by the alignment treatment, but in addition to this, a film having high electrical insulation property and a film having high adhesion to the substrate on which the conductive film is formed are provided. I need to work.

이들 3가지 점에서 현재 가장 우수한 염기성용액에 가용성인 액정배향막재료는 폴리이미드수지 및 폴리파라반산 수지이다.At these three points, the liquid crystal alignment film materials which are soluble in the most basic solution at present are polyimide resins and polyparabanic acid resins.

따라서 본 발명의 제조방법에 있어서는 액정배향막의 재료로서 폴리이미드수지 및 폴리파라반산수지를 사용하는 것이 바람직하다.Therefore, in the manufacturing method of this invention, it is preferable to use polyimide resin and polyparabanic acid resin as a material of a liquid crystal aligning film.

액정배향막은 사용되는 재료에 따라서 증착법, 회전도포법, 오프셋인쇄법, 스프레이도포법등에 의해서 형성된다.The liquid crystal alignment film is formed by a vapor deposition method, a rotary coating method, an offset printing method, a spray coating method, or the like depending on the material used.

또 액정배향막은 일반적으로 50 내지 5000Å의 막두께로 형성된다.In addition, a liquid crystal aligning film is generally formed in 50-5000 kPa film thickness.

염기성용액에 가용성인 재료로 이루어진 액정배향막이 형성된후, 이 액정배향막상에 내염기성 레지스트잉크로 된 레지스트막이 소망하는 형상으로 형성된다.After the liquid crystal alignment film made of a soluble material is formed in the basic solution, a resist film made of a base resistive ink is formed on the liquid crystal alignment film in a desired shape.

염기성 레지스트 잉크는 액정배향막과의 밀착성이 지나치게 높지도 않으며 또 지나치게 낮지도 않은 레지스트막을 제공하는 것일 것이 필요하다.The basic resist ink needs to provide a resist film which is neither too high nor too low in adhesion with the liquid crystal alignment film.

이것은 레지스트막과 액정배향막과의 밀착성이 지나치게 높은 경우에는 에칭후 결정 배향막에서의 레지스트막의 제거가 곤란해지기 때문이며 또 레지스트막과 액정배향막과의 밀착성이 지나치게 낮은 경우에는 에칭중에 에칭액의 스매듬이 생기기 쉽게되기 때문이다.This is because when the adhesion between the resist film and the liquid crystal alignment film is too high, it is difficult to remove the resist film from the crystal alignment film after etching, and when the adhesion between the resist film and the liquid crystal alignment film is too low, a splatter of the etching solution occurs during etching. Because it becomes easy.

따라서 레지스트 잉크는 그 잉크에 의해서 형성되는 레지스트막과 액정배향막과의 밀착성을 고려하여 적의 선택된다.Therefore, the resist ink is appropriately selected in consideration of the adhesion between the resist film formed by the ink and the liquid crystal alignment film.

본 발명의 제조방법에 사용되는 내염기성 레지스트 잉크로서는 예를들면 타르. 에폭시수지 레지스트 잉크합성 또는 천연고무계화합물 레지스트 잉크, 폴리프로필렌수지 레지스트잉크, 폴리에틸렌수지 레지스트잉크등이 열거된다.As the base resist ink used in the production method of the present invention, for example, tar. Epoxy resin resist ink synthetic or natural rubber compound resist ink, polypropylene resin resist ink, polyethylene resin resist ink and the like.

상술과 같이 내염기성 레지스트잉크는 그 잉크에 의해서 형성되는 레지스트막과 액정배향막과의 밀착성을 고려하여 적의 선택되지만 상기 폴리이미드수지 또는 폴리파라반산수지로 된 액정배향막에 가장 적합한 내염기성 레지스트잉크는 타르. 에폭시계수지 레지스트잉크이다.As described above, the base resist ink is suitably selected in consideration of the adhesion between the resist film formed by the ink and the liquid crystal alignment film, but the base resist ink that is most suitable for the liquid crystal alignment film made of polyimide resin or polyparabanic acid resin is tar. . Epoxy resin resist ink.

이 타르. 에폭시계수지 레지스트잉크는 예를들면 프로토오크 340이라고 하는 상품명으로 일본에 있는 요시까와 가꼬오 주식회사에서 시판되고 있다.This tar. Epoxy resin resist inks are commercially available from Yoshikawa Kakoo Co., Ltd. in Japan under the trade name Protook 340.

염기성 레지스트잉크를 사용하여 액정배향막상에 레지스트막을 형성하는데는 소망하는 형상의 레지스트막이 소정위치에 형성되는 것이면 여하한 방법을 사용하더라도 좋으나 일반적으로 레지스트막은 스크리인 인쇄법에 의해서 인쇄도포 되는 것이 바람직하다.To form a resist film on the liquid crystal alignment film by using a basic resist ink, any method may be used as long as a resist film having a desired shape is formed at a predetermined position. However, in general, the resist film is preferably printed by screen printing. Do.

또 일반적으로 레지스트막은 5 내지 50μ의 막두께로 형성된다.In general, a resist film is formed with a film thickness of 5 to 50 mu.

상술과 같이 액정배향막상에 내염기성 레지스트잉크로된 소망하는 형상의 레지스트막이 형성된후, 레지스트막이 적층되어 있지 않은 부분의 액정배향막이 염기성 에칭액에 의해서 에칭 제거되고 레지스트막이 적층되어 있는 부분의 액정배향막만이 기판상에 잔류되게 된다. 이 에칭은 레지스트막이 설치된 전극판을 염기성 에칭액중에 침지하므로써 행하여진다.As described above, after a resist film having a desired shape made of a base resistive ink is formed on the liquid crystal alignment film, only the liquid crystal alignment film of the portion where the resist film is not laminated is etched away by the basic etching solution and the resist film is laminated. This remains on the substrate. This etching is performed by immersing the electrode plate provided with the resist film in basic etching liquid.

에칭시간, 에칭액의 온도등의 에칭조건은 정밀한 것이므로 양호한 에칭이 행하여지도록 이들 에칭조건이 엄밀하게 제어되지 않으면 안된다.The etching conditions such as the etching time and the temperature of the etching liquid are precise, so these etching conditions must be strictly controlled so that good etching can be performed.

염기성 에칭액은 액정배향막 재료를 고려하여 적의 선택된다.The basic etching solution is appropriately selected in consideration of the liquid crystal alignment film material.

예를들면 폴리이미드수지로 된 액정배향막에 적합한 염기성 에칭액으로서는 히드라진 수용액, 염기성 탈지용 세제(예를들면 오구노 제약제 에이스크리인)등을 들 수 있으며, 또 폴리파라반산수지로 된 액정배향막에 적합한 염기성 에칭액으로서는 암모니아수등을 들 수 있다.For example, a basic etching solution suitable for a liquid crystal alignment film made of a polyimide resin may include an aqueous hydrazine solution and a basic degreasing agent (for example, Ogino Pharmaceutical Inc.), and a liquid crystal alignment film made of a polyparabanic acid resin. Examples of suitable basic etching solutions include ammonia water and the like.

에칭후 전극판은 충분히 수세되고 염기성 에칭액이 완전히 제거된다. 더우기 레지스트막이 합성 또는 천연고무계 화합물 레지스트 잉크로 된 경우에는 수세된 전극판은 완전히 탈수되지 않으면 안된다.After etching, the electrode plate is sufficiently washed with water and the basic etching solution is completely removed. Furthermore, when the resist film is made of synthetic or natural rubber compound resist ink, the washed electrode plate must be completely dehydrated.

이것은 합성 또는 천연고무계 화합물 화합물 레지스트잉크로 된 레지스트막을 박리 제거하기 위한 박리제중에는 술폰산 화합물이 포함되고 있으나 물이 존재하는 경우 이 술폰산 화합물이 가수분해 되어서 황산을 발생하고 이 황산이 도전막 및 액정배향막에 나쁜 영향을 주기 때문이다.This is a sulfonic acid compound in the release agent for exfoliating and removing a resist film made of a synthetic or natural rubber compound compound resist ink, but in the presence of water, the sulfonic acid compound is hydrolyzed to generate sulfuric acid, which is applied to the conductive film and the liquid crystal alignment film. Because it has a bad effect.

상술한 염기성 에칭액에 의한 에칭후, 레지스트막이 제거된다.After etching with the basic etching solution described above, the resist film is removed.

일반적으로 이 레지스트막의 제거는 전극판을 박리제중에 침지하던가 또는 레지스트막에 박리제를 가압스프레이 하므로써 행하여진다. 전극판을 박리제중에 침지하므로써 레지스트막을 제거하는 경우에는 박리조를 2조 이상 설치하여 이들 박리조에 전극판을 순차적으로 보내면서 레지스트막을 박리제거하는 것이 액정배향막을 청결하게 유지하는데 바람직하다.Generally, this resist film is removed by immersing the electrode plate in the release agent or by spraying the release agent on the resist film. When removing a resist film by immersing an electrode plate in a peeling agent, it is preferable to provide 2 or more sets of peeling tanks, and to remove and remove a resist film, sending an electrode plate to these peeling tanks sequentially, in order to keep a liquid crystal aligning film clean.

또 이 경우 초음파등을 사용하여 박리제를 교반하는 것이 바람직하다.In this case, it is preferable to use a ultrasonic wave to stir the release agent.

박리제는 레지스트막의 재료(즉 내염기성 레지스트잉크)에 따라서 적의 선택된다.The release agent is suitably selected depending on the material of the resist film (ie, base resist ink).

예를들면 타르. 에폭시계수지 레지스트잉크로 된 레지스트막에 적합한 박리제로서는 크실렌등의 방광족 유기용계, 트리클렌, 메틸렌클로라이드등의 할로겐화 탄화수소 유기용제등을 들 수 있다.Eg tar. Suitable release agents for the resist film made of an epoxy resin resist ink include halogenated hydrocarbon organic solvents such as bladder-based organic solvents such as xylene, tristyrene, and methylene chloride.

레지스트막의 제거후, 전극판은 알코올등의 용제로 세척되어 건조된다. 이와같이하여 소망하는 형상으로 정형된 액정배향막을 가진 전극판이 얻어진다.After removal of the resist film, the electrode plate is washed with a solvent such as alcohol and dried. In this way, an electrode plate having a liquid crystal alignment film shaped into a desired shape is obtained.

이상의 설명에서 명백한 바와같이 본 발명의 제조방법은 포토레지스트 기술이 이용되는 종래법에 있어서 필수적인 노광 및 현상공정을 필요로 하지 않으며 따라서 본 발명의 제조방법에 의하면 종래법 보다도 보다 간단하게 따라서 보다 저코스트로 소망하는 형상으로 정형된 액정배향막을 가진 전극판을 얻을 수가 있다.As is apparent from the above description, the manufacturing method of the present invention does not require the exposure and development steps necessary for the conventional method in which photoresist technology is used, and accordingly, the manufacturing method of the present invention is simpler and therefore lower cost than the conventional method. An electrode plate having a liquid crystal alignment film shaped into a desired shape can be obtained.

또 본 발명의 제조방법에 의하면 종래법과 마찬가지로 균일한 액정배향막을 형성할 수가 있으며 따라서 본 발명의 제조방법에 의해서 얻어진 전극판이 사용된 액정표시체에 있어서는, 액정재료는 양호한 배향상태를 나타낸다.In addition, according to the manufacturing method of the present invention, it is possible to form a uniform liquid crystal alignment film as in the conventional method. Therefore, in the liquid crystal display body in which the electrode plate obtained by the manufacturing method of the present invention is used, the liquid crystal material exhibits a good alignment state.

또한 본 발명의 제조방법에 의하면 종래법과 마찬가지로 소망하는 형상의 액정배향막을 소정의 위치에 정확히 형성시킬 수가 있다.In addition, according to the manufacturing method of the present invention, a liquid crystal alignment film having a desired shape can be accurately formed at a predetermined position as in the conventional method.

본 발명의 제조방법에 의해서 얻어진 전극판의 액정배향막의 위치의 어긋남은 매우 근소하여 통상 ±0.1mm이내이다.The deviation of the position of the liquid crystal aligning film of the electrode plate obtained by the manufacturing method of this invention is very small, and is usually within ± 0.1 mm.

이상 설명한 바와같이 본 발명은 균일한 막두께를 가진 소망하는 형상의 액정배향막이 소정위치에 정확히 설치된 액정표시체용 전극판을 간단히 따라서 저 코스트로 제조할 수 있는 것이다.As described above, the present invention can be produced at low cost by simply following the electrode plate for a liquid crystal display body in which a liquid crystal alignment film having a desired shape having a uniform film thickness is correctly installed at a predetermined position.

또 부수적으로 본 발명은 액정표시체의 품질을 향상시키며, 액정표시체의 품질을 균일화시키고 또 액정표시체의 제조에 있어서의 생산효율을 향상시키는 것이다. 이와같이 본 발명의 공업적 이용가치는 매우 큰 것이다.Incidentally, the present invention improves the quality of the liquid crystal display, makes the quality of the liquid crystal display uniform, and improves the production efficiency in manufacturing the liquid crystal display. Thus, the industrial use value of the present invention is very large.

다음에 실시예에 의해서 본 발명을 설명한다.Next, an Example demonstrates this invention.

[실시예 1]Example 1

액정표시체 10개분 20매의 유리기판이 일체로 된 유리기판을 준비하였다. 이 유리기판의 표면에는 1개의 액정표시체를 구성하는 서로 형상이 다른 한쌍의 도전막(전극)이 고호로 2열에걸쳐서 형성되어 있다. 이 유리기판상에 폴리이미드의 선구체인 폴리아믹산의 1.5% 디메틸 아세트아미드용액을 회전도포법에 의해서 도포하여 도막을 250℃에서 1시간 가열하여 중합시켜서 건조하였다.A glass substrate in which 20 glass substrates for 10 liquid crystal displays were integrated was prepared. On the surface of this glass substrate, a pair of conductive films (electrodes) having different shapes forming one liquid crystal display body are formed in two rows over the arc. A 1.5% dimethyl acetamide solution of polyamic acid, a precursor of polyimide, was applied onto the glass substrate by a rotary coating method, and the coating film was heated at 250 ° C. for 1 hour to polymerize and dry.

이와같이하여 유리기판 전면에 폴리이미드수지로 된 액정배향막을 형성시켰다.In this way, a liquid crystal alignment film made of polyimide resin was formed on the entire glass substrate.

그후 325메시의 스테인레스강의 망을 사용한 스크리인 판(板)을 사용하여 액정배향막의 표시에 필요한 부분에 타르. 에폭시계수지 레지스트잉크(요시까와 가꼬오제프로토오크 340)를 인쇄도 포하여 110℃에서 10분간 건조시켜서 레지스트막을 형성시켰다.Thereafter, using a screen made of 325 mesh stainless steel screen, tar was used to display the liquid crystal alignment film. Epoxy resin resist ink (Yoshika Chemical Co., Ltd. 340) was also printed and dried at 110 ° C for 10 minutes to form a resist film.

다음에 레지스트막을 형성시킨 유리기판을 35℃의 60% 히드라진 수용액에 교반하면서 1분간 침지하여 레지스트막이 적층되어 있지 않은 부분의 액정배향막을 에칭제거 하였다.Subsequently, the glass substrate on which the resist film was formed was immersed for 1 minute while stirring in a 60% aqueous solution of hydrazine at 35 ° C to etch away the liquid crystal alignment film of the portion where the resist film was not laminated.

에칭후 즉시 기판을 수세하여 잔류 히드라진 수용액을 제거하였다. 충분히 수세를 한후 기판을 이소프로필 알코올중에 침지하여 물을 치환하고 그후 기판을 초음파 교반기를 갖춘 3조의 트리클렌조 각각에 3분간씩 침지하여 레지스트충을 박리제거하였다.Immediately after etching, the substrate was washed with water to remove residual aqueous hydrazine solution. After sufficiently washing with water, the substrate was immersed in isopropyl alcohol to replace water, and then, the substrate was immersed in each of three sets of tricleene baths equipped with an ultrasonic stirrer for 3 minutes to remove and remove the resist.

그후 기판을 이소프로필알코올 증기조에 넣고 증기세척 및 건조를 시켰다.Subsequently, the substrate was placed in an isopropyl alcohol steam bath, followed by steam washing and drying.

상술과 같은 액정배향막 정형처리를 한 유리기판을 일정방향으로 연마하므로써 배향처리하고 액정배향막에 액정배향성능을 부여하였다.The glass substrate subjected to the liquid crystal alignment film shaping treatment as described above was polished in a predetermined direction to align the alignment and impart liquid crystal alignment performance to the liquid crystal alignment film.

그후 유리기판을 절단하여 액정표시체 10개분 20매의 전극판을 얻고 이들 전극판을 사용하여 통상의 방법으로 10개의 액정표시체를 제조하였다.Thereafter, the glass substrates were cut to obtain 20 electrode plates for 10 liquid crystal displays, and 10 liquid crystal displays were manufactured by the conventional method using these electrode plates.

얻어진 액정표시체의 어느 것에 있어서도 액정재료는 양호한 배향상태를 나타냈다. 또 MIL 표준시험법 202D-106C에 따라서 각 액정표시체를 온습도 사이클 시험바 10사이클 경과한 후라도 액정표시체에 하등의 이상도 인정할 수가 없었다.In all of the obtained liquid crystal displays, the liquid crystal material showed the favorable orientation state. In addition, according to MIL Standard Test Method 202D-106C, even after 10 cycles of the temperature-humidity cycle test bar of each liquid crystal display, no abnormality was recognized in the liquid crystal display.

[실시예 2]Example 2

실시예 1과 같은 유기기판을 준비하였다.An organic substrate similar to Example 1 was prepared.

이 유리기판상에 폴리파라반산수지의 3% 디메틸포름아미드용액을 회전도포법에 의하여 도포하고 도막을 200℃에서 30분간 가열하여 건조시켰다. 이와같이하여 유리기판 전면에 폴리파라반산수지로 된 액정배향막을 형성하였다.On this glass substrate, a 3% dimethylformamide solution of polyparabanic acid resin was applied by a rotary coating method, and the coating film was heated at 200 ° C. for 30 minutes to dry. In this way, a liquid crystal alignment film made of polyparabanic acid resin was formed on the entire glass substrate.

그후 325메시의 스테인레스강의 망을 사용한 스크리인판을 사용하여 액정배향막의 표시에 필요한 부분에 타르. 에폭시계수지 레지스트잉크(요시까와 가꼬오제 프로토오크 340)를 인쇄도포하여 110℃에서 10분간 건조시켜서 레지스트막을 형성시켰다.Thereafter, screening plate using a mesh of 325 mesh stainless steel was used to tar the necessary portions for the display of the liquid crystal alignment film. Epoxy resin resist ink (Protook 340, manufactured by Yoshikawa Kakoo Co., Ltd.) was printed and dried at 110 ° C for 10 minutes to form a resist film.

다음에 레지스트막을 형성시킨 유리기판을 35℃의 10% 암모니아수중에서 교반하면서 2분간 침지하고 레지스트막이 적층되어 있지 않은 부분의 액정배향막을 에칭제거하였다.Next, the glass substrate on which the resist film was formed was immersed for 2 minutes while stirring in 10% ammonia water at 35 ° C, and the liquid crystal alignment film of the portion where the resist film was not laminated was removed.

에칭후 즉시 기판을 수세하여 잔류 암모니아수를 제거하였다.Immediately after etching, the substrate was washed with water to remove residual ammonia water.

충분히 수세를 한후 기판을 이소프로필 알코올중 침지하여 물을 치환하고 그후 기판을 초음파교반기를 갖춘 3조의 트리클렌조 각각에 3분간씩 레지스트층을 박리제거하였다. 그후 기판을 이소프로필 알코올 중기조에 넣어서 증기세척 및 건조를 시켰다.After sufficiently washing with water, the substrate was immersed in isopropyl alcohol to replace water, and then, the substrate was peeled off for 3 minutes in each of three sets of triclenometers equipped with an ultrasonic stirrer. Subsequently, the substrate was placed in an isopropyl alcohol medium tank for steam washing and drying.

상술과 같은 액정배향막 정형처리를 한 유리기판을 일정방향으로 연마하므로써 배향처리하고, 액정배향막에 액정배향성능을 부여하였다.The glass substrate subjected to the liquid crystal alignment film shaping treatment as described above was polished in a predetermined direction to align the liquid substrate, thereby providing liquid crystal alignment performance to the liquid crystal alignment film.

그후 유리기판을 절단하여 액정표시체 10개분 20매의 전극판을 얻었으며, 이들 전극판을 사용하여 통상의 방법으로 10개의 액정표시체를 제조하였다.Thereafter, the glass substrate was cut to obtain an electrode plate of 20 sheets for 10 liquid crystal displays, and 10 liquid crystal displays were manufactured by the conventional method using these electrode plates.

얻어진 액정표시체 어느것에 있어서나 액정재료는 양호한 배향상태를 나타냈다.In all of the obtained liquid crystal displays, the liquid crystal material showed the favorable orientation state.

또 MIL 표준시험법 202D-106C에 따라서 각 액정표시체를 온습도 사이클시험을 한바, 10사이클 경과한 후에도 액정표시체에 아무런 이상도 발견되지 않았다.In addition, according to the MIL standard test method 202D-106C, each liquid crystal display was subjected to a temperature and humidity cycle test. After 10 cycles, no abnormality was found in the liquid crystal display.

Claims (1)

표면에 도전막이 형성된 기판상에 다시 액정배향막을 형성하여 이루어진 액정표시체용 전극판의 제조방법에 있어서,In the manufacturing method of the electrode plate for liquid crystal display formed by forming a liquid crystal aligning film again on the board | substrate with which the conductive film was formed in the surface, I) 표면에 상기 도전막이 형성된 상기 기판상에 염기 성용액 가용(可溶)의 재료로 된 상기액정배향막을 형성하고,I) forming the liquid crystal alignment film made of a basic solution soluble material on the substrate having the conductive film formed on the surface thereof; II) 이 액정배향막상에 내염기성 레지스트 잉크로 된 레지스트막을 소망하는 형상으로 형성하고,II) A resist film made of base resist ink is formed on the liquid crystal alignment film in a desired shape, III) 염기성에 칭액에 의해서 상기 레지스트막이 적층되어 있지 않은 부분의 상기 액정배향막을 제거함으로써 상기 액정배향막을 상기 소망하는 형상으로 정형하고 그런후,III) The liquid crystal aligning film is shaped into the desired shape by removing the liquid crystal aligning film in a portion where the resist film is not laminated by basic etching solution, and then, IV) 상기 레지스트막을 제거하는 것을 특징으로 하는 제조방법.IV) The manufacturing method characterized by removing the resist film.
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